一種控制氣流磨裝置氣流的方法和氣流磨裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種控制氣流磨裝置氣流的方法和氣流磨裝置，包括恒壓供氣裝置和帶有側(cè)噴口和底噴口的粉碎室，所述側(cè)噴口和所述底噴口具有一共同進(jìn)氣口，所述共同進(jìn)氣口經(jīng)由至少兩條分別設(shè)置管道閥的管道連接所述恒壓裝置，每一管道分別具有不同的直徑，且上一級較大管道的直徑均為下一級較小管道的直徑1.5～4倍，通過所述最大管道流入的氣體流量或通過所述全部管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。本發(fā)明專利技術(shù)的氣流磨裝置通過逐步提高高速氣體的流速，避免將大顆粒粉末吹到分選輪處。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種控制氣流磨裝置氣流的方法和氣流磨裝置
本專利技術(shù)涉及一種控制氣流的方法和氣流磨裝置，具體涉及一種控制氣流磨裝置氣流的方法和具有氣流控制功能的氣流磨裝置。
技術(shù)介紹
在現(xiàn)有的氣流磨供氣方式中，在送入氣流時往往一次性調(diào)整至所需流量，獲得粉碎室所需流速，而由于供氣的初期阻力極小，且需要較長的時間形成回轉(zhuǎn)氣流，導(dǎo)致一部分大顆粒粉末在氣流作用下直接吹至分選輪附近，與分選輪劇烈摩擦，少量大顆粒粉末甚至通過分選輪和出料組件之間的縫隙進(jìn)入出料組件中，導(dǎo)致大顆粒粉末被分選出，由此制得的燒結(jié)磁體出現(xiàn)異常晶粒長大的情形。另一方面，如圖1中所示，現(xiàn)有氣流磨粉碎室2’通過噴嘴噴出的高速氣流對物料進(jìn)行粉碎，在通常情況下，上述高速氣流為氮氣，并采用回收氮氣和新增氮氣聯(lián)合供氣的方式，之后經(jīng)過金屬管道輸送到氣流磨的氣排輸出，這里的回收氮氣為進(jìn)行氣流粉碎后的回收、通過壓縮機(jī)增壓后重新利用的氮氣，這里的新增氮氣為由液氮灌提供的新增氮氣。這種現(xiàn)有的供氣方式中，回收氮氣在經(jīng)過壓縮機(jī)3’增壓到Satm左右的壓力，新增氮氣5’則是由作為氮氣源液氮經(jīng)過汽化后產(chǎn)生的氮氣氣體，在單純使用液氮灌提供氮氣之時，其從氣排輸出的壓力也是不超過8atm的壓力。但是，由于上述的供氣方式，兩種供氣方式的壓力很容易波動，波動范圍在±0.1atm左右，這是由于:液氮灌至氣排的距離會對金屬管道中輸送新增的氮氣壓力造成影響，并最終影響從氣排輸出的氮氣壓力，而且供氣管道中存在許多氣管連接處，容易造成微小泄露，使得從氣排輸出的氣體壓力不穩(wěn)定，導(dǎo)致粉碎后的粉末粒度分布不均勻，并最終造成產(chǎn)品性能的上下波動，難以滿足客戶要求。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的一目的在于提供一種控制氣流磨裝置氣流的方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題。本專利技術(shù)的氣流磨裝置通過逐步提高高速氣體的流速，避免將大顆粒粉末吹到分選輪處。本專利技術(shù)提供的技術(shù)方案如下:—種控制氣流磨裝置氣流的方法，其特征在于，包括如下的步驟:I)在恒壓供氣裝置與氣流磨粉碎室的連通處設(shè)置調(diào)節(jié)裝置；2)之后通過所述調(diào)節(jié)裝置以包括至少兩級的分級提高方式通入氣體，至達(dá)到所述氣流磨裝置的設(shè)定流量，且上一級較大流量為下一級較小流量1.4?16倍。需要說明的是，氣流磨裝置的設(shè)定流量由供氣壓力、噴口直徑、氣流流速和出氣壓力決定。在以往的給氣方式中，往往在開始時就一次性將流量調(diào)節(jié)至設(shè)定流量，不僅產(chǎn)生如圖3線條I所示的一過性現(xiàn)象，且由于氣流的突然增加，會導(dǎo)致初期氣流混亂現(xiàn)象，難以形成穩(wěn)定的回轉(zhuǎn)氣流，使粉末的流動方向變得不可控，致使大顆粒粉末在混亂的碰撞過程中末被分選出。