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    Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng)技術(shù)方案

    技術(shù)編號:6793048 閱讀:226 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及Low-E玻璃的真空鍍膜操作中的設(shè)備,特別是一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng)。它包括負(fù)壓室,其特征在于:該負(fù)壓室具有一入口閘門,該入口閘門前具有基片輸送帶;該負(fù)壓室上具有進(jìn)氣閥和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。它主要解決現(xiàn)有將基片人工輸入負(fù)壓室并進(jìn)行抽真空操作的工作效率較低,影響生產(chǎn)效率的技術(shù)問題,它可將該工位的工作節(jié)拍提高到28秒/節(jié)拍,提高了生產(chǎn)效率。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及Low-E玻璃的真空鍍膜操作中的設(shè)備,特別是一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng)
    技術(shù)介紹
    Low-E玻璃又稱低輻射玻璃,是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性,使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比,具有優(yōu)異個隔熱效果和良好的透光性。對于Low-E玻璃上鍍膜的方式主要采用真空鍍膜的方式,而真空鍍膜的操作主要是在真空室(或負(fù)壓室)中進(jìn)行。目前,將Low-E玻璃基片輸送到負(fù)壓室的操作主要采用人工搬運(yùn)輸送操作,并在基片輸送到位后再采用抽真空的方式來實(shí)現(xiàn)鍍膜操作的真空環(huán)境。 這種操作方式的工作效率十分低,即便是在操作非常熟練的情況下,該工位的工作節(jié)拍也要達(dá)到45秒/節(jié)拍,以致于降低了生產(chǎn)效率。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),主要解決現(xiàn)有將基片人工輸入負(fù)壓室并進(jìn)行抽真空操作的工作效率較低,影響生產(chǎn)效率的技術(shù)問題,它可將該工位的工作節(jié)拍提高到觀秒/節(jié)拍,提高了生產(chǎn)效率。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)是這樣實(shí)現(xiàn)的。一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),它包括負(fù)壓室,其特征在于該負(fù)壓室具有一入口閘門,該入口閘門前具有基片輸送帶;該負(fù)壓室上具有進(jìn)氣閥和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。所述的Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),其特征在于該負(fù)壓形成裝置包括與負(fù)壓室上真空抽氣口連接的管線,管線上具有抽氣閥和儲氣罐,管線的另一端則連接有真空泵。本專利技術(shù)系統(tǒng)的主要優(yōu)點(diǎn)在于本專利技術(shù)裝置通過其結(jié)構(gòu)設(shè)置,可將基片輸入負(fù)壓室并制造真空鍍膜環(huán)境這個工位的工作節(jié)拍提升為觀秒/節(jié)拍,達(dá)到提高工作效率的目的。附圖說明圖1是本專利技術(shù)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。 具體實(shí)施例方式請參閱圖1,它是本專利技術(shù)一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng)得結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示它包括負(fù)壓室1,其特征在于該負(fù)壓室1具有一入口閘門 10,該入口閘門10前具有基片輸送帶2 ;該負(fù)壓室1上具有進(jìn)氣閥11和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。該負(fù)壓形成裝置包括與負(fù)壓室1上真空抽氣口連接的管線,管線上具有抽氣閥3和儲氣罐4,管線的另一端則連接有真空泵5。本專利技術(shù)使用過程如下。1、在基片輸送帶2上建立按照不同進(jìn)片規(guī)格的量適當(dāng)控制調(diào)節(jié)設(shè)定進(jìn)片速度。2、在基片即將進(jìn)入負(fù)壓室時,由于負(fù)壓的作用入口閘門10暫時無法開啟,因此必須先打開進(jìn)氣閥11,當(dāng)負(fù)壓室1的氣壓達(dá)到正常大氣壓后即能夠自動打開入口閘門10,當(dāng)與完成進(jìn)片量并與傳遞速度達(dá)到一致的情況下,自動關(guān)閉入口閘門10和進(jìn)氣閥11,同時打開負(fù)壓形成裝置上的抽氣閥3,當(dāng)負(fù)壓形成裝置上的真空泵5的工作達(dá)到設(shè)定負(fù)壓值時才關(guān)閉抽氣閥3。所述的負(fù)壓形成裝置上可設(shè)置兩路抽真空管路,兩路管路之間可通過三通6連接并共同通向真空抽氣口。其中一路抽真空管路上還連接有負(fù)壓儲氣罐4連接。在配置負(fù)壓儲氣罐4時,按照負(fù)壓室1的負(fù)壓要求提高1/2的負(fù)壓要求配置,當(dāng)負(fù)壓室中各部分的負(fù)壓一致時自動關(guān)閉抽氣閥3。通過以上的結(jié)構(gòu),可將該工位的工作節(jié)拍提升為觀秒/節(jié)拍,就能夠達(dá)到提高工作效率的目的。綜上所述,僅為本專利技術(shù)的較佳實(shí)施例而已,并非用來限定本專利技術(shù)的實(shí)施范圍,即凡依本專利技術(shù)申請專利范圍的內(nèi)容所作的等效變化與修飾,都應(yīng)為本專利技術(shù)的技術(shù)范疇。權(quán)利要求1.一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),它包括負(fù)壓室(1),其特征在于該負(fù)壓室(1)具有一入口閘門(10),該入口閘門(10)前具有基片輸送帶(2);該負(fù)壓室(1)上具有進(jìn)氣閥(11)和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),其特征在于該負(fù)壓形成裝置包括與負(fù)壓室(1)上真空抽氣口連接的管線,管線上具有抽氣閥(3)和儲氣罐(4),管線的另一端則連接有真空泵(5)。全文摘要本專利技術(shù)涉及Low-E玻璃的真空鍍膜操作中的設(shè)備,特別是一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng)。它包括負(fù)壓室,其特征在于該負(fù)壓室具有一入口閘門,該入口閘門前具有基片輸送帶;該負(fù)壓室上具有進(jìn)氣閥和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。它主要解決現(xiàn)有將基片人工輸入負(fù)壓室并進(jìn)行抽真空操作的工作效率較低,影響生產(chǎn)效率的技術(shù)問題,它可將該工位的工作節(jié)拍提高到28秒/節(jié)拍,提高了生產(chǎn)效率。文檔編號C23C14/22GK102226266SQ20111015017公開日2011年10月26日 申請日期2011年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月7日專利技術(shù)者阮澤云, 阮洪良 申請人:上海福萊特玻璃有限公司, 福萊特光伏玻璃集團(tuán)股份有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    1.一種Low-E玻璃的真空鍍膜操作中將基片輸入負(fù)壓室的系統(tǒng),它包括負(fù)壓室(1),其特征在于:該負(fù)壓室(1)具有一入口閘門(10),該入口閘門(10)前具有基片輸送帶(2);該負(fù)壓室(1)上具有進(jìn)氣閥(11)和真空抽氣口,該真空抽氣口連接到負(fù)壓形成裝置上。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:阮洪良阮澤云
    申請(專利權(quán))人:福萊特光伏玻璃集團(tuán)股份有限公司上海福萊特玻璃有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:33

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