光掩模清洗機的液體分配盤制造技術

本實用新型專利技術涉及一種光掩模清洗機的液體分配盤，屬于光掩模清洗機技術領域。主要包括盤體、貫穿盤體的安裝孔以及設置在盤體內兩個獨立的第一液體流道和第二液體流道，所述的第一液體流道由第一環形道和與第一環形道相通的進液流道及出液流道構成，六個以上的出液流道沿盤體徑向分布，且該出液流道的流道出口位于盤體徑向的外周面；所述的第二液體流道由第二環形道和與第二環形道相通的進液流道及出液流道構成，三個以上的出液流道沿盤體軸向分布，該出液流道的流道出口位于盤體的上端面。本實用新型專利技術具有結構緊湊、體積小的特點，有效減少光掩模清洗機處理艙的體積。（*該技術在2018年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種光掩模清洗機的液體分配盤，屬于光掩模清洗機

技術介紹
在光掩模清洗和甩干的過程中，為避免塵埃顆粒對在清洗的光掩模產 生污染，通常是將光掩模放在一個相對封閉的處理艙內，在電機驅動下， 光掩模在旋轉的情況下進行清洗。故而光掩模正面被化學處理時，處理艙 的內壁上會濺有液滴，若不及時沖洗干凈這些液滴，其產生的結晶顆粒會 對后續清洗的光掩模產生污染。因此，需定期沖洗處理艙內壁以防止結晶 的產生。此外，當光掩模正面被化學處理時，在其背面需用水不間斷進行沖 洗，以保證光掩模背面不被正面流淌下來的化學藥劑污染。目前公開用于 光掩模的清洗機，其進液機構均采用管道式結構，各管道穿過安裝在電機 頂部的密封蓋，并與設置在處理艙內的三通接頭連接，對光掩模和處理艙 內壁進行清洗。這種液體分配機構是每個管道與一個噴嘴相配，由于需要 多個噴嘴對處理艙的內壁進行沖洗，造成進液管道及接頭較多，密封結構 復雜，占有空間大，阻礙了處理艙的小型化設計。
技術實現思路
本技術的目的上提供一種結構緊湊、體積小的光掩模清洗機的液 體分配盤。本技術為達到上述目的的技術方案是 一種光掩模清洗機的液體 分配盤，包括盤體、貫穿盤體的安裝孔以及設置在盤體內兩個獨立的第一 液體流道和第二液體流道，所述的第一液體流道由第一環形道和與第一環 形道相通的進液流道及出液流道構成，六個以上的出液流道沿盤體徑向分 布且，該出液流道的流道出口位于盤體的徑向外周面；所述的第二液體流道由第二環形道和與第二環形道相通的進液流道及出液流道構成，三個以 上的出液流道沿盤體軸向分布，該出液流道的流道出口位于盤體的上端面。本技術的液體分配盤采用兩個獨立的液體流道結構，其中第一液 體流道有一個進液流道和六個以上的出液流道，且該出液流道是沿盤體徑 向分布，其流道位于盤體徑向的外周面；而第二液體流道也有一個進液流 道和三個以上的出液流道，該流道出口位于盤體的上端面，因此盤體通過 內部兩個環形流道將兩路清洗液進行合理分配，并通過安裝在分配盤外周 面的流道出口處的噴嘴和上端面的流道出口處的噴嘴分別對光掩模背面及 處理艙的內壁進行沖洗。本技術通過盤體對液體進行分配，因無管道 之間連接，簡化了密封結構，使液體分配機構簡潔，能大幅度減小液體分 配機構在處理艙內的體積。本技術的分配盤由于占用處理艙內的空間 小，可實現處理艙的小型化設計。以下結合附圖對本技術的實施例作進一步的詳細描述。 附圖說明圖1是本技術的結構示意圖。圖2是圖1的A-A剖視結構示意圖。 圖3是圖1的B-B剖視結構示意圖。圖4是本技術的液體分配盤安裝在處理艙內的結構示意圖。其中l一第一液體流道，ll一出液流道，12—第一環形流道，13— 進液流道，2—盤體，3—安裝孔，4一第二液體流道，41一第二環形流道， 42—進液流道，43—出液流道，5—外罩，6—底座，7—內套。具體實施方式見圖1所示，本技術光掩模清洗機的液體分配盤，包括盤體2、貫 穿盤體2的安裝孔3以及設置在盤體2內兩個獨立的第一液體流道1和第 二液體流道4。見圖1、 2所示，本技術的第一液體流道1由第一環形 流道12和與第一環形流道12相通的進液流道13及出液流道11構成，六 個以上的出液流道43沿盤體徑向分布，第一液體流道1的出液流道11為 6 12個均布設置，而出液流道43的流道出口位于盤體2的徑向外周面，第 一液體流道1的進液流道13的流道進口則位于盤體2的底面，進液管通過 管接頭與該進液流道13連接，噴嘴則安裝在盤體2外周面的各流道出口處。 