【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及拋光設備,尤其是涉及一種拋光液添加裝置。
技術介紹
化學機械拋光技術(ChemicalMechanical Polishing,簡稱 CMP)是 1965 年由Monsanto提出來的,在磨盤和研磨料的作用下,先通過拋光衆料的化學作用使材料表面薄層軟化,隨后在磨料、磨盤及拋光布的機械作用下將其磨掉并帶走,從而實現平坦化。主要應用于超大規模集成電路(ULSI)制造中,已成為半導體加工行業實現硅片全局平面化的實用技術和核心技術([I]董偉.化學機械拋光技術研究現狀及進展[J].制造技術與機床,2012,(07) :93-97.)。CMP拋光加工過程中需要添加拋光液,目前的拋光液添加方法都是從拋光機旁邊引出兩根管道并置于拋光墊上方,一根用來添加蒸餾水,另一根用來添加拋光液。使用該方法,會導致拋光時拋光液無法均勻分布在工件的表面及其附近區域,影響工件的表面質量。由于在拋光過程中,工件夾具旋轉,一部分拋光液在得到利用之前會被夾具旋轉時所產生的離心力甩出去,造成了極大的浪費。相比較而言,如果采用從工件夾具周圍向工件表面噴射拋光液的方法,將大大提高拋光液的利用效率及拋光效果。
技術實現思路
本專利技術針對傳統拋光液添加方法造成拋光液極大浪費的問題,提供一種能夠提高拋光液的利用效率,減少花費及提高拋光效果的拋光液添加裝置。本專利技術包括工件夾具連接座、工件夾具、上端蓋、下端蓋、箱體和電子節流閥;夾具連接座外接拋光機轉軸,夾具連接座與工件夾具上端螺接,工件夾具內設有引流槽,引流槽進口露于工件夾具外表面,引流槽出口設有至少3個,各引流槽出口分布在工件夾具底表面;箱 ...
【技術保護點】
一種拋光液添加裝置,其特征在于包括工件夾具連接座、工件夾具、上端蓋、下端蓋、箱體和電子節流閥;夾具連接座外接拋光機轉軸,夾具連接座與工件夾具上端螺接,工件夾具內設有引流槽,引流槽進口露于工件夾具外表面,引流槽出口設有至少3個,各引流槽出口分布在工件夾具底表面;箱體套在工件夾具外部,上端蓋和下端蓋分別固于箱體的上端面和下端面,箱體壁上設有通液孔,電子節流閥設于箱體外壁上,電子節流閥出液口與箱體壁上的通液孔及引流槽連通,工件夾具通過軸承與箱體轉動配合。
【技術特征摘要】
1.一種拋光液添加裝置,其特征在于包括工件夾具連接座、工件夾具、上端蓋、下端蓋、 箱體和電子節流閥;夾具連接座外接拋光機轉軸,夾具連接座與工件夾具上端螺接,工件夾具內設有引流槽,引流槽進口露于工件夾具外表面,引流槽出口設有至少3個,各引流槽出口分布在工件夾具底表面;箱體套在工件夾具外部,上端蓋和下端蓋分別固于箱體的上端面和下端面,箱體壁上設有通液孔,電子節流閥設于箱體外壁上,電子節流閥出液口與箱體壁上的通液孔及引流槽連通,工件夾具通過軸...
【專利技術屬性】
技術研發人員:郭隱彪,吳沿鵬,楊煒,梁愷,葉卉,
申請(專利權)人:廈門大學,
類型:發明
國別省市:
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