【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種夾持機(jī)構(gòu),更具體地涉及一種激光匯聚原子沉積時(shí)固定基片的夾持機(jī)構(gòu)。
技術(shù)介紹
:激光匯聚原子沉積技術(shù)是一種納米制造技術(shù),用于制造間距為λ /n的納米結(jié)構(gòu)陣列。其中λ是原子躍遷頻率V對應(yīng)的波長(λ = c/v, C為光速)。激光匯聚原子沉積技術(shù)所能制造的最簡單的納米結(jié)構(gòu)為間距為λ/2的納米條紋陣列。就是令一束準(zhǔn)直過的原子束垂直穿過一個(gè)激光駐波場。當(dāng)激光頻率大于原子躍遷頻率時(shí),原子向駐波場的波節(jié)處匯聚。相反,當(dāng)激光頻率小于原子躍遷頻率時(shí),原子向駐波場的波峰處匯聚。匯聚后的原子堆積在基片上,形成納米條紋陣列。進(jìn)行激光匯聚原子沉積時(shí),基片表面必須與駐波場平行。為此,目前公知的結(jié)構(gòu)是如圖1所示;用一束基膜激光射向一平面反射鏡Α,當(dāng)入射光與反射光重合時(shí),即形成激光駐波場B。該駐波場B與平面反射鏡A的表面垂直。基片C的表面與駐波場B的平行關(guān)系通過一個(gè)直角棱鏡D來實(shí)現(xiàn)。直角棱鏡D的一個(gè)直角面與平面反射鏡A粘合。則直角棱鏡D的另一個(gè)直角面與平面反射鏡A的表面垂直,同時(shí)與駐波場B平行。該直角棱鏡D的直角面作為安裝基片C的參考面,基片C貼合在直角棱鏡D的參考面上(如圖1所示)。準(zhǔn)之后的原子束E與駐波場B垂直。基片C的材料一般為硅、鈦藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦等。基片尺寸一般長為10mm、寬為3mm、厚為0.5mm,基片與直角棱鏡的貼合大都采用螺釘擰緊壓片或粘結(jié)劑粘合的方法相固定。如果采用螺釘擰緊壓片,則夾持結(jié)構(gòu)相對復(fù)雜,裝配也不方便。此外,原子匯聚沉積實(shí)驗(yàn)要在超高真空環(huán)境中進(jìn)行,真空度需達(dá)到10_5Pa。夾持結(jié)構(gòu)復(fù)雜、使用螺釘都將增加抽真空的難度。如果使用粘結(jié)劑粘 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種夾持機(jī)構(gòu),主要包括:一S形的簧片,簧片的底端為平面,簧片的中部連續(xù)形變形成第一彎曲部和第二彎曲部;該平面粘貼在直角棱鏡的參考面上,利用該第一彎曲部形變產(chǎn)生的彈力,并通過第二彎曲部將基片壓緊在參考面的表面。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種夾持機(jī)構(gòu),王要包括: 一 S形的簧片,簧片的底端為平面,簧片的中部連續(xù)形變形成第一彎曲部和第二彎曲部; 該平面粘貼在直角棱鏡的參考面上,利用該第一彎曲部形變產(chǎn)生的彈力,并通過第二彎曲...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:殷聰,錢進(jìn),石春英,劉秀英,劉忠有,張小平,王捍平,蔡山,
申請(專利權(quán))人:中國計(jì)量科學(xué)研究院,
類型:發(fā)明
國別省市:
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