而本專利技術(shù)由于采用分級式調(diào)節(jié)的方式，因此，在開啟至第一級流量之時，可在更短的時間內(nèi)形成回轉(zhuǎn)式氣流，使初期亂流引起的氣流混亂現(xiàn)象得以緩解，避免亂流和非穩(wěn)定性運轉(zhuǎn)帶來的負(fù)面效果，且由于初期壓力較低，從噴口噴出的氣體流速較小，不足以將大顆粒粉末吹至分選輪附近，由此，由于一過性現(xiàn)象導(dǎo)致的大顆粒混入情形也得以避免；而后增大氣體流量至下一級，從噴口噴出的氣流速度進(jìn)一步增大，但由于此時已有大量被吹起的細(xì)小顆粒粉末分散在粉碎室內(nèi)，阻礙大顆粒粉末向上吹起，因此，即使在噴口的流速已達(dá)到設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)之時，也不至于有大顆粒粉末被吹至氣流磨的分選輪附近，同時，增加部分的氣流引起的氣流混亂現(xiàn)象由于已有回轉(zhuǎn)式氣流的引導(dǎo)，也會在極短時間內(nèi)形成回轉(zhuǎn)式氣流；再下一級以此類推，直至最后一級。需要說明的是，上述調(diào)節(jié)裝置可以是流量調(diào)節(jié)閥，但是，由于流量閥結(jié)構(gòu)復(fù)雜、精密配合的特點，設(shè)備損耗極大，使用成本高，并不適用于高壓力氣體的流量調(diào)節(jié)。本專利技術(shù)的另一目的在于提供一種使用成本低的、具有氣流控制功能的氣流磨裝置。氣流磨裝置，包括恒壓供氣裝置和粉碎室，其特征在于:所述粉碎室具有一進(jìn)氣口，所述共同進(jìn)氣口經(jīng)由至少兩條分別設(shè)置管道閥的管道連接所述恒壓裝置，每一管道分別具有不同的直徑，且上一級較大管道的直徑為下一級較小管道的直徑1.2?4倍，通過所述最大管道流入的氣體流量或通過所述全部管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。在推薦的實施方式中，所述進(jìn)氣口分別通過第一管道和第二管道連接所述恒壓供氣裝置，所述第一管道上設(shè)置第一管道閥，所述第二管道上設(shè)置第二管道閥，且第二管道直徑為第一管道直徑的1.2?4倍，通過所述第二管道流入的氣體流量或通過所述第二管道與所述第一管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。在確定供氣壓力、粉碎室的噴口直徑、所需的氣流流速和出氣壓力之后，可確定氣流磨裝置的設(shè)定流量，由此進(jìn)一步確定第二管道的氣體流量或所述第二管道與所述第一管道的氣體流量之和。在第二管道流入的氣體流量為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量之時，應(yīng)先開啟第一管道閥，同時關(guān)閉第二管道閥，使氣流通過較細(xì)的第一管道流入粉碎室，由于送入的氣體流量較少，因此，從噴口噴出的氣體流速較小，不足以將大顆粒粉末吹至分選輪附近，且可在較短時間內(nèi)形成回轉(zhuǎn)氣流，而后開啟第二管道閥，同時關(guān)閉第一管道閥，氣體流量增加，從噴口噴出的氣流速度達(dá)到設(shè)定流速，但由于此時已有大量被吹起的細(xì)小顆粒粉末分散在粉碎室內(nèi)，阻礙大顆粒粉末向上吹起，因此，即使在噴口的流速已達(dá)到設(shè)定流量之時，也不至于有大顆粒粉末被吹至氣流磨的分選輪附近。而在第二管道和第一管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量之時，同樣應(yīng)先開啟第一管道閥，同時關(guān)閉第二管道閥，使氣流通過較細(xì)的第一管道流入粉碎室，由于送入的氣體流量較少，因此，從噴口噴出的氣體流速較小，不足以將大顆粒粉末吹至分選輪附近，且可在較短時間內(nèi)形成回轉(zhuǎn)氣流，而后開啟第二管道閥，同時關(guān)閉第一管道閥，氣體流量增加，從噴口噴出的氣流速度增加，粉末的運動軌跡進(jìn)一步靠近分選輪，然后同時開啟第二管道閥和第一管道閥，從噴口噴出的氣流速度達(dá)到所述氣流磨裝置設(shè)定流速，但由于此時已有大量被吹起的粉末分散在粉碎室內(nèi)，阻礙粉末向上吹起，只有大顆粒粉末在研磨室內(nèi)粉碎到一定尺寸的更細(xì)小粉末時，才能繼續(xù)往上流動到達(dá)分選輪處，因此，即使在噴口的流速已達(dá)到設(shè)定流量之時，也不至于有大顆粒粉末被吹至分選輪附近。