一種電鍍裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術涉及電鍍設備領域，具體的說是一種電鍍裝置，包括支座、處理容器、空心轉軸、回收容器、電刷單元、陽極棒、儲存箱、循環(huán)泵、電機和控制器，處理容器位于支座上方并通過空心轉軸與支座相連接；回收容器用于回收處理容器排出的電鍍液；電刷單元使處理容器與電源的負極相連；儲存箱用于存放從空心轉軸排出的電鍍完成的鍍件；循環(huán)泵用于循環(huán)利用電鍍液；電機用于驅動空心轉軸轉動。本發(fā)明專利技術主要用于0.1?5000微米的粉末體，超小型電容器、電阻器、二極管、連接器、彈簧開關、釘子、螺釘、螺母和墊圈等小零件的電鍍，其能夠提高小零件的電鍍質量、提高處理容器的使用壽命、降低小零件的損壞率，以及提高本發(fā)明專利技術的安全使用性能。

Electroplating device

The present invention relates to the field of electroplating equipment, in particular to an electroplating device, comprising a support, container, container, hollow shaft, recovery unit, brush anode, storage tank, circulating pump, motor and controller, handle container is a support above and connected through the hollow shaft and the bearing; recycling containers for electroplating liquid recovery the processing vessel from the cathode unit; brush handle container and connected to the power supply; storage box for storage of electroplating plating discharged from the hollow shaft complete; circulating pump for recycling electroplating solution; motor for driving a hollow rotating shaft. The invention is mainly used for 0.1 5000 micron powder, electroplating ultra small capacitors, resistors, diodes, switches, connectors, spring nails, screws, nuts and washers and other small parts, which can improve the small parts of the electroplating quality, improve the service life of the container, reduce the damage rate and small parts. To improve the safety performance of the invention.

【技術實現步驟摘要】
一種電鍍裝置
本專利技術涉及電鍍設備領域，具體的說是一種電鍍裝置。
技術介紹
公開號為101139732的一項中國專利，公開了一種小零件的電鍍處理裝置，該電鍍裝置利用垂直旋轉軸使收容有小零件的處理容器旋轉而使小零件接觸電極環(huán)，并一邊使電鍍液從處理容器的內部向外部流通，一邊從電極向處理容器內的電鍍藥水通電，從而對小零件進行電鍍。處理容器具有使電鍍液從處理容器的內部向外部流通的流出機構。在該裝置中，作為流出機構利用的是均勻分布在絕緣底板上的厚度小于小零件的墊片。墊片墊在絕緣濾網和電極環(huán)之間，使電極環(huán)與絕緣底板之間形成縫隙，電鍍液從縫隙中流出，而小零件仍然留在處理容器內。電鍍工作結束后，通過提高垂直旋轉軸的轉速，將處理容器中的電鍍液全部排出。在由墊片形成的流出機構中，存在以下問題：1.小零件的破損。一道電鍍工序結束后，為了將處理容器中的電鍍液全部排出，需要增加垂直轉軸的轉速來提高處理容器內電鍍液的離心力，小零件與電極環(huán)之間的線速度增大。當電鍍液將要排凈時，小零件與電極環(huán)之間缺少了電鍍液的潤滑，小零件與電極環(huán)之間形成干摩擦，再加上線速度的增大，很容易引起小零件的破損。2.電鍍不良品增多。墊片通過螺釘與絕緣底板還有電極環(huán)相連，螺釘擰緊扭力的不同，使得電極環(huán)與絕緣底板之間的間隙不一樣，在旋轉的過程中，易引起處理容器受力不均，從而導致絕緣底板的變形，進而造成絕緣底板與電極環(huán)之間的縫隙大小難以控制的情況；一些小零件易卡在縫隙中，無法完全電鍍，或者電鍍層不均勻，這樣使得電鍍的合格率下降。