渦旋壓縮機及其泄壓引流結構制造技術

本發明專利技術公開了一種渦旋壓縮機及其泄壓引流結構，泄壓引流結構，包括靜渦旋盤及動渦旋盤，靜渦旋盤上設置有與外部增焓裝置連接的靜盤增焓通路；動渦旋盤上設置有動盤增焓通路，動盤增焓通路具有用于與靜盤增焓通路的進氣連通口連通的增焓連通孔及與用于動渦旋盤及靜渦旋盤配合形成的壓縮腔連通的壓縮腔增焓孔；靜渦旋盤與動渦旋盤的密封鏡面上具有在非增焓階段與增焓連通孔連接的泄壓引流通道，泄壓引流通道在非增焓階段與低于動盤增焓通路內壓力的泄壓腔體連通；非增焓階段為壓縮腔增焓孔被靜渦旋盤的渦旋齒遮擋的階段。本發明專利技術提供的泄壓引流結構，降低膨脹損失及壓縮機功耗。

【技術實現步驟摘要】
渦旋壓縮機及其泄壓引流結構
本專利技術涉及制冷設備
，特別是涉及一種渦旋壓縮機及其泄壓引流結構。
技術介紹
在環境溫度較低時，空調器的蒸發溫度較低，會導致空調器的壓縮機壓縮比增大而引起排氣溫度迅速升高的情況。當排氣溫度超過壓縮機允許的工作范圍時，會致使壓縮機頻繁起停甚至于壓縮機燒毀。為了克服壓縮機低溫制熱性能差，排氣溫度高而可靠性降低的難題，以渦旋壓縮機為例，現有成熟的技術手段是向壓縮腔內噴入溫度和壓力相對較低的制冷劑氣體或者制冷劑氣液混合物，進而降到排氣溫度；同時，通過上述增焓設置，相當于增加了壓縮機制冷劑的吸入量，壓縮機的制熱量也會提高。目前，壓縮腔內補氣增焓的操作特征是：當壓縮腔內壓力達到一個設計值時(較低壓)開始對壓縮腔進行補氣增焓；當壓縮腔繼續壓縮時，壓力升高到另一個設計值時(較高壓)停止補氣增焓。其中，增焓通道與壓縮腔的通斷動作主要依靠渦旋盤上的渦旋齒遮掩增焓通道的增焓孔來實現。但是，向壓縮腔內周期性的補齊增焓規律是：連通(壓縮腔低壓)—補氣(壓縮腔不斷壓縮)—閉合(壓縮腔高壓)—連通(壓縮腔低壓)。當壓縮機運行在補氣增焓工況下時，增孔通道內的壓力為補氣增焓壓力。當壓縮機運行到增焓通道與壓縮腔剛斷開時，增焓通道內的壓力與之前連通的壓縮腔內的壓力一致，其壓力較高。而增焓通道在與壓縮腔剛連接時，壓縮腔的壓力較低，壓力較高的增焓通道內的高溫高壓氣體在與較低壓力的壓縮腔連通時，會向壓縮腔進行膨脹，進而造成膨脹損失，壓縮機功耗的上升，不利于壓縮機的高效性能。因此，如何降低膨脹損失及壓縮機功耗，是本領域技術人員目前需要解決的技術問題。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種泄壓引流結構，以降低膨脹損失及壓縮機功耗。本專利技術還提供了一種具有上述泄壓引流結構的渦旋壓縮機。為解決上述技術問題，本專利技術提供泄壓引流結構，包括靜渦旋盤及動渦旋盤，所述靜渦旋盤上設置有與外部增焓裝置連接的靜盤增焓通路；所述動渦旋盤上設置有動盤增焓通路，所述動盤增焓通路具有用于與所述靜盤增焓通路的進氣連通口連通的增焓連通孔及與用于所述動渦旋盤及所述靜渦旋盤配合形成的壓縮腔連通的壓縮腔增焓孔；所述靜渦旋盤與所述動渦旋盤的密封鏡面上具有在非增焓階段與所述增焓連通孔連接的泄壓引流通道，所述泄壓引流通道在非增焓階段與低于所述動盤增焓通路內壓力的泄壓腔體連通；所述非增焓階段為所述壓縮腔增焓孔被所述靜渦旋盤的渦旋齒遮擋的階段。優選地，上述泄壓引流結構中，所述密封鏡面包括所述靜渦旋盤朝向所述動渦旋盤的靜盤密封鏡面及所述動渦旋盤朝向所述靜渦旋盤的動盤密封鏡面；所述進氣連通口位于所述靜盤密封鏡面上，所述增焓連通孔位于所述動盤密封鏡面上。優選地，上述泄壓引流結構中，所述泄壓引流通道包括位于所述靜盤密封鏡面上的引流槽及位于所述動盤密封鏡面上的泄壓槽；所述泄壓槽與所述泄壓腔體連通，所述引流槽在非增焓階段與所述泄壓槽連通。優選地，上述泄壓引流結構中，所述泄壓槽遠離所述動渦旋盤中心的一端與所述動渦旋盤的外壁連通。