本實用新型公開了一種膜厚自動控制鍍膜機，所述鍍膜機包括殼體、工作架、驅動機構、濺射鍍膜機構，以及至少一個膜厚監測機構，所述工作架設有基片載體，所述工作架通過驅動機構驅動相對殼體旋轉，所述工作架繞第一轉軸轉動；所述濺射鍍膜機構和基片載體設...

本發明提供了一種曲面屏磁控濺射組件，包括公自轉傘具轉架和多組陰極組件，多組陰極組件與公自轉傘具轉架不接觸，多組陰極組件沿公自轉傘具轉架的周向分布，每組陰極組件包括兩個陰極裝置，每個陰極裝置包括磁棒，每組陰極組件的兩個磁棒的磁場方向可調節...

本發明公開了一種鍍膜生產線控制方法，方法應用到上位機中，傳送流水線和鍍膜生產線首尾相連形成一環形流水線，上位機與傳送流水線以及鍍膜生產線相通信連接，以通過上位機對所述傳送流水線和所述鍍膜生產線進行控制，上述方法可以實時檢測基片的位置，并...

本發明提供了一種DLC連續鍍膜生產線，包括呈直線依次連接的進口室、進口緩沖室、進口過渡室、第一工藝室組、隔離室、第二工藝室組、出口過渡室、出口緩沖室和出口室，形成連通的直線通道，以及和所述直線通道平行間隔布置的回架組，所述第一工藝室組和...

本發明提供了一種ARC鍍膜生產線，包括呈直線依次連接的旋轉臺、進出口室、緩沖室、前過渡室、工藝室組、后過渡室和旋轉室，工藝室組包括至少一個工藝室，進出口室、緩沖室、前過渡室、工藝室和后過渡室均沿著所述直線方向對稱分隔成兩個腔室，形成連通...

本發明公開了一種臥式真空鍍膜生產線用基片運輸傳動裝置，所述運輸傳動裝置包括載架、載盤和呈鏡像對稱的兩平衡傳動組件，所述平衡傳動組件包括順次連接的軸座、擺動軸和方形導桿，所述擺動軸的A端與軸座非固定連接，所述擺動軸的B端安裝在方形導桿上，...

本發明公開了手機玻璃蓋板金屬標志真空鍍膜生產線，包括依次連接的進口加熱室、清潔室、第一高真空緩沖室、第一濺射過渡室、濺射室、第二濺射過渡室、第二高真空緩沖室和出口室，所述濺射室包括至少一個鍍膜分區，每個鍍膜分區設有至少一旋轉陰極裝置，所...

本發明公開了汽車玻璃立式復合膜系連續磁控濺射生產線，包括進料段和出料段，所述進料段由前向后依次連接一組初真空室、低真空室、中真空室和高真空室，所述出料段有錢向后依次連接另一組高真空室、中真空室、低真空室和初真空室，所述濺射室包括至少一個...

本發明公開了一種片狀基片智能裝載的連續鍍膜生產系統。其至少包括：相連的一傳送流水線和一鍍膜流水線，傳送流水線傳送基片，鍍膜流水線包括依次連通且首尾相連的進口腔室、進口過渡腔室、進口緩沖腔室、鍍膜腔室、出口緩沖腔室、出口過渡腔室和出口腔室...

本發明公開了薄膜太陽能電池前電極連續式磁控濺射單面鍍膜生產線，包括放卷室、進口室、進口緩沖室、蒸鍍室、出口緩沖室、出口室和收卷室，主驅動輥設于放卷室和收卷室內，多個傳動輥設于子線各腔室內；所述蒸鍍室內設有若干蒸鍍區，每一蒸鍍區均設有一蒸...

本發明公開一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，包括旋轉組件、傳送組件和支撐組件，所述旋轉組件包括旋轉電機、旋轉架，所述旋轉電機安裝于鍍膜生產線工藝室底板的下方，所述旋轉架位于底板的上方，所述旋轉電機與旋轉架固定連接，并驅動旋轉架轉動；所...

本發明公開一種TFT?LCD減薄鍍膜生產線，依次包括進口室、進口緩沖室、進口傳送室、工藝室、出口傳送室、出口緩沖室和出口室，所述工藝室包括多個磁控濺射腔，所述磁控濺射腔設有旋轉陰極，多個所述磁控濺射腔的旋轉陰極不全位于同一側；所述生產線...

本發明公開一種TFT?LCD玻璃基板雙面鍍膜生產線，包括依次進口室、酸洗室、濺鍍室和旋轉室，以及與酸洗室連接的水洗室；濺鍍室與旋轉室連接，所述旋轉室包括傳送倉和旋轉倉，所述旋轉倉包括旋轉組件、傳送組件和支撐組件，玻璃基片安裝于基片架上，...

本發明公開了手機蓋板顏色膜臥式鍍膜生產線，包括依次連接的進口加熱室、清潔室、第一高真空緩沖室、第一濺射過渡室、濺射室、第二濺射過渡室、第二高真空緩沖室和出口室，所述濺射室包括至少一個鍍膜分區，每個鍍膜分區設有至少一旋轉陰極裝置和/或平面...

本發明公開了汽車玻璃用連續鍍膜生產線，包括依次連接的上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室、質檢腔室和卸片區，所述濺射腔室包括至少一個鍍膜分區，每個鍍膜分區設有至少一旋轉陰極裝置和/...

本發明公開了弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，包括依次連接的上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室、質檢腔室和卸片區，所述上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳...

本發明公開一種玻璃減薄鍍膜方法，先將基片固定在基片架上，將基片架送入進口室，密封后進行低真空抽氣；再將基片架送入進口緩沖室，進行高真空抽氣；然后基片架送入進口傳送室，在高真空下對基片進行預熱；基片架送入工藝室，進行鍍膜處理，鍍膜時對基片...

本發明公開一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，包括旋轉組件、傳送組件和支撐組件，所述旋轉組件包括旋轉電機、旋轉架，所述旋轉電機安裝于鍍膜生產線工藝室底板的下方，所述旋轉架位于底板的上方，所述旋轉電機與旋轉架固定連接，并驅動旋轉架轉動；所...

本發明公開一種雙面鍍膜生產線的鍍膜裝置，包括鍍膜箱體和磁控濺射裝置，所述磁控濺射裝置設有箱體內，所述箱體內基片架位置設有磁鐵，所述箱體的側板設有磁場；所述箱體內還設有旋轉組件，所述旋轉組件包括旋轉電機和旋轉架，所述旋轉架的兩側設有定位盤...

本發明公開了基于線性蒸發器真空鍍膜單體機，包括一鍍膜區、一蒸發器和兩加熱器，所述加熱器分別立設于鍍膜區兩側，所述蒸發器和基片平行的對立設置于兩加熱器之間，所述蒸發器包括一頂面設置噴嘴的殼體，所述殼體中部設有緩沖部，所述緩沖部遠離噴嘴的一...