散熱裝置制造方法及圖紙

一種散熱裝置，系包括一第一板體及一第二板體，該第一板體具有一第一側(cè)面及一第二側(cè)面，該第二側(cè)面上形成有一粗糙結(jié)構(gòu)，該第二板體具有一第三側(cè)面及一第四側(cè)面，該第四側(cè)面系蓋合相對該第二側(cè)面，并共同界定一腔室并填充有一工作流體，前述粗糙結(jié)構(gòu)上更可披覆有一鍍膜層；透過所述粗糙結(jié)構(gòu)及鍍膜層之設(shè)置可減少成本并降低整體熱阻之效果者。（*該技術(shù)在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)是有關(guān)于一種散熱裝置，尤指一種可減少成本并大幅降低整體熱阻之散熱裝置。
技術(shù)介紹
隨著科技產(chǎn)業(yè)快速的進步，電子裝置的功能也愈來愈強大，例如中央處里器(CentralProcessing Unit, CPU)、芯片組或顯示單元的電子組件指令周期也隨著增長,造成電子組件單位時間所產(chǎn)生的熱量就會相對提高；因此，若電子組件所散發(fā)出的熱量無法及時散熱，就會影響電子裝置整體的運作，或?qū)е码娮咏M件的損毀。·一般業(yè)界采用的電子組件散熱裝置大部分透過如風(fēng)扇、散熱器或是熱管等散熱組件進行散熱，并藉由散熱器接觸熱源，再透過熱管將熱傳道至遠程散熱，或由風(fēng)扇強制引導(dǎo)氣流對該散熱器強制散熱，針對空間較狹窄或面積較大之熱源則選擇以均溫板作為導(dǎo)熱組件作為傳導(dǎo)熱源之使用。傳統(tǒng)均溫板系透過以兩片板材對應(yīng)蓋合所制成，該板材的相對應(yīng)側(cè)系設(shè)置有溝槽及毛細結(jié)構(gòu)(如Mesh、燒結(jié)體)之中任一或其任一之相加總，將該等板材對應(yīng)蓋合形成一密閉腔室，該密閉腔室呈真空狀態(tài)并其內(nèi)部填充有一工作流體，而為了增加毛細極限，利用銅柱coating燒結(jié)、燒結(jié)柱、發(fā)泡柱等毛細結(jié)構(gòu)用以支撐作為回流道，當前述均溫板內(nèi)之工作流體由蒸發(fā)區(qū)受熱產(chǎn)生蒸發(fā)，工作流體由液態(tài)轉(zhuǎn)換為汽態(tài)，汽態(tài)之工作流體至均溫板之冷凝區(qū)后由汽態(tài)冷凝轉(zhuǎn)換為液態(tài)，再透過銅柱回流至蒸發(fā)區(qū)繼續(xù)循環(huán)作用，汽態(tài)之工作流體在該冷凝區(qū)冷凝成液態(tài)小水珠狀后，因重力或毛細作用之關(guān)系使得工作流體可回流至蒸發(fā)區(qū)。但由于傳統(tǒng)均溫板因其工作流體之回流速度太慢，易生空燒或均溫不佳，以致無法使工作流體有效的進行汽液變化之熱交換，其均溫效果不彰顯，因此在設(shè)計上，若以增加毛細結(jié)構(gòu)對工作流體的毛細吸力之考慮，將可加速冷卻之工作流體的回流(吸)力，大幅的提高毛細力進而有效提升均溫板的熱傳導(dǎo)能力，但習(xí)知上毛細吸力及流體阻力卻為兩個相互沖突的設(shè)計因素:若僅考慮提升毛細吸力，需提供孔隙較小的毛細結(jié)構(gòu)，但此小孔隙卻提供較大流體阻力而阻礙了工作流體的回流作用；若僅考慮降低流體阻力，則需提供孔隙較大的毛細結(jié)構(gòu)以利于工作流體回流，但此大孔隙卻不利于增加毛細吸力。故市面上另有一種均溫板采用復(fù)合式微結(jié)構(gòu)，其系包含一第一毛細結(jié)構(gòu)層及一第二毛細結(jié)構(gòu)層，該第一、二結(jié)構(gòu)層具有不同的孔隙尺寸；無論是前述采用單層的傳統(tǒng)均溫板亦或是采用復(fù)合式的均溫板，其制程皆復(fù)雜不易薄化且難以控制質(zhì)量，造成成本及不良率的提聞。以上所述，習(xí)知具有下列之缺點:1.成本較高；2.均溫性較差；3.不易薄化；4.熱阻較高。所以，要如何解決上述習(xí)用之問題與缺失，即為本案之創(chuàng)作人與從事此行業(yè)之相關(guān)廠商所亟欲研究改善之方向所在者。
技術(shù)實現(xiàn)思路
