【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體制造領域，并且更具體而言涉及一種用于多層清洗設備的供液裝置。
技術介紹
1、本技術基于單層化學供液控制裝置。
2、圖1示出了依據現有技術的供液裝置，即當前的單層化學供液裝置被設計為：機器開機時，開關閥5.2和開關閥5.3打開，用于化學供液的供應源1和供應源2開始供液，流量傳感器4.2和流量傳感器4.3開始記錄流量。當液位傳感器6檢測到槽體1的液位到達預定位置時，泵3開始啟動，同時開關閥5.4打開，加熱器7開始工作，化學液開始自循環并加熱。
3、當液位傳感器檢測到槽體1的液位為高液位時，開關閥5.4關閉，同時開關閥5.1打開，開始為槽體2供液，流量傳感器4.1實時反饋流量給泵3，直到流量到達穩定數值。當液位傳感器6再次檢測到液位到達高液位時，供應源1和供應源2停止供液；加熱器7檢測到溫度達到要求后，機器開始正常運行。
4、在此，溢流槽體8.1和溢流槽體8.2為溢流槽體為了將多余的液體流回槽體1，而排液開關閥5.5用于排液。
5、當前的供液裝置存在的問題如下：目前的單層配置的產量受限，搭配大產量的槽式清洗機時，需要兩套此設備才能匹配產能，會造成成本上升并且占地空間大。
技術實現思路
1、本技術的目的旨在解決現有技術中存在的上述問題和缺陷中的至少一方面，即如何在不占用過多空間的情況下提出一種適用于多層清洗設備的供液裝置。針對該技術問題，本技術的技術方案提出多層供液槽，其共用相同的供應源的控制閥、加熱器等部件，既可以滿足多層清
2、具體而言，本技術提出了一種用于多層清洗設備的供液裝置，其中，所述多層清洗設備包括第一清洗槽和至少一層第二清洗槽，所述供液裝置包括：
3、供液槽，所述供液槽被構造為與至少一個供應源相連接，以便為所述清洗槽供液；
4、與所述第一清洗槽相對應的第一供液回路以及與所述至少一層第二清洗槽相對應的至少一個第二供液回路；
5、加熱回路，所述加熱回路為所述供液槽中的液體加熱；
6、泵，所述泵為所述第一供液回路、至少一個第二供液回路以及所述加熱回路提供動力；以及
7、回路選擇閥，所述回路選擇閥被構造用于從所述第一供液回路、至少一個第二供液回路以及所述加熱回路中選擇至少一個回路。
8、在依據本技術所提出的供液裝置之中，依據本技術所提出的供液裝置能夠同時處理位于兩層清洗槽體中的多個電池片，使得清洗設備的清洗能力大大加強，產能大大提高，而且能夠匹配大產能槽式清洗機。此外，相較于原先的必須配置兩套獨立的供液裝置的解決方案也可以大大節省空間。
9、在依據本技術的一個實施例之中，所述回路選擇閥包括：
10、與所述第一供液回路相對應的第一調節閥以及與所述至少一個第二供液回路相對應的至少一個第二調節閥；以及
11、與所述加熱回路相對應的加熱調節閥。
12、在依據本技術的一個實施例之中，所述供液裝置還包括：
13、與所述第一清洗槽相對應的第一溢流槽體以及與所述至少一層第二清洗槽相對應的至少一個第二溢流槽體；以及
14、連接所述第一溢流槽體和所述供液槽的第一溢流回路以及連接所述至少一個第二溢流槽體和所述供液槽的至少一個第二溢流回路。
15、在依據本技術的一個實施例之中，所述第一溢流槽體被設置在所述第一清洗槽的兩端，并且所述至少一個第二溢流槽體被設置在所述至少一層第二清洗槽的兩端。
16、在依據本技術的一個實施例之中，所述供液裝置還包括排液閥，所述排液閥被設置在所述供液槽的底部。
17、在依據本技術的一個實施例之中，所述供液裝置還包括液位傳感器，所述液位傳感器被構造用于獲取所述供液槽中的液體的高度數據。
18、在依據本技術的一個實施例之中，所述供液裝置還包括：
19、與所述第一供液回路相對應的第一流量傳感器以及與所述至少一個第二供液回路相對應的至少一個第二流量傳感器。
20、在依據本技術的一個實施例之中，所述至少一個供應源包括兩個供應源，所述兩個供應源分別供應不同的液體。
21、在依據本技術的一個實施例之中，所述兩個供應源和所述供液槽之間分別設置有流量傳感器和調節閥。
22、在依據本技術的一個實施例之中，所述供液槽的上部設置有溢流孔，和/或，所述供液裝置包括兩個第二供液回路。
23、綜上所述，在依據本技術所提出的供液裝置之中，依據本技術所提出的供液裝置能夠同時處理位于兩層清洗槽體中的多個電池片，使得清洗設備的清洗能力大大加強，產能大大提高，而且能夠匹配大產能槽式清洗機。此外，相較于原先的必須配置兩套獨立的供液裝置的解決方案也可以大大節省空間。
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1.一種用于多層清洗設備的供液裝置，其中，所述多層清洗設備包括第一清洗槽和至少一層第二清洗槽，其特征在于，所述供液裝置包括：
2.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述回路選擇閥包括：
3.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括：
4.根據權利要求3所述的供液裝置，其特征在于，所述第一溢流槽體被設置在所述第一清洗槽的兩端，并且所述至少一個第二溢流槽體被設置在所述至少一層第二清洗槽的兩端。
5.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括排液閥，所述排液閥被設置在所述供液槽的底部。
6.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括液位傳感器，所述液位傳感器被構造用于獲取所述供液槽中的液體的高度數據。
7.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括：
8.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述至少一個供應源包括兩個供應源，所述兩個供應源分別供應不同的液體。
9.根據權利要求8所述的供液裝置，其特征在于，
10.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液槽的上部設置有溢流孔，和/或，所述供液裝置包括兩個第二供液回路。
...【技術特征摘要】
1.一種用于多層清洗設備的供液裝置，其中，所述多層清洗設備包括第一清洗槽和至少一層第二清洗槽，其特征在于，所述供液裝置包括：
2.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述回路選擇閥包括：
3.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括：
4.根據權利要求3所述的供液裝置，其特征在于，所述第一溢流槽體被設置在所述第一清洗槽的兩端，并且所述至少一個第二溢流槽體被設置在所述至少一層第二清洗槽的兩端。
5.根據權利要求1所述的供液裝置，其特征在于，所述供液裝置還包括排液閥，所述排液閥被設置在所述供液槽的底部。
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【專利技術屬性】
技術研發人員：付金海，高志峰，吳晉，黃允文，劉二壯，
申請(專利權)人：上海普達特設備科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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