本發(fā)明專利技術提供了一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備，包括殼體及靶材，還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器，該殼體具有密封的PVD腔體，PVD腔體內(nèi)安裝有靶材載舟，靶材載舟具有用于放置靶材的容置槽，待鍍膜材料位于容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；微波發(fā)生器的本體安裝于PVD腔體外，其微波發(fā)射喇叭設于PVD腔體內(nèi)；PVD腔體內(nèi)橫設有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)，該金屬網(wǎng)位于靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。PVD腔體內(nèi)安裝有用于驅(qū)動靶材載舟沿待鍍膜材料表面平行移動的移動裝置。本發(fā)明專利技術加熱效率高、鍍膜效率高、容易控制加熱溫度、不易損壞待鍍膜材料、制造成本低廉，本發(fā)明專利技術所鍍的膜厚均勻、鍍膜表面光滑。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術屬于物理氣相沉積
，尤其涉及一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備。
技術介紹
物理氣相沉積(英文Physical Vapor Deposition,簡稱PVD)是一種工業(yè)制造上的工藝，即真空鍍膜，多用在鈑金件、蝕刻件、擠壓件、金屬射出成型(MIM)、粉末射出成型(PM)、機加件、焊接件等零件的工藝上。物理氣相沉積法是利用高溫熱源將原料加熱至高溫，使之氣化或形成等離子體，然后在基體(即待鍍膜材料)上冷卻凝聚成各種形態(tài)的材料(如單晶、薄I吳、晶粒等)。在物理氣相沉積中，熱蒸鍍法及濺鍍法是工業(yè)界廣泛采用的鍍膜技術，其中熱蒸鍍法是這項技術的核心。熱蒸鍍技術原則上利用高溫來熔融靶材(即鍍膜原料)，使其由固態(tài)直接升華到氣態(tài)，氣態(tài)的靶材原子或分子因加溫而激烈加速運動通過真空腔體，在基板上凝結(jié)沉積成薄膜。在這個過程中，真空是一個很重要的因素，若腔體中充滿了空氣分子，則靶材原子會因在行進時不斷地碰撞空氣分子而偏離該行進的方向，造成大多數(shù)的靶材原子無法撞擊到基板的表面，無法達到鍍膜的效果。將原料加熱到高溫蒸發(fā)升華是熱蒸鍍技術的核心。現(xiàn)有技術中，靶材(即原料)的加熱方式一般有以下幾種熱阻式加熱法、電子槍加熱法以及激光加熱法。熱阻式加熱法是通過與靶材連接的電阻所 產(chǎn)生的熱使靶材升華，這種方法加熱時電阻的材料也會隨之蒸發(fā)，影響鍍膜的純度，而且這種方法加熱速度慢，不易控制溫度。電子槍加熱法是通過高速電子撞擊靶材，將動能轉(zhuǎn)化為內(nèi)能來實現(xiàn)加熱效果的，但這種方法若控制不好則容易導致靶材離子化，導致凝結(jié)沉積于待鍍膜材料上的鍍膜積聚電荷，損壞鍍膜層的質(zhì)量，而且這種方法所消耗的電能也很大。激光加熱法是通過聚焦的激光對靶材進行加熱，這種方法加熱效率高、污染低，但其制造成本也非常高。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術的目的在于克服現(xiàn)有技術之缺陷，提供了一種加熱效率高、鍍膜效率高、容易控制加熱溫度、不易損壞待鍍膜材料、制造成本低廉的微波激發(fā)PVD鍍膜設備，該設備所鍍的膜厚均勻、鍍膜表面光滑。本專利技術是這樣實現(xiàn)的，一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備，包括殼體及靶材，還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器，所述殼體具有密封的PVD腔體，所述PVD腔體內(nèi)安裝有靶材載舟，所述靶材載舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待鍍膜材料位于所述容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；所述微波發(fā)生器的本體安裝于所述PVD腔體外，其微波發(fā)射喇叭設于所述PVD腔體內(nèi)；所述PVD腔體內(nèi)橫設有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)，該金屬網(wǎng)位于所述靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。