在曝光裝置中，設(shè)置有射入透過了光源和掩模的曝光用光，并以具有規(guī)定的規(guī)則性配置的使正立等倍像在基板上成像的多個微透鏡的微透鏡陣列。進而，在基板到達了規(guī)定位置時，從光源脈沖地照射激光，將基板依次曝光，在基板的曝光對象區(qū)域的全域被曝光之后，將...

本發(fā)明是能從波長不同的多種激光（L）中根據(jù)其照射目的選擇波長而照射到照射對象物（Ob）的激光照射裝置，在包括上述多種波長的激光（L）的混合光的光路上，具備：狹縫（2），其寬度相當(dāng)于多種波長的激光（L）中至少最短波長的激光的衍射極限；和物...

曝光裝置，使來自光源的曝光用光透過在與掃描方向正交的方向隔開規(guī)定的間隔設(shè)置有應(yīng)曝光的多個圖案的掩模，并且通過微透鏡陣列的多個微透鏡使圖案的正立等倍像在基板上成像。微透鏡陣列構(gòu)成為，微透鏡陣列芯片在第二方向連接，在支承微透鏡陣列芯片的框狀...

在膜基材（20）上的曝光圖案形成用區(qū)域形成有曝光材料膜（21）的膜（2）中，在其寬度方向上的兩側(cè)緣部的至少一方涂敷有色的燒結(jié)材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成側(cè)部涂敷膜（22），通過定位標(biāo)記形成部（14）照射激光而形成定位標(biāo)記（...

在曝光裝置（1）中，在曝光對象構(gòu)件（2）的傳送方向上的曝光光線的照射區(qū)域的上游側(cè)設(shè)置有第一標(biāo)記形成部（17），對曲折檢測用標(biāo)記（2b）進行檢測，檢測部（14）檢測在與曝光對象構(gòu)件（2）的移動方向交叉的方向上的曲折檢測用標(biāo)記（2b），以抵...

在薄膜基材（20）的寬度方向的兩側(cè)的薄膜基材送給用區(qū)域的至少一個區(qū)域形成側(cè)部曝光材料膜，通過定位標(biāo)記形成部（14），照射曝光光來形成定位標(biāo)記（2a），使用該定位標(biāo)記（2a）檢測薄膜彎曲行進，調(diào)整掩模（12）的位置。由此，將薄膜進行連續(xù)曝...

本發(fā)明涉及一種激光退火裝置，向形成在TFT基板(10)上的非晶硅膜照射多個激光束(Lb)而進行退火處理，其具備：掩模(3)，其形成有與TFT基板(10)上的被退火區(qū)域的形狀相似的形狀的多個開口；微型透鏡基板(4)，其經(jīng)由形成在一面上的多...

本發(fā)明使用如下所述的多個光掩模（2），向各光掩模（2）的第1及第2開口（1A、1B）分別射入偏振方向和對于基板的入射角中的至少一方不同的兩束偏振光，使通過第1及第2開口（1A、1B）的兩束偏振光向在光掩模（2）下側(cè)被輸送的基板（9）上的...

本發(fā)明是曝光裝置，其具備圖案生成器（3），圖案生成器（3）在與被曝光體（6）的面平行的面內(nèi)配置有多個光開關(guān)（11），光開關(guān)（11）包括：開關(guān)元件（9），其在與包含電光晶體材料的棱柱狀的部件的長軸平行的相對面分別設(shè)置電極而形成；以及一對偏...

曝光裝置(1)通過將液晶顯示裝置的各像元或者像素在寬度方向分割為2個部分并從不同的方向曝光，使取向材料膜進行光取向。曝光裝置使從2個光源(第1光源(11)和第2光源(12))射出的2個曝光光(11a、12a)，透射掩模(13)的預(yù)定的圖...