因此，為有效解決上述之問題，本技術(shù)之主要目的在于提供一種可大幅減少成本之散熱裝置。本技術(shù)的次要目的，在于提供一種可降低整體熱阻之散熱裝置。本技術(shù)的次要目的，在于提供一種可令冷凝區(qū)均溫性較佳之散熱裝置。為達到上述目的，本技術(shù)系提供一種散熱裝置，系包括一第一板體及一第二板體，該第一板體具有一第一側(cè)面及一第二側(cè)面，該第二側(cè)面上形成(或設(shè)置)有一粗糙結(jié)構(gòu)，該第二板體具有一第三側(cè)面及一第四側(cè)面，該第二板體之第四側(cè)面系蓋合相對該第一板體之第二側(cè)面，并共同界定一腔室并填充有一工作流體，所述散熱裝置更具有一鍍膜層披覆于所述第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上或第四側(cè)面上其中任一側(cè)面上或同時披覆于第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上及第四側(cè)面上。透過本技術(shù)此結(jié)構(gòu)的設(shè)計，利用前述第二側(cè)面上形成的局部或全部之粗糙結(jié)構(gòu)，并于該粗糙結(jié)構(gòu)上所披覆的鍍膜層系由二氧化硅所組成，且其具有親水性或疏水性特性，當該第二板體之第三側(cè)面受熱時，液態(tài)之工作流體會受熱而蒸發(fā)為汽態(tài)工作流體，接著，汽態(tài)工作流體于第一板體之第二側(cè)面產(chǎn)生冷凝而轉(zhuǎn)換成為液態(tài)之工作流體，藉由所述粗糙結(jié)構(gòu)的形成，會迅速將液態(tài)工作流體拉回至相對該第二側(cè)面之熱源對應(yīng)位置處，再經(jīng)由集結(jié)成的液態(tài)工作流體流回所述第三側(cè)面，加速冷凝之工作液體的回流，進而促使整體散熱裝置熱阻降低并提升散熱裝置之均溫性；除此之外，還可改善習(xí)知均溫板制程復(fù)雜且難以控制質(zhì)量，進以大幅減少不良率及生產(chǎn)成本之效果者。主要組件符號說明散熱裝置I第一板體10第一側(cè)面101第二側(cè)面102粗糙結(jié)構(gòu)1021鍍膜層1022第二板體11第三側(cè)面111第四側(cè)面112毛細結(jié)構(gòu)1121腔室113支撐柱1131毛細結(jié)構(gòu)體1131a工作流體12熱源2 附圖說明第IA圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之立體分解圖；第IB圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之立體組合圖；第IC圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之剖視圖；第ID圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之放大示意圖；第IE圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之另一剖視圖；第IF圖系為本技術(shù)散熱裝置第一實施例之另一放大示意圖；第2A圖系為本技術(shù)散熱裝置第二實施例之剖視圖；第2B圖系為本技術(shù)散熱裝置第二實施例之放大示意圖；第3A圖系為本技術(shù)散熱裝置第三實施例之剖視圖；第3B圖系為本技術(shù)散熱裝置第三實施例之放大示意圖；第4A圖系為本技術(shù)散熱裝置第四實施例之剖視圖；第4B圖系為本技術(shù)散熱裝置第四實施例之放大示意圖；第5A圖系為本技術(shù)散熱裝置第五實施例之剖視圖；第5B圖系為本技術(shù)散熱裝置第五實施例之放大示意圖；第6圖系為本技術(shù)散熱裝置第六實施例之立體分解圖；第7圖系為本技術(shù)散熱裝置第七實施例之立體分解圖。具體實施方式本技術(shù)之上述目的及其結(jié)構(gòu)與功能上的特性，將依據(jù)所附圖式之較佳實施例予以說明。