見圖1、 3所示，本技術的第二液體流道4由第二環形流道41和與第二環形流道41相通的進液流道42及出液流道43構成，第二液體流道4的 出液流道43是沿盤體軸向3個以上分布，該出液流道43的流道出口則位 于盤體2的上端面，而第二液體流道4的進液流道42的流道進口則位于盤 體2的底面，進液管通過管接頭與該進液流道42連接，噴嘴則安裝在盤體 2上端面的流道出口處。見圖1、 3所示，本技術的第二環形流道41位于第一環形流道12 的內側，能簡化加工工藝，降低加工成本。見圖4所示，本技術的光 掩模清洗機的液體分配盤通過螺栓安裝在底座6上，并與內套7密封連接， 電機的輸出軸則穿過盤體2上的安裝孔3，使盤體2與內套7形成一個封閉 空間，對電機進行保護，而內套7與外罩5之間形成一個處理艙，當電機 帶動光掩模旋轉時，安裝在盤體2上端面流道出口處的噴嘴對光掩模的背 面進行沖清，而安裝在盤體2外周面的流道出口處的噴嘴則對處理艙的內 壁進行沖洗。權利要求1、一種光掩模清洗機的液體分配盤，其特征在于包括盤體(2)、貫穿盤體(2)的安裝孔(3)以及設置在盤體(2)內兩個獨立的第一液體流道(1)和第二液體流道(4)，所述的第一液體流道(1)由第一環形流道(12)和與第一環形流道(12)相通的進液流道(13)及出液流道(11)構成，六個以上的出液流道(43)沿盤體(2)徑向分布，該出液流道(43)的流道出口位于盤體(2)徑向的外周面；所述的第二液體流道(4)由第二環形流道(41)和與第二環形流道(41)相通的進液流道(42)及出液流道(43)構成，三個以上的出液流道(43)沿盤體(2)軸向分布，該出液流道(43)的流道出口位于盤體(2)的上端面。2、 根據權利要求1所述的光掩模清洗機的液體分配盤，其特征在于 所述第一液體流道(1)的出液流道(11)為6 12個。3、 根據權利要求1所述的光掩模清洗機的液體分配盤，其特征在于 所述的第二環形流道(41)位于第一環形流道(12)的內側。4、 根據權利要求1所述的光掩模清洗機的液體分配盤，其特征在于 所述第一液體流道(1)的進液流道(13)和第二液體流道(4)的進液流 道(42)的流道進口均位于盤體(2)的底面。專利摘要本技術涉及一種光掩模清洗機的液體分配盤，屬于光掩模清洗機
主要包括盤體、貫穿盤體的安裝孔以及設置在盤體內兩個獨立的第一液體流道和第二液體流道，所述的第一液體流道由第一環形道和與第一環形道相通的進液流道及出液流道構成，六個以上的出液流道沿盤體徑向分布，且該出液流道的流道出口位于盤體徑向的外周面；所述的第二液體流道由第二環形道和與第二環形道相通的進液流道及出液流道構成，三個以上的出液流道沿盤體軸向分布，該出液流道的流道出口位于盤體的上端面。本技術具有結構緊湊、體積小的特點，有效減少光掩模清洗機處理艙的體積。文檔編號B08B3/02GK201175710SQ20082003406公開日2009年1月7日 申請日期2008年4月14日 優先權日2008年4月14日專利技術者飛 徐, 金海濤 申請人:飛 徐本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光掩模清洗機的液體分配盤，其特征在于：包括盤體（２）、貫穿盤體（２）的安裝孔（３）以及設置在盤體（２）內兩個獨立的第一液體流道（１）和第二液體流道（４），所述的第一液體流道（１）由第一環形流道（１２）和與第一環形流道（１２）相通的進液流道（１３）及出液流道（１１）構成，六個以上的出液流道（４３）沿盤體（２）徑向分布，該出液流道（４３）的流道出口位于盤體（２）徑向的外周面；所述的第二液體流道（４）由第二環形流道（４１）和與第二環形流道（４１）相通的進液流道（４２）及出液流道（４３）構成，三個以上的出液流道（４３）沿盤體（２）軸向分布，該出液流道（４３）的流道出口位于盤體（２）的上端面。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：徐飛，金海濤，
申請(專利權)人：徐飛，
類型：實用新型
國別省市：32[中國|江蘇]