在膜曝光裝置（1）設(shè)有引入標(biāo)記形成部（13），所述引入標(biāo)記形成部（13）在所供給的膜（2）的前端部形成作為掩模（12）的初始位置的基準(zhǔn)的引入標(biāo)記（2a），利用檢測部（15）來檢測相對膜的移動方向而言在垂直的方向上的引入標(biāo)記的位置。而且，...

微透鏡陣列(2)是4塊單位微透鏡陣列(2-1、2-2、2-3、2-4)的層疊體，可以使一部分的單位微透鏡陣列的光軸從其他單位微透鏡陣列的光軸偏移。在掃描曝光裝置中，線陣CCD照相機檢測基板上的圖像，將基板上的第1層圖案作為基準(zhǔn)圖案，在掩...

掃描曝光裝置通過多個微透鏡陣列（2），將掩模（3）的曝光圖案投影于襯底（1）上。此時，通過線性CCD相機檢測襯底上的圖像，將襯底上的第一層圖案作為基準(zhǔn)圖案，檢測掩模的曝光圖案是否與該基準(zhǔn)圖案一致。不一致時，使微透鏡陣列從平行于襯底的方向...

本發(fā)明提供一種能夠防止異物進入到微透鏡陣列與基板之間并且能夠防止由于基板的異常接近和上述異物導(dǎo)致對微透鏡造成傷痕的曝光裝置和光學(xué)構(gòu)件。在透明基板（1）的上方配置有形成了多個微透鏡（3a）的微透鏡陣列（3），該微透鏡陣列（3）在其端面（6...

本發(fā)明提供一種使用了微透鏡陣列的掃描曝光裝置，即使起因于曝光裝置特性和溫度條件等制造條件的變動而使得被曝光基板的大小產(chǎn)生變動，也能夠使掩模圖案的像對準(zhǔn)規(guī)定位置。在掃描曝光裝置中，多個微透鏡陣列2在要曝光的基板1的上方排列在與掃描方向垂直...

本發(fā)明提供一種激光退火方法及裝置，該激光退火方法及裝置能夠?qū)Ψ蔷Ч枘みM行激光退火，在形成低溫多晶硅膜時，即使使用YAG激光器那樣的低價的激光光源裝置，也能夠?qū)Ψ蔷Ч枘べx予充足的能量使其實現(xiàn)高效的相變。將來自YAG激光器光源（11）的基波...

本發(fā)明提供一種隔開規(guī)定間隔固定有微透鏡陣列和掩模的微透鏡曝光裝置，該微透鏡曝光裝置能夠容易且高精度將微透鏡陣列與曝光用基板之間的間隙調(diào)整到微透鏡的對準(zhǔn)焦點位置。曝光用的激光通過微透鏡陣列3的微透鏡3a而被照射在抗蝕劑膜2上。來自顯微鏡1...

本發(fā)明涉及一種濾色片的突起缺陷高度測量儀器以及修復(fù)裝置。具體地，對于在著色層的邊界部分具有將相鄰的著色層的端緣部分相互層疊的隔壁等的突起狀構(gòu)造物的濾色片，可以通過觸頭的掃描，來對超越突起狀構(gòu)造物高度的突起缺陷進行高精度地測量。因此，將觸...

一種膠片曝光裝置，向膠片狀的被曝光體上曝光掩模圖形，通過抑制曝光面上產(chǎn)生的褶皺，而在曝光面上形成高精度的圖形。確保用于配置對準(zhǔn)攝像機的空間。膠片曝光裝置(1)包括：膠片運送部(2)；光掩模(3)；掩模保持部(4)，將光掩模(3)保持在被...

本發(fā)明提供一種曝光裝置，其中，形成為能夠在與被曝光體的面及光掩模的面平行的面內(nèi)向箭頭(B)方向移動的透鏡組裝體(11)中，具有將多個單位透鏡組裝體(11A～11C)以各透鏡列(16)的透鏡組(15)在與箭頭(B)方向交叉的方向上以固定的...