The embodiment of the invention provides a mask assembly and assembling method thereof, relates to the technical field of evaporation, relative to the existing technology, can improve the accuracy of the first supporting bar net and occlusion accuracy. The mask assembly includes a frame, frame has a hollow region; mask, mask plate arranged in the hollow frame, and the mask of the opposite ends are fixed on the frame; the first support rod for supporting the mask plate; the first supporting bar includes stacked first and second support sub sub support a hollow area of the first and second support sub sub support bars arranged in the frame, and the first sub supporting bar and second opposite ends of the supporting bar opposite ends are fixed on the frame; wherein, the first sub support in the second sub support on the orthographic projection is located on the second support; second supporting strip thickness less than the first thickness of sub support. Used in mask assemblies.
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種掩膜組件及其組裝方法
本專利技術(shù)涉及蒸鍍
,尤其涉及一種掩膜組件及其組裝方法。
技術(shù)介紹
目前,OLED(OrganicLightEmittingDiode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示裝置由于具有自發(fā)光、反應(yīng)快、亮度高、輕薄等諸多優(yōu)點(diǎn),而得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。其中,OLED在制作時(shí)常采用蒸鍍工藝、噴墨打印工藝等方式,而在制作小尺寸有機(jī)電致發(fā)光二極管顯示面板(OLEDPanel)的過(guò)程中,蒸鍍工藝中所使用的蒸鍍掩膜板(Mask)起到尤其重要的作用。傳統(tǒng)的蒸鍍掩膜板分為開口掩膜板(OpenMask)和精細(xì)金屬掩膜板(FineMetalMask,簡(jiǎn)稱FMM),包含有開口掩膜板的掩膜組件制作時(shí)技術(shù)難度較低,而包含有FMM的掩膜組件制作時(shí)技術(shù)難度極大。包含有FMM的掩膜組件通常由框架(Frame)、支撐條(Howling)以及FMM等組成。然而,傳統(tǒng)的支撐條由于厚度較大,因而支撐條在張網(wǎng)時(shí)需要較大的張網(wǎng)力,而較大的張網(wǎng)力容易使支撐條變形,例如使支撐條彎曲(HowlingBending),這樣便很難保證支撐條具有良好的直線度,從而影響了支撐條的張網(wǎng)精度(支撐條在框架上的實(shí)際位置與預(yù)設(shè)位置的差距),而張網(wǎng)精度的降低會(huì)導(dǎo)致支撐條的遮擋精度(支撐條的實(shí)際遮擋區(qū)域與預(yù)設(shè)遮擋區(qū)域差距)降低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的實(shí)施例提供一種掩膜組件及其組裝方法,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù),可提高第一支撐條的張網(wǎng)精度和遮擋精度。為達(dá)到上述目的,本專利技術(shù)的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:一方面,提供一種掩膜組件,包括:框架,所述框架具有中空區(qū)域;掩膜板,所述掩膜板跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述掩膜板的相對(duì)兩 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種掩膜組件,其特征在于,包括:框架,所述框架具有中空區(qū)域;掩膜板,所述掩膜板跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述掩膜板的相對(duì)兩端固定在所述框架上;第一支撐條,用于支撐所述掩膜板;所述第一支撐條包括層疊設(shè)置的第一子支撐條和第二子支撐條,所述第一子支撐條和所述第二子支撐條跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述第一子支撐條的相對(duì)兩端和所述第二子支撐條的相對(duì)兩端均固定在所述框架上;其中,所述第一子支撐條在所述第二子支撐條上的正投影位于所述第二子支撐條內(nèi);所述第二子支撐條的厚度小于所述第一子支撐條的厚度。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種掩膜組件,其特征在于,包括:框架,所述框架具有中空區(qū)域;掩膜板,所述掩膜板跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述掩膜板的相對(duì)兩端固定在所述框架上;第一支撐條,用于支撐所述掩膜板;所述第一支撐條包括層疊設(shè)置的第一子支撐條和第二子支撐條,所述第一子支撐條和所述第二子支撐條跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述第一子支撐條的相對(duì)兩端和所述第二子支撐條的相對(duì)兩端均固定在所述框架上;其中,所述第一子支撐條在所述第二子支撐條上的正投影位于所述第二子支撐條內(nèi);所述第二子支撐條的厚度小于所述第一子支撐條的厚度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜組件包括至少兩個(gè)第一支撐條;所述第一支撐條之間相互平行。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜組件還包括:固定在所述框架上的輔助件,所述輔助件具有標(biāo)記圖案。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜組件,其特征在于,所述輔助件包括兩個(gè)輔助條,兩個(gè)所述輔助條分別設(shè)置在所述框架的相對(duì)兩邊,每個(gè)所述輔助條背離所述框架的一側(cè)的兩端設(shè)置有孔洞。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其特征在于,所述第一子支撐條的寬度比所述第二子支撐條的寬度小300μm-500μm。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜板為精細(xì)金屬掩膜板,所述精細(xì)金屬掩膜板包括多個(gè)相互平行的掩膜條。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩膜組件,其特征在于,所述第一支撐條與所述掩膜條相互垂直。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜組件還包括第二支撐條;所述第二支撐條跨設(shè)于所述框架的中空區(qū)域,且所述第二支撐條的相對(duì)兩端固定在所述框架上;其中,所述第二支撐條與所述第一支撐條交叉設(shè)置。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜組件,其特征在于,所述第二支撐條包括疊層設(shè)置的第三子支撐條和第四子支撐條;其中,所述第三子支撐條在所述第四子支撐條上的正投影位于所述第四子支撐條內(nèi);所述第四子支撐條的厚度小于所述第三子支撐條的厚度。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜板為精細(xì)金屬掩膜板,所述精細(xì)金屬掩膜板包括多個(gè)相互平行...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:張微,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司,
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:北京,11
還沒(méi)有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。