本實用新型公開一種多室真空磁控濺射鍍膜裝置，多室真空磁控濺射鍍膜裝置包括運轉機構、傳送部、前室以及鍍膜室，鍍件設于一工件轉架上，傳送部與前室銜接，前室與鍍膜室銜接，傳送部、前室和鍍膜室形成鍍件的鍍膜通道，前室與鍍膜室獨立設置真空設備，工...

本發明公開一種基材鍍膜工藝，基材鍍膜工藝包括鼓式基片架承載的孤型或者平面的載具，裝載基材，流入前處理室，抽至真空1*10e

本實用新型公開一種三室磁控濺射鍍膜裝置，三室磁控濺射鍍膜裝置包括運轉機構、傳送部、前室以及鍍膜室，鍍件設于一工件轉架上，所述傳送部與前室銜接，所述前室與鍍膜室銜接，所述傳送部、前室和鍍膜室形成鍍件的鍍膜通道，所述前室與鍍膜室獨立設置真空...

本發明公開一種立式長管鍍膜設備，立式長管鍍膜設備包括真空殼體、第一靶架、第二靶架、第三靶架以及工件架，真空殼體上開設有第一艙門、第二艙門以及第三艙門，第一艙門和第二艙門相對設置，真空殼體的內部具有真空腔，第一靶架和第二靶架分別設于第一艙...

本實用新型公開一種用于磁控濺射鍍膜機的隔斷裝置及磁控濺射鍍膜機，用于磁控濺射鍍膜機的隔斷裝置包括隔斷本體，所述隔斷本體設置在所述磁控濺射鍍膜機的前處理室和鍍膜室之間并用于關閉密封或開啟，所述用于磁控濺射鍍膜機的隔斷裝置還包括驅動機構，所...

本發明提供了濺射鍍膜機膜厚監測方法，包括：步驟S1：將接收端安裝在鍍膜室的殼體壁上，定位端安裝在基片架上，使定位端和基片所在的平面平齊；步驟S2：將感應器安裝在鍍膜室的殼體壁上，所述感應器的感應端口正對基片；步驟S3：將感應器和接收端電...

本發明公開了用于鍍膜室的旋轉臺，包括位于鍍膜室內的若干旋轉基片架，所述旋轉基片架包括基架體、轉動軸和軸承座，所述轉動軸貫穿于基架體中心軸，所述轉動軸通過軸承與軸承座連接。與現有技術相比，本發明提供的用于鍍膜室的旋轉臺通過轉動軸與基架體一...

本發明提供了雙室真空鍍膜機，包括緩沖室和工藝室，緩沖室和工藝室可連通的設置，工藝室內設置兩組基片架固定件和一組壓緊件，兩組基片架固定件間隔位于工藝室的底部，壓緊件位于工藝室的頂部，基片架在工藝室時，位于兩組基片架固定件之間，基片架固定件...

本發明提供了磁控濺射鍍膜機，包括依次連接的第一預備組、工藝室組和第二預備組，第一預備組、工藝室組和第二預備組依次連接成直線型的基片運行路徑，所述運行路徑的運行方向為基片依次經過第一預備組、工藝室組和第二預備組，工藝室組包括多個工藝室，第...

本發明公開了漸變色鍍膜一體機，包括一一體機箱，所述一體機箱由四面側板、頂蓋和封閉連接的底板構成，所述一體機箱內設有一自轉磁棒、防護組件、靶材組件和旋轉基片架、軌道和離子源在線清洗裝置，所述自轉磁棒、防護組件、靶材組件和旋轉基片架同圓心的...

本發明公開了一種帶有防護裝置的離子源，包括一自轉磁棒、防護組件和靶材組件，所述自轉磁棒呈圓柱形，所述防護組件和靶材組件呈圓弧狀或圓環狀，所述防護組件包括兩防護元件，所述防護元件通過連接件活動連接，所述兩防護元件的兩邊相互兩兩連接。與現有...

本發明公開了立式鍍膜機的旋轉系統，包括一旋轉基片架，和自旋轉基片架圓心處由內至外設置的自轉磁棒、防護組件和靶材組件，所述旋轉基片架通過一齒輪機構旋轉。與現有技術相比，本發明提供的立式鍍膜機的旋轉系統通過兩個旋轉機構，分別使自轉磁棒和旋轉...

本發明提供了雙鼓鍍膜機，包括兩個第一殼體和兩個第二殼體，第一殼體內形成第一腔室，第二殼體內形成第二腔室，兩個第一殼體的兩個第一腔室和兩個第二殼體的兩個第二腔室呈直線連通，兩個第一腔室位于所述直線的中部，第一殼體和第二殼體上設有多個垂直安...

本發明提供了用于鍍膜機的雙鼓裝配體，包括裝配架、兩個鼓本體、多個導向體和多個刮板，兩個鼓本體可轉動的安裝在裝配架上，兩個鼓本體的中心軸平行間隔設置，多個導向體沿著鼓本體橫截面的周向均勻間隔布置，兩個相鄰的導向體之間的間隔設有一個刮板，刮...

本發明公開了磁控濺射鍍膜離子源在線清洗裝置，包括激光輸出組件、激光安裝件和清潔組件，所述激光安裝件將激光輸出組件安裝于一移動組件上，所述清潔組件安裝于激光輸出組件上，該磁控濺射鍍膜離子源在線清洗裝置通過移動組件在一軌道上移動。與現有技術...

本發明公開了漸變色U型鍍膜生產方法，所述漸變色U型鍍膜生產方法應用于U型鍍膜生產線，所述U型鍍膜生產線包括兩平行設置的傳送流水線和一鍍膜腔室，兩傳送流水線通過鍍膜腔室相連，所述鍍膜腔室內包括一基片架停靠站、靶材和旋轉陰極，所述立式基片架...

本發明提供了用于鍍膜室的屏蔽門，所述屏蔽門用于鍍膜生產線，所述鍍膜生產線包括多個依次連接的箱體，所述箱體內設有空腔，所述屏蔽門包括箱體上設有門結構，多個箱體通過門結構的打開實現多個箱體內的空腔的連通，以供待鍍膜的基片在所述連通的空腔內運...

本發明提供了用于ARC鍍膜生產線的基片翻面設備，包括基片架、旋轉底板、基片架底座、固定座和旋轉電機，固定座固定在所述鍍膜生產線的箱體內，旋轉電機安裝在固定座上，基片架位于旋轉底板上，旋轉電機連接并驅動旋轉底板和基片架轉動。本發明旋轉底板...

本發明提供了一種用于鍍膜機鍍膜室的門閥結構，所述鍍膜生產線包括多個依次連接的箱體，各箱體內為腔室，待鍍膜的基片在各所述腔室內運行，每個箱體的腔室為一個獨立的功能室，待鍍膜的基片在每個獨立的腔室內完成相應工藝，各箱體之間設有門閥結構，所述...

本發明提供了鍍膜生產線的真空系統，所述鍍膜生產線包括多個依次連接的箱體，各箱體內為腔室，待鍍膜的基片在各所述腔室內運行，待鍍膜的基片在每個獨立的腔室內完成相應工藝，各箱體之間設有門閥，以將各個箱體對應的腔室分隔開來，所述真空系統，包括至...