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    用于層壓組件的設備和方法技術

    技術編號:8390049 閱讀:222 留言:0更新日期:2013-03-07 23:17
    本發明專利技術公開了一種層壓組件的設備及其方法。該設備包含一個用來對組件施加壓力從而將組件的多個疊板壓在一起的薄膜,一個用來阻止層壓過程中釋放的氣體與薄膜接觸的中間元件,一個用來容納組件的基座,其中薄膜和基座能夠形成一個真空腔體。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】
    本專利技術總體來說是關于夾層結構的層壓,并且,尤其是關于以簡單、性價比高、安全和環保的方式進行太陽能電池組件層壓的設備和方法。?
    技術介紹
    在夾層結構的層壓過程中,尤其是太陽能電池組件復合層的層壓中,包含粘性箔片在內的太陽能電池組件多層疊板在熱能和壓力的影響下連接在一起。在層壓的過程中,粘性箔片發生化學變化。其中包括一個聚合過程被啟動,同時包括各種過氧化物的有害氣體,例如過氧化氫,被釋放在一個腔體內。由于腔體被設為真空,有害氣體通過通道流出,?但是在這樣做之前,有害氣體已經與薄膜發生了接觸。有害氣體與薄膜的接觸加速了熱氧老化,進而縮短了薄膜的壽命,對薄膜產生了負面影響。現有技術披露了許多不同的層壓夾層結構技術,諸如太陽能電池組件。為了可靠運行,許多這樣的設備都太復雜,并且不能保護昂貴的薄膜免受有害氣體的損害,例如,根據專利號為JP2004-306420的日本專利提供的信息,伸展框架允許氣體從其底部流出,其中,釋放板和伸展框架不能阻止氣體與薄膜接觸。并且,伸展框架上表面和基座之間的角度也相對較大,將會對薄膜的壽命造成損害。包括前述現有技術在內的傳統的層壓設備的特點揭示了一種復雜的設計和繁雜的結構參數,這種復雜的設計和繁雜的結構參數將會影響設備的性能。但是,目前這種能夠阻止有害氣體與薄膜接觸的設備,即,允許有害氣體從腔體內被排除而不與薄膜接觸從而延長薄膜的壽命的設備,無法從商業市場上獲得。因此,當前的方案必須是一個滿足以下要求的新設備,該設備通過阻止有害氣體與薄膜接觸能夠克服疊板層壓設備的,尤其是現有太陽能電池組件層壓設備的固有缺點。例如,通過允許有害氣體從腔體內被排除而不與薄膜接觸以延長薄膜的壽命。?
    技術實現思路
    鑒于前述現有技術中的固有缺點,本專利技術的主要目的旨在提供一個集方便和實用于一身的改進產品,既包括現有技術的優點,又克服了現有技術的固有缺陷。本專利技術提供一種用于層壓組件的設備,其包括:將壓力施加在組件上以將組件的多層擠壓在一起的薄膜;一個用來阻止在層壓過程中釋放的氣體與薄膜接觸的中間元件;及容納組件的基座。薄膜和基座能夠形成一個真空的腔體。本專利技術還提供一種用于層壓組件的設備,其包括:一個能夠將壓力施加在組件上以將組件的多層擠壓在一起的薄膜;一個容納組件的基座;及一個與基座平行方向延伸的伸展框架。薄膜和基座能夠形成一個真空的腔體,并且伸展框架至少有一個斜面,與基座形成一個0度至15度或者最好為10度或5度的角度。在另一個方面,本專利技術提供了一個改進和簡化的設備和方法,該設備和方法用于層壓夾層結構,疊板,并且尤其可用于因借助伸展框架而能夠被低價量產的太陽能電池組件的層壓。伸展框架與中間元件相結合能夠阻止有害氣體與薄膜接觸,即,通過使有害氣體從腔體內被排除而不與薄膜接觸以延長薄膜的壽命。本專利技術將結構簡單,性價比高,安全,可靠及環保操作的結構參數集于一身。在另一方面,本專利技術還提供了一個適用于層壓的伸展框架。伸展框架包括多個在拐角處相連形成矩形的棒狀物;至少一個適合補償薄膜延伸的淺斜面;及一個對表面提供氣密的密封元件。伸展框架能被壓在薄膜和密封元件上。