在推薦的實施例中，所述儲氣罐設(shè)有壓力傳感器、第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口、第一出氣口、第二出氣口和排氣口，所述第一管道連通所述儲氣罐的第一出氣口，所述第二管道連通所述儲氣罐的第二出氣口，所述第一進(jìn)氣口直接連接一回收氣供氣源，所述第二進(jìn)氣口間隔一第一電磁閥連通一新增氣供氣源，所述排氣口處設(shè)置一第二電磁閥，所述電磁閥和所述壓力傳感器均連接至一 PLC控制器。使用時，由壓力傳感器實時檢測儲氣罐的壓力，并反饋至所述PLC控制器處，當(dāng)儲氣罐內(nèi)的壓力低于PLC控制器設(shè)定壓力范圍之時，第二進(jìn)氣口處電磁閥就會自動開啟，進(jìn)行補(bǔ)氣，而當(dāng)儲氣罐內(nèi)的氣體壓力高于PLC控制器設(shè)定壓力范圍之時,排氣口處的電磁閥就會自動開啟，進(jìn)行排氣。在推薦的實施方式中，所述粉碎室設(shè)有側(cè)噴口和底噴口，所述粉碎室進(jìn)氣口同時連通該側(cè)噴口和該底噴口。在推薦的實施方式中，所述壓力傳感器靠近于所述儲氣罐第一出氣口或所述儲氣罐第二出氣口設(shè)置。在推薦的實施方式中，所述儲氣罐的體積為20L?200L。在推薦的實施方式中，還包括另一新增氣供氣源，其直接連接所述第一進(jìn)氣口。在推薦的實施方式中，所述氣流磨裝置為用于粉碎稀土磁鐵用合金或稀土磁鐵用合金粉末的氣本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點】
一種控制氣流磨裝置氣流的方法，其特征在于，包括如下的步驟：1)在恒壓供氣裝置與氣流磨粉碎室的連通處設(shè)置調(diào)節(jié)裝置；2)之后通過所述調(diào)節(jié)裝置以包括至少兩級的分級提高方式通入氣體，至達(dá)到所述氣流磨裝置的設(shè)定流量，且上一級較大流量為下一級較小流量1.4～16倍。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種控制氣流磨裝置氣流的方法，其特征在于，包括如下的步驟: 1)在恒壓供氣裝置與氣流磨粉碎室的連通處設(shè)置調(diào)節(jié)裝置； 2)之后通過所述調(diào)節(jié)裝置以包括至少兩級的分級提高方式通入氣體，至達(dá)到所述氣流磨裝置的設(shè)定流量，且上一級較大流量為下一級較小流量1.4?16倍。2.氣流磨裝置，包括恒壓供氣裝置和帶有側(cè)噴口和底噴口的粉碎室，其特征在于:所述側(cè)噴口和所述底噴口具有一共同進(jìn)氣口，所述共同進(jìn)氣口經(jīng)由至少兩條分別設(shè)置管道閥的管道連接所述恒壓裝置，每一管道分別具有不同的直徑，且上一級較大管道的直徑均為下一級較小管道的直徑1.2?4倍，通過所述最大管道流入的氣體流量或通過所述全部管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣流磨裝置，其特征在于:所述共同進(jìn)氣口分別通過第一管道和第二管道連接所述恒壓供氣裝置，所述第一管道上設(shè)置第一管道閥，所述第二管道上設(shè)置第二管道閥，且第二管道直徑為第一管道直徑的1.2?4倍，通過所述第二管道流入的氣體流量或通過所述第二管道與所述第一...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：張建洪，永田浩，王清江，歐陽小呂，
申請(專利權(quán))人：廈門鎢業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：福建;35