鑒于此，本專利技術提出了一種電鍍裝置，能夠克服上述現有技術中的部分技術缺陷，具有較好的電鍍效果，其具體有益效果如下：1.本專利技術所述的一種電鍍裝置，所述的上蓋、底座與電極環(huán)之間絕緣設置，相對于現有技術，可提高本專利技術的安全性。2.本專利技術所述的一種電鍍裝置，所述的電極環(huán)上設置的擋板能夠對電鍍液和帶鍍件進行攪拌，使帶鍍件均勻受鍍，電鍍效果好；并且在排出電鍍液時，擋板能夠解決鍍件與電極環(huán)之間摩擦的問題；所述的擋板為奇數個，在電鍍的過程中使處理容器受力不平衡而產生振動，以實現待鍍件的間斷式電鍍，鍍件的鍍層均勻，鍍層效果好。3.本專利技術所述的一種電鍍裝置，在取出鍍件時，無需將處理容器拆解，避免了反復拆解處理容器造成連接不緊密以及各零件之間受力不均的情況。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是：本專利技術提供的一種電鍍裝置，主要用于0.1-5000微米的粉末體、超小型電容器、電阻器、二極管、連接器、彈簧開關、釘子、螺釘、螺母和墊圈等小型零件的電鍍，其能夠提高小零件的電鍍質量、提高處理容器的使用壽命、降低小零件的損壞率，以及提高本專利技術的安全使用性能。本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是：本專利技術所述的一種電鍍裝置，包括支座、處理容器、空心轉軸、回收容器、電刷單元、陽極棒、儲存箱、循環(huán)泵、電機和控制器，所述的處理容器位于支座上方并通過空心轉軸與支座相連接；所述的空心轉軸通過推力軸承和深溝球軸承安裝支座上，處理容器的電鍍室與空心轉軸相連通，電鍍室內的鍍件可通過空心轉軸排出；所述的回收容器用于回收處理容器排出的電鍍液；所述的電刷單元使處理容器與電源的負極相連；所述的陽極棒與電鍍液相接觸，陽極棒作為電鍍的陽極；所述的儲存箱用于存放從空心轉軸排出的電鍍完成的鍍件；所述的循環(huán)泵用于循環(huán)利用電鍍液，循環(huán)泵的進水口與回收容器相連，出水口與噴頭相連，噴頭位于處理容器上方并向處理容器內輸入電鍍液；所述的電機安裝在支座上，電機通過帶傳動驅動空心轉軸轉動。所述的處理容器包括上蓋、絕緣墊圈、電極環(huán)、絕緣底板、底座、連接螺栓和錐形塞，所述的上蓋、絕緣墊圈、電極環(huán)、絕緣底板和錐形塞圍成的一個開放式腔室為電鍍室；所述的上蓋、絕緣墊圈、電極環(huán)、絕緣底板和底座由上向下依次布置并通過連接螺栓連接；電極環(huán)沿圓周設置有漏斗狀的排水孔，漏斗狀的排水孔有利于電鍍液的排出，排水孔內設有絕緣過濾網，絕緣過濾網用于過濾掉鍍件，只讓電鍍液從排水孔排出；排水孔上安裝有閥體，閥體用于控制電鍍室中電鍍液的排出，電鍍室內的電鍍液經閥體排出并流入到回收容器中；所述的絕緣底板的中部設置有排料孔，絕緣底板的底部呈漏斗狀結構，這樣有利于鍍件的收集，排料孔與空心轉軸相連通；所述的錐形塞塞在排料孔上，錐形塞可防止電鍍液從排水孔漏出；所述的空心轉軸垂直焊接在底座上。相對于現有技術，本專利技術的處理容器易于取出鍍件。優(yōu)選的，所述的電極環(huán)內側設置有環(huán)形槽，環(huán)形槽的截面形狀為圓弧形，環(huán)形槽可增大電極環(huán)接觸鍍件的數量，從而提高電鍍效率，并且相對于現有技術中直壁式的電極環(huán)可防止鍍件堆積在電極環(huán)的根部，從而造成大量不良品的產生；環(huán)形槽內設置有多個傾斜的圓弧形擋板，多個擋板向逆時針方向傾斜，電極環(huán)電鍍時順時針轉動，擋板對電鍍液和鍍件具有一定的攪拌作用，使電鍍液和鍍件有一個起伏變化的過程，可防止單個鍍件長時間與電極環(huán)接觸而造成鍍層不均勻的情況，以及避免出現電鍍液分布不均勻的情況，電鍍完成后排出電鍍室內的電鍍液時，電源斷開，電極環(huán)逆時針轉動，擋板對鍍件有一個支撐作用，擋板抵住鍍件，防止鍍件與電極環(huán)之間形成干摩擦，電鍍液從排水孔排出；多個擋板沿著電極環(huán)的圓周均勻布置，擋板的數量為奇數個，奇數個擋板可使處理容器在轉動時受力不平衡，從而使處理容器在轉動時產生輕微振動，進而使電極環(huán)與鍍件之間形成間斷式電鍍，由于電鍍液具有緩沖作用，電鍍液可避免電極環(huán)碰壞鍍件，所述的排水孔位于擋板的內側根部，在電鍍完成后排出電鍍室內的電鍍液時，電源斷開，電極環(huán)逆時針轉動，擋板對電鍍液同樣具有阻擋的作用，將排水孔設置在擋板的內側根部，有利于電解液的排出。優(yōu)選的，所述的閥體包括變量電磁閥、無線收發(fā)模塊、控制芯片和鋰電池；所述的變量電磁閥安裝在排水孔上；所述的無線收發(fā)模塊用于接收信號；所述的控制芯片用于對無線收發(fā)模塊接收到的信號進行處理并控制變量電磁閥的開啟與關閉；鋰電池用于為變量電磁閥、無線收發(fā)模塊和控制芯片供電。