一種設有中心電極的真空鍍膜室制造技術

本實用新型專利技術涉及鍍膜領域，具體地說是一種對各種絕緣材質和導電材質的工件內外表面進行鍍膜的等離子鍍膜設備。一種設有中心電極的真空鍍膜室，鍍膜室由金屬網罩、金屬棒、玻璃磚支架、工件、鋁箔組成，其特征在于，金屬網罩內設有一根與鍍膜室內壁保持電導通的中心電極，所述中心電極與金屬網罩絕緣設置。本實用新型專利技術中心電極的作用是將金屬網罩內的殘余電子傳導到真空罐內壁上，避免電荷累積產生的打火；電子逃逸口可以顯著降低鍍膜過程中工件和金屬網罩、玻璃磚、鋁箔上的電荷積累，它可以順利將電子從金屬網罩內放出，從而減少了打火次數。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種設有中心電極的真空鍍膜室，鍍膜室由金屬網罩、金屬棒、玻璃磚支架、工件、鋁箔組成，其特征在于，金屬網罩內設有一根與鍍膜室內壁保持電導通的中心電極，所述中心電極與金屬網罩絕緣設置。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李燦民，
申請(專利權)人：合肥永信信息產業股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：