優選地，上述泄壓引流結構中，所述引流槽具有用于與所述增焓連通孔連通的第一直槽段及用于與所述泄壓槽連通的第二直槽段，所述泄壓槽為直槽；所述引流槽與所述泄壓槽連通時所述第二槽段與所述泄壓槽重合。優選地，上述泄壓引流結構中，所述動盤增焓通路位于所述動渦旋盤外壁上的加工孔為螺紋孔，所述加工孔內設置有密封塞。本專利技術還提供了一種渦旋壓縮機，包括泄壓引流結構，所述泄壓引流結構為如上述任一項所述的泄壓引流結構。優選地，上述渦旋壓縮機中，所述泄壓腔體為所述渦旋壓縮機的上支架與所述動渦旋盤圍成的中壓腔體。優選地，上述渦旋壓縮機中，還包括連通所述渦旋壓縮機的殼體外壁及所述泄壓引流結構的泄壓引流通道的連通部件，所述連通部件上設置有在低于所述壓縮腔內壓力時關閉的電磁閥；所述泄壓腔體位于所述渦旋壓縮機的殼體外部。本專利技術提供的泄壓引流結構，在壓縮機不增焓補氣的狀態下(非增焓階段)，動渦旋盤相對于靜渦旋盤轉動，使得動渦旋盤上的壓縮腔增焓孔被靜渦旋盤的渦旋齒遮擋，而進氣連通口與增焓連通孔也相互錯開，使得動盤增焓通路形成封閉的結構，其內壓力較高；通過設置泄壓引流通道，使得泄壓引流通道在動渦旋盤相對于靜渦旋盤轉動的作用下與動盤增焓通路連通，動盤增焓通路與泄壓腔體連通，此時，泄壓腔體內的壓力低于動盤增焓通路內的壓力，進而使得動盤增焓通路內的壓力降低，通過降低動盤增焓通路內氣體的壓力，降低動盤增焓通路內的氣體向壓力較低的壓縮腔膨脹的膨脹量，降低了動盤增焓通路再次與壓縮腔連通時動盤增焓通路的氣體向壓縮腔內膨脹的膨脹損失，有效降低了壓縮機的功耗。本專利技術還提供了一種具有上述泄壓引流結構的渦旋壓縮機。由于上述泄壓引流結構具有上述技術效果，具有上述泄壓引流結構的渦旋壓縮機也應具有同樣的技術效果，在此不再一一累述。附圖說明圖1為本專利技術實施例所提供的渦旋壓縮機的結構示意圖；圖2為本專利技術實施例所提供的動渦旋盤的剖視示意圖；圖3為本專利技術實施例所提供的動渦旋盤的結構示意圖；圖4為本專利技術實施例所提供的靜渦旋盤的剖視示意圖；圖5為本專利技術實施例所提供的靜渦旋盤的結構示意圖；圖6為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第一狀態示意圖；圖7為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第二狀態示意圖；圖8為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第三狀態示意圖；圖9為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第四狀態示意圖；圖10為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第五狀態示意圖；圖11為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第六狀態示意圖；圖12為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第七狀態示意圖；圖13為本專利技術實施例所提供的泄壓引流結構的第八狀態示意圖；圖14為現有技術中增焓通路中壓力變化曲線示意圖；圖15為本專利技術實施例所提供的增焓通路中壓力變化曲線示意圖；其中，靜渦旋盤—1，靜盤密封鏡面—1a，動渦旋盤—2，動盤密封鏡面—2a，十字滑環—3，上支架—4，主平衡塊—5，驅動轉子—6，驅動軸—7，下支架—8，徑向油孔—9，下蓋—10，螺栓—11，下止推板—12，導油片—13，副軸承—14，殼體—15，主軸承—16，動盤增焓通路—17，壓縮腔增焓孔—17a，徑向增焓引流通道—17b，增焓連通孔—17c，加工孔—17d，靜盤增焓通路—18，靜盤徑向增焓通道—18a，靜盤軸向增焓通道—18b，進氣連通口—18c，外部增焓通道連接管—19，軸向吸氣管—20，上蓋—21，泄壓槽—22，引流槽—23，壓縮腔—24，中壓腔體—25，第一曲軸轉角—26，第二曲軸轉角—27。具體實施方式本專利技術的核心是提供一種泄壓引流結構，以降低膨脹損失及壓縮機功耗。本專利技術還提供了一種具有上述泄壓引流結構的渦旋壓縮機。為了使本
