本發明專利技術提供了一種蒸鍍坩堝，包括坩堝本體及坩堝蓋，所述坩堝本體用于盛放蒸發材料，所述坩堝蓋設于所述坩堝本體上，并與所述坩堝本體相間隔，所述坩堝蓋內設有多個相間隔設置的擋板，所述擋板一端固定于所述坩堝蓋，另一端朝向所述坩堝本體延伸，所述擋板及所述坩堝蓋用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發的所述蒸發材料。本發明專利技術還提供了一種蒸鍍裝置。本發明專利技術提供的蒸鍍坩堝和蒸鍍裝置可減少坩堝蓋上的沉積材料脫落及防止沉積材料堵塞蒸發源。
【技術實現步驟摘要】
蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置
本專利技術涉及OLED顯示
，具體涉及一種OLED顯示器件制備工藝中的一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置。
技術介紹
OLED(OrganicLightEmittingDisplay，有機電致發光顯示器件)具有超薄、響應度高、對比度高、功耗低等優勢，近幾年在顯示領域產業化速度突飛猛進。在OLED材料的蒸鍍過程中，在真空環境下，將OLED材料放置于蓋有坩堝蓋的坩堝中，用電阻絲加熱方式加熱坩堝，使得坩堝中的OLED材料受熱后由固態轉化為熔融態進而蒸發。當OLED材料的蒸發速率達到要求并穩定后，打開坩堝蓋，OLED材料便以穩定的蒸發速率進行蒸鍍。其中，坩堝內的OLED材料在蒸發速率穩定前會在坩堝蓋內表面集結。坩堝蓋上的OLED材料累積到一定厚度后，由于重力作用，會脫離坩堝蓋而落入坩堝中。現有的坩堝蓋為光滑的圓弧蓋面，沉積于坩堝蓋上的OLED材料大多以大尺寸的薄片結構脫離并落入坩堝中，大尺寸沉積材料極易覆蓋蒸發源，使得OLED材料無法蒸發，蒸鍍工藝無法繼續進行，這種情況下，只能開腔清理及重新進行蒸鍍過程，嚴重影響到生產、實驗進度及器件性能。因此，如何減少坩堝蓋上沉積的蒸發材料脫落至坩堝中，防止堵塞蒸發源，是本領域技術人員亟需解決的技術問題之一。
技術實現思路
針對以上的問題，本專利技術的目的是提供一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，減少坩堝蓋上沉積的蒸發材料脫落至坩堝中，防止堵塞蒸發源。為了解決
技術介紹
中存在的問題，本專利技術提供了一種蒸鍍坩堝，包括坩堝本體及坩堝蓋，所述坩堝本體用于盛放蒸發材料，所述坩堝蓋設于所述坩堝本體上，并與所述坩堝本體相間隔，所述坩堝蓋內設有多個相間隔設置的擋板，所述擋板一端固定于所述坩堝蓋，另一端朝向所述坩堝本體延伸，所述擋板及所述坩堝蓋用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發的所述蒸發材料。其中，所述坩堝蓋包括蓋面，所述蓋面朝向所述坩堝本體，所述擋板包括安裝部與承載部，所述安裝部可拆卸地固定于所述蓋面，以便于拆卸所述擋板，所述承載部朝向所述坩堝本體方向延伸，用于沉積所述蒸發材料。其中，所述蓋面為圓弧形，包括中心區域和圍繞所述中心區域的周邊區域，多個所述擋板設于所述周邊區域，且設于所述中心區域的相對兩側。其中，所述擋板在垂直方向的投影落入所述坩堝本體內。其中，多個所述擋板沿著所述蓋面的徑向相對設置，且所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸方向與所述蓋面的軸向相交；沿著所述蓋面的所述中心區域至所述周邊區域的方向，所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸方向與所述蓋面軸向的夾角值逐漸增大。其中，沿著所述蓋面的所述中心區域至所述周邊區域的方向，所述擋板的所述承載部朝向所述坩堝本體的延伸長度逐漸增加。其中，所述擋板為弧形板，且所述擋板的承載部沿著所述蓋面的周向延伸，所述擋板與徑向相鄰的所述擋板及夾設于兩者之間的所述蓋面形成溝道，所述溝道沿著所述蓋面的周向延伸。其中，所述擋板的承載部沿著所述蓋面的徑向延伸，所述擋板與相鄰的所述擋板及夾設于兩者之間的所述蓋面形成溝道，所述溝道沿著所述蓋面的徑向延伸。本專利技術還提供了一種蒸鍍裝置，包括上述任一實施方式所述的蒸鍍坩堝。本申請實施方式提供的一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，通過在坩堝蓋的蓋面上設置多個擋板，所述擋板和所述蓋面共同用于承載受熱蒸發的蒸發材料，這樣一方面可增加蒸發材料于蓋面上的沉積面積，減輕單位面積內的沉積材料重量，從而減少蓋面上的沉積材料掉落至坩堝本體中；另一方面，多個擋板可將整個蓋面(大的沉積面)劃分為多個小的沉積面，以減小沉積材料集結成塊的尺寸，這樣使得掉落至坩堝本體中的沉積材料為小尺寸的塊體，從而避免沉積材料遮蓋蒸發源，影響蒸鍍工藝。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本專利技術提供的蒸鍍坩堝的截面圖。圖2是圖1提供的坩堝蓋的局部放大圖。圖3-1是本專利技術第一種實施例提供的坩堝蓋結構示意圖。圖3-2是本專利技術第二種實施例提供的坩堝蓋結構示意圖。圖3-3是本專利技術第三種實施例提供的坩堝蓋結構示意圖。圖3-4是本專利技術第四種實施例提供的坩堝蓋結構示意圖。