本發明公開了線性真空鍍膜單體蒸發器，包括一頂面設置噴嘴的殼體，所述殼體中部設有緩沖部，所述緩沖部遠離噴嘴的一面連接有與蒸鍍材料室相連的加熱管道，所述加熱管道向噴嘴方向延伸。本發明提供的線性真空鍍膜單體蒸發器利用三步共蒸發工藝制備銅銦鎵硒...

本發明公開了光學蒸發真空鍍膜機，包括一鍍膜腔、一蒸發器和兩加熱器，所述蒸發器包括一頂面設置噴嘴的殼體，所述殼體中部設有緩沖部，所述緩沖部遠離噴嘴的一面連接有與蒸鍍原材料室相連的加熱管道，所述加熱管道向噴嘴方向延伸，所述加熱器分別平行的立...

本發明公開了多弧離子鍍膜裝置，包括陰極和引弧電極，所述陰極的一端與引弧電極的一端絕緣連接，所述陰極為一內部設有磁棒和靶背管的靶材，所述磁棒和靶背管相鄰設置，所述磁棒為一嵌有一磁性組件的絕緣棒，所述引弧電極通過一電磁閥控制其與陰極不相連的...

本發明公開了光學多弧離子鍍膜機，包括真空室和與真空室連通的抽氣組件、充氣組件、運輸組件、加熱組件、冷卻組件，所述真空室內設有至少一多弧靶，所述多弧靶包括陰極和引弧電極，所述陰極的一端與引弧電極的一端絕緣連接，所述陰極為一內部設有磁棒和靶...

本發明公開了光學多弧離子鍍方法，包括步驟a)基片傳送入真空室；步驟b)在真空室內采用一多弧靶對基片進行光學多弧離子鍍；步驟c)基片進行光學多弧離子鍍后傳送出真空室；所述多弧靶包括陰極和引弧電極，所述陰極的一端與引弧電極的一端絕緣連接，所...

本發明公開了一種FLA鍍膜裝置，其中所述的FLA鍍膜裝置設有一操作區域，操作區域包括燈箱和冷卻背板，冷卻背板吸收燈箱中閃光燈發出的熱量，使得操作區域的環境溫度為70～100℃。本發明采用低溫FLA鍍膜裝置，解決了部分膜系的材料限制無法高...

本發明公開了一種制備薄膜太陽能電池的方法，所述將Mo層真空磁控濺射在基板上之后，真空蒸鍍CIGS吸收層，后真空磁控濺射ZnO緩沖層，閃燈退火后再次磁控濺鍍AZO層，得到燒結后的CIGS太陽能電池板。與現有技術相比，本發明采用蒸鍍與閃燈退...

本發明公開了一種用于薄化玻璃鍍膜的化學氣相沉積法，所述采用化學氣相沉積法依次在柔性基材上鍍制散熱層、TFT層，TFT層中的ITO膜進行退火處理，得到對柔性基材薄膜晶體管。本發明采用本發明采用化學氣相沉積法與閃燈退火方法結合，輔以構圖工藝...

本發明公開了一種TFT基板的鍍膜方法，所述鍍膜方法將硼氫化合物先和含硅原料按比例混合均勻，混合后壓制在已預鍍有緩沖層和硼氫化合物的基板上，再通入含硅原料和氫氣，化學氣相沉積法鍍膜。本發明采用與現有技術相比，本發明采用化學氣相沉積法與噴涂...

本發明公開了一種基于柔性材料的TFT基板，其中，基于柔性材料的TFT基板依次包括：柔性基材、散熱層、TFT層和顯示層，顯示層即為OLED層，OLED層包括陽極金屬層、有機層和陰極金屬層。本發明采用增加散熱層的方式增大TFT基板本身的散熱...

本發明公開一種大面積玻璃基板裝載機，包括傳送單元、基板供應單元和玻璃供應單元，所述傳送單元為傳送帶；所述基板供應單元包括承載帶、承載架、支撐架和支撐帶，所述承載帶安裝于承載架上，所述承載帶設有兩個，分別位于裝載機傳送帶的兩端，且垂直于傳...

本發明公開一種大面積玻璃基板裝載機，包括傳送單元、基板供應單元和玻璃供應單元，所述傳送單元為傳送帶；所述基板供應單元包括承載帶、承載架、支撐架和支撐帶，所述承載帶安裝于承載架上，所述承載帶設有兩個，分別位于裝載機傳送帶的兩端，且垂直于傳...

本發明公開了一種ITO膜層的后處理方法，該方法將已經過ITO鍍膜的膜層結構置于環境溫度不超過80℃的密封腔室中，使ITO膜層經過惰性氣體燈的照射，進行燒結處理。本發明采用本發明采用80℃下退火溫度，通過閃燈退火工藝，制得的ITO薄膜，在...

本發明公開了手機玻璃質量檢測裝置，包括至少一真空鍍膜基片架、一軌道、傳動機構和質檢系統，每個所述真空鍍膜基片架均在其對應軌道上往返滑動，所述傳動機構與真空鍍膜基片架連接并為其提供動力，所述真空鍍膜基片架上安裝有若干基片孔，真空鍍膜基片安...

本發明公開了雙銀LOW?E玻璃真空鍍膜濺射生產線，依次連接的上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室、質檢腔室和卸片區，所述上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口...

本發明公開了LOW?E玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，包括依次連接的上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室、質檢腔室和卸片區，所述上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、...

本發明公開了多用途金屬膜層真空鍍膜生產線，包括依次連接的進口室、進口緩沖室、進口傳送室、濺射室、出口傳送室、出口緩沖室、出口室和質檢室，所述進口室、進口緩沖室、進口傳送室、濺射室、出口傳送室、出口緩沖室、出口室內均設有依次連接的傳動輥，...

本發明公開了一種立式鍍膜生產線為連續鍍膜生產線，其中，包括TFT蒸鍍室、OLED蒸鍍室和后處理腔室，各蒸鍍室通過傳動輥連接成一個連續鍍膜生產線，生產線上的各蒸鍍室之間設有緩沖和調解腔室，以及收卷和放卷裝置等輔助腔室，每個蒸鍍室與周圍的輔...

本發明公開用于大面積AZO透明導電玻璃的磁控濺射鍍膜生產線，包括依次連接的進口室、進口緩沖室、濺鍍室、出口傳送室、出口緩沖室和出口室，所述進口緩沖室和濺鍍室為真空室，相鄰的室之間設有至少一個閥門；所述生產線還包括傳送機構，所述傳送機構銜...

本發明公開了金屬MO膜連續磁控濺射生產線，包括依次連接的進口室、進口緩沖室、進口傳送室、濺射室、出口傳送室、出口緩沖室、出口室和質檢室，所述進口室、進口緩沖室、進口傳送室、濺射室、出口傳送室、出口緩沖室、出口室內均設有依次連接的傳動輥，...