進一步地，所述PVD腔體內(nèi)安裝有用于驅(qū)動所述靶材載舟沿所述待鍍膜材料表面平行移動的移動裝置。更進一步地，所述移動裝置包括具有螺紋的絲桿及驅(qū)動該絲桿轉(zhuǎn)動的第一電機，所述靶材載舟開設有與所述絲桿的螺紋適配的螺孔，所述絲桿穿設于所述螺孔內(nèi)。進一步地，所述殼體開設有供所述待鍍膜材料進入所述PVD腔體的進料口，所述殼體還開設有供所述待鍍膜材料離開所述PVD腔體的出料口，所述進料口與所述出料口相對設置且均安裝有密封裝置。具體地，所述密封裝置包括彈性按壓于所述待鍍膜材料一面的第一滾筒及彈性按壓于所述待鍍膜材料另一面的第二滾筒。進一步地，所述密封裝置還包括驅(qū)動所述第一滾筒或所述第二滾筒轉(zhuǎn)動的第二電機。更進一步地，所述PVD腔體內(nèi)安裝有水冷散熱裝置、用于檢測待鍍膜材料上鍍膜厚度的膜厚監(jiān)控裝置、用于監(jiān)控所述PVD腔體內(nèi)部環(huán)境的視頻監(jiān)控裝置以及測溫裝置。具體地，所述殼體設有向所述水冷散熱裝置注入冷卻液的入水口以及排出冷卻液的出水口。優(yōu)選地，所述PVD腔體內(nèi)安裝有四組所述水冷散熱裝置。進一步地，所述視頻監(jiān)控裝置包括視頻鏡頭，所述殼體開設有用于安裝所述視頻鏡頭的鏡頭安裝孔。本專利技術通過微波對PVD腔體和承載有靶材的靶材載舟進行加熱，靶材載舟將熱傳遞給靶材，靶材吸熱后升華，其加熱效率高，鍍膜效率也隨之提高；又由于微波發(fā)生器容易調(diào)節(jié)微波功率，因此可靈活地調(diào)節(jié)加熱速度和溫度，保證鍍膜厚度的準確性，所鍍的膜厚均勻、鍍膜表面光滑。再者由于微波發(fā)生器的成本低，本專利技術的制造成本也隨之降低。另外，PVD腔體內(nèi)橫設位于靶 材載舟與待鍍膜材料之間的金屬網(wǎng)可屏蔽微波，微波被金屬網(wǎng)屏蔽后無法到達待鍍膜材料上，可防止待鍍膜材料被微波加熱而燒壞。附圖說明圖1為本專利技術實施例中微波激發(fā)PVD鍍膜設備的立體示意圖；圖2為本專利技術實施例中微波激發(fā)PVD鍍膜設備的內(nèi)部示意圖；圖3為圖1中A-A的剖視圖，即本專利技術實施例中微波激發(fā)PVD鍍膜設備后視剖視圖；圖4為本專利技術實施例中靶材載舟的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本專利技術實施例中金屬網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本專利技術實施例中密封裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施例方式為了使本專利技術的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本專利技術進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。參見圖1與圖2，本專利技術實施例提供了一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備，包括殼體I及靶材，還包括具有微波發(fā)射喇叭42的微波發(fā)生器4，所述殼體I具有密封的PVD腔體11(參見圖2)，所述PVD腔體11內(nèi)安裝有靶材載舟2，所述靶材載舟2具有用于放置所述靶材的容置槽21 (參見圖4)，待鍍膜材料3位于所述容置槽21上方且其需鍍膜的一面與之相對；所述微波發(fā)生器的本體41安裝于所述PVD腔體11外，其微波發(fā)射喇叭42設于所述PVD腔體11內(nèi)；所述PVD腔體11內(nèi)橫設有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)5，該金屬網(wǎng)5位于所述靶材載舟2與所述待鍍膜材料3之間。進行鍍膜前需要先排出PVD腔體11內(nèi)的氣體(殼體I上設有用于抽出氣體的抽氣口 15)。然后開啟微波發(fā)生器4對PVD腔體11和靶材載舟2進行加熱，需要說明的是，PVD腔體11內(nèi)壁采用導電材料制作，以屏蔽微波，防止微波外泄。靶材載舟2被加熱后，其熱量將會傳遞給靶材，靶材受熱升華為氣態(tài)原子或分子，氣態(tài)原子或分子在PVD腔體內(nèi)激烈運動，最終撞擊于待鍍膜材料3表面上凝結(jié)沉積成薄膜。