圖4-1是本專利技術第五種實施例提供的蒸鍍坩堝的截面圖。圖4-2是圖4-1提供的坩堝蓋的結構示意圖。圖4-3是圖4-2沿a方向的截面圖。圖5-1是本專利技術第六種實施例提供的蒸鍍坩堝的截面圖。圖5-2是圖5-1提供的坩堝蓋的結構示意圖。圖5-3是圖5-2沿b方向的截面圖。圖6-1是本專利技術第七種實施例提供的蒸鍍坩堝結構示意圖。圖6-2是圖6-1提供的坩堝蓋的結構示意圖。具體實施方式下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。本專利技術實施例提供的一種蒸鍍坩堝，放置于蒸鍍裝置中，用于盛放待蒸發材料(蒸發源)以便于蒸鍍裝置將待蒸發材料加熱并鍍在基板上。所述待蒸發材料可以為金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及有機聚合物等，所述基板可以為金屬、半導體、絕緣體、塑料等。請一并參閱圖1和圖2，為本專利技術實施例提供的一種蒸鍍坩堝的截面圖，包括坩堝本體2及坩堝蓋1，所述坩堝本體2用于盛放蒸發材料3，所述坩堝蓋1設于所述坩堝本體2上，并與所述坩堝本體2相間隔。所述坩堝蓋1與所述坩堝本體2相間隔3～5mm。所述坩堝蓋1包括與所述坩堝本體2相對設置的蓋面11。所述坩堝蓋1內設有多個相間隔設置的擋板12，所述擋板12一端固定于所述坩堝蓋1的蓋面11上，另一端朝向所述坩堝本體2延伸，所述擋板12及所述坩堝蓋1用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發的所述蒸發材料3。具體而言，蒸發材料3受熱后蒸發并向上擴散，擴散的過程中遇到坩堝蓋1并在坩堝蓋1內表面集結成固態，本實施例在坩堝蓋1內設置擋板12，使得所述蒸發材料3可沉積于擋板12表面及坩堝蓋1的內表面，從而增加了蒸發材料3的沉積面積。本申請實施方式提供的一種蒸鍍坩堝，包括坩堝本體2和坩堝蓋1，所述坩堝蓋1在蒸發材料3的蒸發速度穩定前設于所述坩堝本體2上并與所述坩堝本體2相間隔，以沉積蒸發材料3，當蒸發速度穩定后，從所述坩堝本體2移除坩堝蓋3，所述蒸發材料3將蒸鍍到所需蒸鍍的基板上。本申請通過在坩堝蓋1的蓋面11上設置多個擋板12，所述擋板12和所述蓋面11共同用于承載受熱蒸發的蒸發材料3，一方面可增加蒸發材料3于蓋面11上的沉積面積，減輕單位面積內的沉積材料重量，從而減少蓋面11上的沉積材料掉落至坩堝本體2中；另一方面，擋板12將大的沉積面(整個蓋面)劃分為多個小的沉積面，以減小沉積材料集結成塊的尺寸，這樣使得掉落至坩堝本體2中的沉積材料為小尺寸的塊體，從而避免沉積材料遮蓋蒸發源3，影響蒸鍍工藝。進一步地，所述蓋面11可以為平面或弧面，優選地，為了增加所述蒸發源3在所述蓋面11上的沉積面積，所述蓋面11可為弧形面。所述擋板12可以為長條形、弧形、波浪形等形狀，在本申請中不做限制。所述擋板12之間可以相鄰并列排列于蓋面11上，也可無規則排列于蓋面11上，還可以蓋面11的中心為對稱中心環繞排列于蓋面11上，在本實施例中對于擋板12之間的排列方式不做限定。所述坩堝蓋1的材質可以為陶瓷或者金屬或者本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括坩堝本體及坩堝蓋，所述坩堝本體用于盛放蒸發材料，所述坩堝蓋設于所述坩堝本體上，并與所述坩堝本體相間隔，所述坩堝蓋內設有多個相間隔設置的擋板，所述擋板一端固定于所述坩堝蓋，另一端朝向所述坩堝本體延伸，所述擋板及所述坩堝蓋用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發的所述蒸發材料。
【技術特征摘要】
1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括坩堝本體及坩堝蓋，所述坩堝本體用于盛放蒸發材料，所述坩堝蓋設于所述坩堝本體上，并與所述坩堝本體相間隔，所述坩堝蓋內設有多個相間隔設置的擋板，所述擋板一端固定于所述坩堝蓋，另一端朝向所述坩堝本體延伸，所述擋板及所述坩堝蓋用于承載所述蒸鍍坩堝中受熱蒸發的所述蒸發材料。2.根據權利要求1所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述坩堝蓋包括蓋面，所述蓋面朝向所述坩堝本體，所述擋板包括安裝部與承載部，所述安裝部可拆卸地固定于所述蓋面，以便于拆卸所述擋板，所述承載部朝向所述坩堝本體方向延伸，用于沉積所述蒸發材料。3.根據權利要求2所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蓋面為圓弧形，包括中心區域和圍繞所述中心區域的周邊區域，多個所述擋板設于所述周邊區域，且設于所述中心區域的相對兩側。4.根據權利要求3所述的一種蒸鍍坩堝，其特征在于，所述擋板在垂直方向的投影落入所述坩堝本體內。5.根據權利要求4所述的一種蒸鍍坩堝...
【專利技術屬性】
技術研發人員：任曉光，
申請(專利權)人：武漢華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北,42
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。