一種用于機械地清潔儀器(5)的與液體接觸的活性表面(4，17-20)的裝置和方法。該儀器的活性表面暴露在清潔介質(11)中，清潔介質(11)由封裝入儀器箱內的分離的移動顆粒組成。該清潔介質的運動是旋轉式的，并且通過導入與清潔介質的運動方向(8)平行的流入(9)來實現并維持清潔介質的運動。該流入可以包括氣體、液體或氣體和液體的混合物。該清潔介質將至少一個活性儀器表面擦拭干凈。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】本專利技術涉及用于機械地清潔光學儀器的至少一個透明表面的裝置和方法，該光學儀器位于儀器箱內，該儀器箱包含待處理和/或待測量的或者作為處理的必要部分的液體，該儀器箱具有允許液體繞著旋轉軸進行旋轉運動的橫截面，該光學儀器設置在儀器箱的壁上的孔中。當處理多種液體或使用這些液體作為處理的主要部分時，經常存在測量液體的特定參數的各種需要，特定參數例如為液體的密度、渾濁度、電傳導性、PH值等等。也經常存在對液體進行過濾或篩選的需要。這些測量可以通過不同的儀器來實現，例如，通過光學(透明窗口)、機械(篩欄(screening grid) /過濾器)、電化學(電解處理的電極)或電學(傳導探頭)主動式儀器，或者離子選擇膜。待處理的或使用的和/或測量的液體通常包含在儀器的與液體接觸的活性表面上沉積的顆粒或雜質。這些沉積物可能導致儀器的故障和/或測量結果的誤差，特別是當使用需要干凈透明窗口的光學儀器時。·本專利技術的目的是提供一種解決方案，通過該方案，可以有效地清潔儀器箱內的光學儀器的透明表面。為此，該裝置的特征在于，該儀器箱至少部分地由清潔介質填充，清潔介質由單獨移動的物體組成，其材料、形狀和/或尺寸被選擇為適于要保持清潔的表面的性質，該儀器箱設置有用于供應流體以驅動所述液體和清潔介質在儀器箱內旋轉運動的流體供應裝置，該清潔介質旋轉為基本上均勻的基床(uniform bed),其中，該清潔介質擦拭清潔通過儀器孔暴露于清潔介質的至少一個透明表面。本專利技術的方法的特征在于，該儀器箱至少部分地由清潔介質填充,清潔介質由單獨移動的物體組成,其材料、形狀和/或尺寸被選擇為適于要保持清潔的表面的性質，并且流體被供應到儀器箱內，用于驅動液體和清潔介質在儀器箱內旋轉運動，該清潔介質旋轉為基本上均勻的基床，其中，該清潔介質擦拭清潔通過儀器孔暴露于清潔介質的至少一個透明表面。通過在儀器箱內提供流體，使得液體和清潔介質一起被帶入旋轉運動，如果必要的話，通過使用非常低的流入量，可以一直保持表面的清潔。該流體供應裝置優選地具有控制裝置，該控制裝置適于在需要的時候使得流體供應裝置激活或停止工作。該儀器箱可以設置在包含待處理和/或測量或者作為處理的必要部分的液體的箱或其他容器內，或位于這種箱或容器外部。該儀器箱優選與箱或容器進行流體連接，使得該箱或容器內的液體可以連續或間歇的流入或泵入儀器箱。可以設置例如UV光和渾濁度傳感器到同一儀器箱中，以將儀器箱用于不同的任務，例如，周期性地或同時地地消滅微生物和測量渾濁度。UV光還可以用于在承載架中種植海藻。根據附圖對本專利技術作進一步詳細的描述，其中圖I示出了儀器箱的示意性端部視圖，圖2示出了圖I的儀器箱的示意性側視圖，圖3至圖4示出了清潔介質的兩種可選擇的沉淀順序的示意性原理圖，和圖5至圖8示出可以在其中放置儀器表面的四種不同示例性表面(陰影區域)，CN 102947016 A書明說2/3頁圖9不出了設置在用于待處理和/或測量的液體的箱內側和外側的三種不同的不例性儀器箱，和附圖說明圖10示出了儀器箱的示意性立體圖。圖11示出了現有技術中的清潔過程，和圖12示出了根據本專利技術的清潔過程。圖I至圖2示出了示例性的儀器箱I。該儀器箱的橫截面是圓形的，并且具有用于待測量和/或處理的液體的入口裝置6和用于過剩流出的裝置7，還可能包括從儀器的活性表面清潔下來的顆粒。在圖I至圖2中，該儀器5設置在儀器箱的端面上的孔3內，使得儀器的活性表面4可以面向儀器箱內的液體。