請參閱第1A、1B、1C、1D、1E、1F圖，系為本技術(shù)之散熱裝置第一實施例之立體分解圖及立體組合圖及剖視圖及放大示意圖，一種散熱裝置，系包括一第一板體10及一第二板體11，該第一板體10具有一第一側(cè)面101及一第二側(cè)面102 (冷凝區(qū))，該第二側(cè)面102上得局部(第IC及ID圖)及全部(第IE及IF圖)其中任一形成(或設(shè)置)有一粗糙結(jié)構(gòu)1021，于本技術(shù)中上述所稱之局部的粗糙結(jié)構(gòu)1021系在一熱源2 (CPU、晶體管或其他產(chǎn)生熱之物體(件)等)對應(yīng)之正上方處，并該第二側(cè)面102之粗糙結(jié)構(gòu)1021上得披覆有一鍍膜層102，且該鍍膜層102系由二氧化硅所組成；所述第二側(cè)面102之粗糙結(jié)構(gòu)1021于本技術(shù)中之優(yōu)先選擇系為布微槽道之毛細結(jié)構(gòu)，其系利用機械加工(可為壓印及刻印及雕刻等)或蝕刻任一方式形成，并該粗糙結(jié)構(gòu)1021亦系呈凹凸狀，所述鍍膜層1022系為一親水性薄膜及一疏水性薄膜其中任一，本實施例系以親水性薄膜作為說明，但并不引以為限。前述之第二板體11具有一第三側(cè)面111及一第四側(cè)面112 (蒸發(fā)區(qū))，該第二板體11之第四側(cè)面112系蓋合相對該第一板體10之第二側(cè)面102，并共同界定一腔室113，所述第三側(cè)面111與所述熱源2相互接觸；前述之腔室113內(nèi)填充有一工作流體12，該工作流體12系可為純水及甲醇及丙酮及冷煤及氨其中任一。透過本技術(shù)散熱裝置的設(shè)計，利用所述第二側(cè)面102上形成的局部或全部之粗糙結(jié)構(gòu)1021，并于該粗糙結(jié)構(gòu)1021上披覆的具有親水性或疏水性特性鍍膜層1022，當該第三側(cè)面111接觸熱源2，令該第二板體11之第三側(cè)面111受熱時，此時液態(tài)工作流體12會因受熱轉(zhuǎn)換為汽態(tài)工作流體12，接本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種散熱裝置，系包括：一第一板體，具有一第一側(cè)面及一第二側(cè)面，該第二側(cè)面上形成有一粗糙結(jié)構(gòu)；及一第二板體，具有一第三側(cè)面及一第四側(cè)面，該第二板體之第四側(cè)面系蓋合相對該第一板體之第二側(cè)面，并共同界定一腔室，該腔室內(nèi)填充有一工作流體。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種散熱裝置，系包括: 一第一板體，具有一第一側(cè)面及一第二側(cè)面，該第二側(cè)面上形成有一粗糙結(jié)構(gòu) '及 一第二板體，具有一第三側(cè)面及一第四側(cè)面，該第二板體之第四側(cè)面系蓋合相對該第一板體之第二側(cè)面，并共同界定一腔室，該腔室內(nèi)填充有一工作流體。2.如權(quán)利要求第I項所述之散熱裝置，其中該第三側(cè)面系對應(yīng)貼設(shè)有一熱源。3.如權(quán)利要求第2項所述之散熱裝置，更具有一鍍膜層披覆于所述第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上或第四側(cè)面上其中任一側(cè)面上。4.如權(quán)利要求第3項所述之散熱裝置，其中該鍍膜層同時披覆于所述第二側(cè)面之粗糙結(jié)構(gòu)上及第四側(cè)面上。5.如權(quán)利要求第4項所述之散熱裝置，其中該粗糙結(jié)構(gòu)系為局部或全部其中任一方式形成。6.如權(quán)利要求第5項所述之散熱裝置，其中該局部形成的粗糙結(jié)構(gòu)系位在該第二側(cè)面對應(yīng)該熱源之正上方處。7.如權(quán)利要求第3項所述之散熱裝置，其中該鍍膜層系為一親水性薄膜及一疏水性薄膜其中任一。8.如權(quán)利要求第I項所述之散熱裝置，其中該工作流體系可為純...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：林志曄，
申請(專利權(quán))人：奇鋐科技股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：