在進行電鍍時，變量電磁閥小流量的將電鍍液排出，可避免因大流量排出電鍍液而造成鍍件大量聚集在排水孔的情況，在電鍍完成后，變量電磁閥大流量的將電鍍液排出，可使電鍍液快速排出。優(yōu)選的，所述的上蓋、電極環(huán)、絕緣底板和底座上均設置有鉸制的光孔，光孔的直徑等于連接螺栓的直徑，可防止在轉動情況下上蓋、電極環(huán)、絕緣底板和底座產生錯位，而造成鍍件夾在連接的細縫處的情況，所述的連接螺栓為絕緣螺栓，連接螺栓與上蓋和底座的連接處設有絕緣墊片，絕緣的連接螺栓可防止上蓋和底座帶電，相對于現有技術，提高了本專利技術的安全性。優(yōu)選的，所述的電刷單元設置有多個，多個電刷單元沿處理容器外側均勻布置；電刷單元包括推桿、電刷和絕緣層，所述的推桿固定在回收容器內壁，所述的電刷安裝在推桿的頂部，電刷與推桿之間設有絕緣層，電刷與電極環(huán)相接觸。多個電刷單元還可對旋轉的處理容器進行支撐，以防止處理容器的振動過大而造成設備的損壞。優(yōu)選的，所述的推桿為氣動推桿，氣動推桿能夠根據處理容器的振動進行自適應調節(jié)，以適應處理容器的正常振動，保證電刷與電極環(huán)的良好接觸，同時氣動推桿能夠對處理容器進行支撐，防止處理容器振動程度過大而造成損害；在電極環(huán)反向轉動時，電源斷開，氣動推桿縮回，使電刷離開電極環(huán)，避免電刷與電極環(huán)之間的磨損。優(yōu)選的，所本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種電鍍裝置，包括支座(1)、處理容器(2)、空心轉軸(3)、回收容器(4)、電刷單元(5)、陽極棒(6)、儲存箱(7)、循環(huán)泵(8)、電機(9)和控制器，其特征在于：所述的處理容器(2)位于支座(1)上方并通過空心轉軸(3)與支座(1)相連接，處理容器(2)的電鍍室與空心轉軸(3)相連通；所述的回收容器(4)用于回收處理容器(2)排出的電鍍液；所述的電刷單元(5)用于使處理容器(2)與電源的負極相連；所述的陽極棒(6)與電鍍液相接觸；所述的儲存箱(7)用于存放電鍍完成的鍍件；所述的循環(huán)泵(8)用于循環(huán)利用電鍍液；所述的電機(9)安裝在支座(1)上，電機(9)用于驅動空心轉軸(3)轉動；其中：所述的處理容器(2)包括上蓋(21)、絕緣墊圈(22)、電極環(huán)(23)、絕緣底板(24)、底座(25)、連接螺栓(26)和錐形塞(28)，所述的上蓋(21)、絕緣墊圈(22)、電極環(huán)(23)、絕緣底板(24)和底座(25)由上向下依次布置并通過連接螺栓(26)連接；電極環(huán)(23)沿圓周設置有漏斗狀的排水孔，排水孔內設有絕緣過濾網(233)，排水孔上安裝有閥體(234)，閥體(234)用于控制電鍍室中電鍍液的排出；所述的絕緣底板(24)的底部呈漏斗狀結構，絕緣底板(24)的中部設置有排料孔，排料孔與空心轉軸(3)相連通；所述的錐形塞(28)塞在排料孔上。...

【技術特征摘要】
1.一種電鍍裝置，包括支座(1)、處理容器(2)、空心轉軸(3)、回收容器(4)、電刷單元(5)、陽極棒(6)、儲存箱(7)、循環(huán)泵(8)、電機(9)和控制器，其特征在于：所述的處理容器(2)位于支座(1)上方并通過空心轉軸(3)與支座(1)相連接，處理容器(2)的電鍍室與空心轉軸(3)相連通；所述的回收容器(4)用于回收處理容器(2)排出的電鍍液；所述的電刷單元(5)用于使處理容器(2)與電源的負極相連；所述的陽極棒(6)與電鍍液相接觸；所述的儲存箱(7)用于存放電鍍完成的鍍件；所述的循環(huán)泵(8)用于循環(huán)利用電鍍液；所述的電機(9)安裝在支座(1)上，電機(9)用于驅動空心轉軸(3)轉動；其中：所述的處理容器(2)包括上蓋(21)、絕緣墊圈(22)、電極環(huán)(23)、絕緣底板(24)、底座(25)、連接螺栓(26)和錐形塞(28)，所述的上蓋(21)、絕緣墊圈(22)、電極環(huán)(23)、絕緣底板(24)和底座(25)由上向下依次布置并通過連接螺栓(26)連接；電極環(huán)(23)沿圓周設置有漏斗狀的排水孔，排水孔內設有絕緣過濾網(233)，排水孔上安裝有閥體(234)，閥體(234)用于控制電鍍室中電鍍液的排出；所述的絕緣底板(24)的底部呈漏斗狀結構，絕緣底板(24)的中部設置有排料孔，排料孔與空心轉軸(3)相連通；所述的錐形塞(28)塞在排料孔上。2.根據權利要求1所述的一種電鍍裝置，其特征在于：所述的電極環(huán)(23)內側設置有環(huán)形槽(231)，環(huán)形槽(231)的截面形狀為圓弧形，環(huán)形槽(231)內設置有多個傾斜的圓弧形擋板(...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：林春芳，葛晶云，陳青青，夏巧巧，
申請(專利權)人：林春芳，
類型：發(fā)明
國別省市：廣東,44