該儀器箱包括供給流體的供應裝置2，使得液體在儀器箱內旋轉。箭頭9示出了流體的流入方向，箭頭8示出了液體和與之一起的清潔介質的旋轉運動。該流體可以是氣體、液體或者它們的混合物。該清潔介質由封裝入儀器箱內的分離的移動顆粒組成。該儀器箱的圓形形狀允許清潔介質的旋轉運動，并且使得清潔介質顆粒之間的相互移動最小化，但是允許相互移動。該清潔介質在其旋轉過程中形成基本上均勻的基床，從而，其與擦拭葉片非常類似地擦拭待清潔的透明表面，也就是說，該清潔是基于介質顆粒的覆蓋整個待清潔表面的擦拭動作。圖12示意性地示出了清潔介質32 沿著待清潔表面30移動。沉積在表面上的污垢31被旋轉的清潔介質基床中連續的介質顆粒32有效地清潔。附圖標記34 (在圖12的上方，從上方示出了表面30)示出了覆蓋基本上整個待清潔·表面的擦拭動作的軌跡。圖11示意性地示出了現有技術的清潔過程，其中該清潔介質由與待清潔的表面30隨機地撞擊的分離顆粒32組成。該清潔方法由于其僅僅逐點地清除污垢31，因此其非常無效。附圖標記33 (在圖11的上方，從上方示出了表面30) 示出了撞擊的軌跡。該過程需要大量時間來清潔整個區域，并且在含有大量細菌的環境中， 該被清潔的表面可能在整個區域被清潔之前再次變臟。圖10以示意性立體圖示出了與圖I至圖2的儀器箱對應的儀器箱。儀器5的活性表面4通過儀器孔3暴露在清潔介質中，并且當該清潔介質被帶入旋轉運動時，其將表面 4擦拭干凈。該清潔介質還將儀器箱的內側表面擦拭干凈。該有效儀器表面5可以通過儀器箱5的任意壁表面而暴露在清潔介質中，或者通過放置在儀器箱的中心軸上的獨立管道的壁而暴露在清潔介質中，該儀器位于在管道內。圖5-8示出了四種示例性的位置。用于儀器5的表面4的儀器孔3可以設置在儀器箱的任意表面上。設置孔3的表面可以是直形17、19 (如圖5和7所示)，或是沿著儀器箱的壁的彎曲形20(如圖8所示)， 或者是穿過儀器箱的管形18(如圖6所示)。在一個單個儀器箱內可以有待保持清潔的一個或多個活性表面(如圖7所示)。清潔介質11被優選地設置為在有限的時間段中沉淀在儀器箱的底部或頂部。填充液體和清潔介質11之間的密度差異決定了介質11沉淀在儀器箱的頂部(圖3示出了清潔介質的密度低于液體的密度)還是底部(圖4示出了清潔介質的密度大于液體的密度)。 當該強制流入(forcing influx)停止時，清潔介質11會減速并最終停止。用于儀器5的孔3必須被定位為使得在沉淀過程中孔不會被沉淀的清潔介質覆蓋。在圖3和圖4中，清潔介質的量和孔3的位置被設置為，使得已沉淀的清潔介質與孔3 之間存在安全區域，提供了在測量階段清潔介質不覆蓋孔3的安全容限。儀器箱壁的所有開口孔必須小于清潔介質的單個顆粒，或者必須有阻止清潔介質4脫離儀器箱的其他方式。圖9示出了位于箱13中的兩個不同的示例性儀器箱1，該箱13用于待處理和/或測量的或者用作處理的必要部分的液體，圖9還示出了設置在箱外部的一個示例性儀器箱。儀器3a是用于測量例如液體的渾濁度的光學探頭，儀器3b 是顆粒篩欄。過濾后的液體通過出口 15被移走。液體的表面被標記為14。泵16設置在箱13的內部，以將液體泵入包括儀器3c (例如光學探頭)的外部儀器箱I中。本專利技術的上述公開僅僅作為優選實施例的范例，其并非旨在限制權利要求所限定的保護范圍。例如，儀器箱通過使其內表面基本上光滑可以具有不同于圓形的橫截面，允許清潔介質繞著旋轉軸順利地旋轉。還可以將多個儀器箱組合為單個單元，在儀器箱之間具有流體連接。清潔介質還可以具有除了清潔有效儀器表面之外的其它功能，例如其可以包括變色劑，以顯示例如待檢測的液體的溫度變化或者特定溶質的存在。權利要求1.一種用于機械地清潔光學儀器(本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：J·羅內，G·扎伊采夫，
申請(專利權)人：克魯爾公司，
類型：
國別省市：
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