由于本專利技術通過微波進行加熱，其加熱效率高，鍍膜效率也隨之提高；又由于微波發(fā)生器容易調(diào)節(jié)微波加熱功率，因此可靈活地調(diào)節(jié)加熱速度和溫度，保證鍍膜厚度的準確性，所鍍的膜厚均勻、鍍膜表面光滑。再者，由于微波發(fā)生器的成本低，因此，本專利技術的制造成本也隨之降低。PVD腔體11內(nèi)橫設位于祀材載舟2與待鍍膜材料3之間的金屬網(wǎng)5可屏蔽微波,微波被金屬網(wǎng)5屏蔽后無法到達待鍍膜材料3上，可防止待鍍膜材料被微波加熱而燒壞。其中，圖5所示的金屬網(wǎng)5的結(jié)構(gòu)為本專利技術的一種優(yōu)選結(jié)構(gòu)，該金屬網(wǎng)5的網(wǎng)格交錯設置，可進一步保證鍍膜更均勻。參見圖2，所述PVD腔體11內(nèi)安裝有用于驅(qū)動所述靶材載舟2沿所述待鍍膜材料3表面平行移動的移動裝置6。對于寬度較大的待鍍膜材料，安裝于移動裝置6上的靶材載舟2可在待鍍膜材料3表面的不同位置來回移動，使得氣態(tài)的靶材原子或分子可凝結(jié)沉積于待鍍膜材料表面的不同位置。參見圖2，所述移動裝置6包括具有螺紋的絲桿61及驅(qū)動該絲桿61轉(zhuǎn)動的第一電機62，所述靶材載舟2開設有與所述絲桿61的螺紋適配的螺孔22(參見圖4)，所述絲桿61穿設于所述螺孔22內(nèi)。絲桿61轉(zhuǎn)動時可驅(qū)使靶材載舟2沿絲桿61的軸向移動，絲桿61不但可以使得靶材載舟2快速移動，而且移動過程中平穩(wěn)，防止鍍膜過程中由于靶材載舟2本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備，包括殼體及靶材，其特征在于：還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器，所述殼體具有密封的PVD腔體，所述PVD腔體內(nèi)安裝有靶材載舟，所述靶材載舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待鍍膜材料位于所述容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；所述微波發(fā)生器的本體安裝于所述PVD腔體外，其微波發(fā)射喇叭設于所述PVD腔體內(nèi)；所述PVD腔體內(nèi)橫設有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)，該金屬網(wǎng)位于所述靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。
【技術特征摘要】
1.一種微波激發(fā)PVD鍍膜設備，包括殼體及靶材，其特征在于還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器，所述殼體具有密封的PVD腔體，所述PVD腔體內(nèi)安裝有靶材載舟，所述靶材載舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待鍍膜材料位于所述容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；所述微波發(fā)生器的本體安裝于所述PVD腔體外，其微波發(fā)射喇叭設于所述PVD 腔體內(nèi)；所述PVD腔體內(nèi)橫設有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)，該金屬網(wǎng)位于所述靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。2.如權(quán)利要求1所述的微波激發(fā)PVD鍍膜設備，其特征在于所述PVD腔體內(nèi)安裝有用于驅(qū)動所述靶材載舟沿所述待鍍膜材料表面平行移動的移動裝置。3.如權(quán)利要求2所述的微波激發(fā)PVD鍍膜設備，其特征在于所述移動裝置包括具有螺紋的絲桿及驅(qū)動該絲桿轉(zhuǎn)動的第一電機，所述靶材載舟開設有與所述絲桿的螺紋適配的螺孔，所述絲桿穿設于所述螺孔內(nèi)。4.如權(quán)利要求1所述的微波激發(fā)PVD鍍膜設備，其特征在于所述殼體開設有供所述待鍍膜材料進入所述PVD腔體的進料口，所述殼體還開設有供所述待鍍膜材料離開所述 PV...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：王奉瑾，
申請(專利權(quán))人：王奉瑾，
類型：發(fā)明
國別省市：
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