的人員更好地理解本專利技術方案，下面結合附圖和具體實施方式對本專利技術作進一步的詳細說明。請參考圖1-圖5，圖1為本專利技術實施例所提供的渦旋壓縮機的結構示意圖；圖2為本專利技術實施例所提供的動渦旋盤的剖視示意圖；圖3為本專利技術實施例所提供的動渦旋盤的結構示意圖；圖4為本專利技術實施例所提供的靜渦旋盤的剖視示意圖；圖5為本專利技術實施例所提供的靜渦旋盤的結構示意圖。在這一具體實施方式中，泄壓引流結構包括靜渦旋盤1及動渦旋盤2，靜渦旋盤1上設置有與外部增焓裝本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種泄壓引流結構，包括靜渦旋盤(1)及動渦旋盤(2)，其特征在于，所述靜渦旋盤(1)上設置有與外部增焓裝置連接的靜盤增焓通路(18)；所述動渦旋盤(2)上設置有動盤增焓通路(17)，所述動盤增焓通路(17)具有用于與所述靜盤增焓通路(18)的進氣連通口(18c)連通的增焓連通孔(17c)及與用于所述動渦旋盤(2)及所述靜渦旋盤(1)配合形成的壓縮腔(24)連通的壓縮腔增焓孔(17a)；所述靜渦旋盤(1)與所述動渦旋盤(2)的密封鏡面上具有在非增焓階段與所述增焓連通孔(17c)連接的泄壓引流通道，所述泄壓引流通道在非增焓階段與低于所述動盤增焓通路(17)內壓力的泄壓腔體連通；所述非增焓階段為所述壓縮腔增焓孔(17a)被所述靜渦旋盤(1)的渦旋齒遮擋的階段。

【技術特征摘要】
1.一種泄壓引流結構，包括靜渦旋盤(1)及動渦旋盤(2)，其特征在于，所述靜渦旋盤(1)上設置有與外部增焓裝置連接的靜盤增焓通路(18)；所述動渦旋盤(2)上設置有動盤增焓通路(17)，所述動盤增焓通路(17)具有用于與所述靜盤增焓通路(18)的進氣連通口(18c)連通的增焓連通孔(17c)及與用于所述動渦旋盤(2)及所述靜渦旋盤(1)配合形成的壓縮腔(24)連通的壓縮腔增焓孔(17a)；所述靜渦旋盤(1)與所述動渦旋盤(2)的密封鏡面上具有在非增焓階段與所述增焓連通孔(17c)連接的泄壓引流通道，所述泄壓引流通道在非增焓階段與低于所述動盤增焓通路(17)內壓力的泄壓腔體連通；所述非增焓階段為所述壓縮腔增焓孔(17a)被所述靜渦旋盤(1)的渦旋齒遮擋的階段。2.根據權利要求1所述的泄壓引流結構，其特征在于，所述密封鏡面包括所述靜渦旋盤(1)朝向所述動渦旋盤(2)的靜盤密封鏡面(1a)及所述動渦旋盤(2)朝向所述靜渦旋盤(1)的動盤密封鏡面(2a)；所述進氣連通口(18c)位于所述靜盤密封鏡面(1a)上，所述增焓連通孔(17c)位于所述動盤密封鏡面(2a)上。3.根據權利要求2所述的泄壓引流結構，其特征在于，所述泄壓引流通道包括位于所述靜盤密封鏡面(1a)上的引流槽(23)及位于所述動盤密封鏡面(2a)上的泄壓槽(22)；所述泄壓槽(22)...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉韻，康小麗，單彩俠，胡余生，劉雙來，陳肖汕，律剛，
申請(專利權)人：珠海格力節能環保制冷技術研究中心有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東,44