本實用新型專利技術公開了一種離子注入機中質量分析器的入口部件，包括材料均為高純度等靜壓石墨的第一平板和第二平板，第一平板與第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道；第一平板和第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋。本實用新型專利技術將直接接觸離子束的入口部件設計成等靜壓石墨材料，可以有效解決金屬入口部件不耐高溫的問題；且雜質含量降低到5ppm以內，形成高純度的等靜壓石墨材料，可以有效降低雜質含量對離子注入工藝參數的影響。將第一平板和第二平板的內表面設計成具有凸凹不平的花紋面，可以有效粘結非需要的離子束，提高入口部件收集非需要離子的能力。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體行業的離子注入設備，具體是涉及一種離子注入機中質量分析器的入口部件。
技術介紹
離子注入機主要由離子源、質量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統和靶室組成。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態粒子電離成離子，決定要注入離子的種類和束流強度。離子源直流放電或高頻放電產生的電子作為轟擊粒子，當外來電子的能量高于原子的電離電位時，通過碰撞使元素發生電離。碰撞后除了原始電子外，還出現正電子和二次電子。正離子進入質量分析器選出需要的離子，再經過加速器獲得較高能量，由四級透鏡聚焦后進入靶室，進行離子注入。質量分析器的入口部件是離子飛行管道的入口，質荷比不滿足摻雜條件的非需要的離子束在此收集，質荷滿足摻雜條件的離子束通過該入口部件，但是，現有技術中，該入口部件為金屬材料，存在耐高溫問題，且金屬材料存在雜質較多，容易造成金屬污染等問題。此外，該入口部件的內表面通常為光滑表面，無法有效的收集非需要的離子束。
技術實現思路
為了解決上述技術問題，本技術提出一種離子注入機中質量分析器的入口部件，能夠有效解決耐高溫問題，減少金屬污染，且可以有效粘結非需要的離子束。本技術的技術方案是這樣實現的:—種離子注入機中質量分析器的入口部件，包括材料均為高純度等靜壓石墨的第一平板和第二平板，所述第一平板與所述第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道；所述第一平板和所述第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋。作為本技術的進一步改進，兩個所述連接件的材料均為等靜壓石墨。作為本技術的進一步改進，所述等靜壓石墨的純度高于95ppm。本技術的有益效果是:本技術提供一種離子注入機中質量分析器的入口部件，將直接接觸離子束的入口部件設計成等靜壓石墨材料，由于等靜壓石墨具有良好的耐高溫特性，可以有效解決金屬入口部件不耐高溫的問題；且利用純化技術，最高可將等靜壓石墨的雜質含量降低到5ppm以內，形成高純度的等靜壓石墨材料，可以有效降低雜質含量對離子注入工藝參數的影響。尤其是將第一平板和第二平板的內表面設計成具有凸凹不平的花紋面，可以有效粘結非需要的離子束，提高入口部件收集非需要離子的能力。【附圖說明】圖1為本技術一視角結構示意圖；圖2為本技術另一視角結構示意圖。結合附圖，作以下說明:I——第一平板2——第二平板3——連接件 4——飛行通道5——花紋【具體實施方式】為使本技術能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本專利技術的【具體實施方式】做詳細的說明。如圖1和圖2所示，一種離子注入機中質量分析器的入口部件，包括材料均為高純度等靜壓石墨的第一平板I和第二平板2，所述第一平板與所述第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件3固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道4 ;所述第一平板和所述第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋5。這樣，本技術將直接接觸離子束的入口部件設計成等靜壓石墨材料，由于等靜壓石墨具有良好的耐高溫特性，可以有效解決金屬入口部件不耐高溫的問題；且利用純化技術，最高可將等靜壓石墨的雜質含量降低到5ppm以內，形成高純度的等靜壓石墨材料，可以有效降低雜質含量對離子注入工藝參數的影響。尤其是將第一平板和第二平板的內表面設計成具有凸凹不平的花紋面，可以有效粘結非需要的離子束，提高入口部件收集非需要離子的能力。優選的，兩個所述連接件的材料均為等靜壓石墨。優選的，所述等靜壓石墨的純度高于95ppm。本技術的工作原理為:在一定的磁場強度下，通過質量分析器(磁分析器)可改變入口部件內不同荷質比的離子偏轉路徑，從而將非需要的離子束篩選出來，并收集于入口部件的花紋面上。以上實施例是參照附圖，對本技術的優選實施例進行詳細說明。本領域的技術人員通過對上述實施例進行各種形式上的修改或變更，但不背離本技術的實質的情況下，都落在本技術的保護范圍之內。【主權項】1.一種離子注入機中質量分析器的入口部件，其特征在于:包括材料均為等靜壓石墨的第一平板(I)和第二平板(2)，所述第一平板與所述第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件(3)固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道(4);所述第一平板和所述第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋(5)。2.根據權利要求1所述的離子注入機中質量分析器的入口部件，其特征在于:兩個所述連接件的材料均為等靜壓石墨。3.根據權利要求1所述的離子注入機中質量分析器的入口部件，其特征在于:所述等靜壓石墨的純度高于95ppm。【專利摘要】本技術公開了一種離子注入機中質量分析器的入口部件，包括材料均為高純度等靜壓石墨的第一平板和第二平板，第一平板與第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道；第一平板和第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋。本技術將直接接觸離子束的入口部件設計成等靜壓石墨材料，可以有效解決金屬入口部件不耐高溫的問題；且雜質含量降低到5ppm以內，形成高純度的等靜壓石墨材料，可以有效降低雜質含量對離子注入工藝參數的影響。將第一平板和第二平板的內表面設計成具有凸凹不平的花紋面，可以有效粘結非需要的離子束，提高入口部件收集非需要離子的能力。【IPC分類】H01J37/317【公開號】CN204905209【申請號】CN201520550305【專利技術人】芮敏之 【申請人】美爾森先進石墨（昆山）有限公司【公開日】2015年12月23日【申請日】2015年7月27日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種離子注入機中質量分析器的入口部件，其特征在于：包括材料均為等靜壓石墨的第一平板(1)和第二平板(2)，所述第一平板與所述第二平板平行相對設置，且通過兩個連接件(3)固定連接起來，形成一截面為方形的飛行通道(4)；所述第一平板和所述第二平板的內表面具有凸凹不平的花紋(5)。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：芮敏之，
申請(專利權)人：美爾森先進石墨昆山有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32
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