伸展框架上的棒狀物具有矩形橫截面。具有矩形橫截面的伸展框架能夠完全包圍真空腔體。伸展框架的上表面也可以是呈弧形曲面。在伸展框架上可以提供一個能夠被注滿密封劑的凹陷。本專利技術的另一方面,還提供一種用于層壓組件的方法,包含以下步驟:加熱并將組件的疊板擠壓在一起;阻止氣體在層壓過程中釋放以免其與薄膜接觸;提升薄膜;及取出被層壓的組件。除了作為本專利技術特征的各種新穎性特點之外,這些專利技術目的及本專利技術的其他目的在附在此后的權利要求中被專門指出,系本說明書的一個組成部分。為了更好地理解本專利技術以及對本專利技術進行使用可以獲得的操作優勢及特定目的,將會在附圖及展示本專利技術的實施例的描述性事項中詳細介紹。?附圖說明為了更好地理解本專利技術的特點,現結合附圖詳細陳述如下。圖1A是根據本專利技術的一個實施例的用于層壓組件的設備的立體圖。圖1B是根據本專利技術的一個實施例的?太陽能電池組件未被層壓的疊層示意圖。圖1C是根據本專利技術的一個實施例的被層壓后太陽能電池組件的示意圖。圖2A是根據本專利技術的一個實施例的覆蓋元件處于打開狀態時的示意圖。?圖2B是根據本專利技術的一個實施例的覆蓋元件關閉時的示意圖。圖2C是根據本專利技術的一個實施例的當空氣被從真空腔體中排除時薄膜延長的示意圖。圖3是根據本專利技術的一個實施例的疊板置于設備內部的示意圖。圖4是根據本專利技術的一個實施例的疊板被薄膜擠壓的示意圖。圖5是根據本專利技術的一個實施例的太陽能電池組件層壓后,薄膜被提升的示意圖。圖6是根據本專利技術的一個實施例的伸展框架延伸至與中間元件重疊的示意圖。圖7是根據本專利技術的一個實施例的伸展框架的一個斜面的示意圖。圖8是根據本專利技術的一個實施例的彈性板元件從伸展框架的斜面延伸至組件的示意圖。圖9是根據本專利技術的一個實施例的彈性板元件和中間板元件的示意圖。圖10和圖11是根據本專利技術的一個實施例的伸展框架上表面和基座之間的0至5度的小角度的示意圖。圖12A至12D是根據本專利技術的一個實施例的伸展框架的示意圖。圖13是根據本專利技術的一個實施例的用于層壓組件的方法的流程圖。附圖的各個視圖中相同的標號代表同一部件。??具體實施方式出于說明目的而在此被詳述的實施例包含許多變化、結構和設計。但是,應該強調的是,正如被展示和敘述的那樣,本專利技術不限于特定的用于層壓夾層結構、疊板、太陽能電池組件的設備和方法。相反,本專利技術的原理能被應用于各種層壓結構和結構布局。毫無疑問,因為各種環境變化而采取相應調整,各種省略、等同替代手段將會被想到。但以上運用或實施均在本專利技術權利要求的精神和范圍之內。出于解釋的目的,在以下細節敘述中,為了提供針對本專利技術的透徹的理解,許多特定細節會被詳細解釋。但是,顯然,對于本領域技術人員來說,在不知曉這些特定細節的情況下也可以實施本專利技術。如本文中所用,術語“一”、“一個”、“至少”不表示數量的限制,而表示至少存在一個所述內容,術語“多數”表示存在一個以上的所述內容。術語“伸展框架”也叫“張力調整結構”,包括任何能夠在層壓過程中向薄膜提供張力、拉長和延伸的結構。在一個實施例中,本專利技術提供了一個用于層壓組件的改進設備和方法,通過阻止有害氣體在層壓過程中被釋放而與薄膜接觸。組件包括一個太陽能電池組件,一個夾層結構,一個許多材料層組成的疊板,或上述物品的任意組合。本專利技術延長了薄膜的壽命,不必頻繁更換薄膜。本專利技術的伸展框架可以被低成本量產,并且為用戶提供了一個簡單易行、有效、安全、性價比高、環保及高產的層壓方式。參見圖1A,根據本專利技術的一個實施例,該圖展示了設備100的立體圖(也稱為“層合機”)。設備100包括伸展框架20,中間元件40,覆蓋元件50,基座70和薄膜80。伸展框架20可以被附在覆蓋元件50下或者基座70上。為了容納薄膜本文檔來自技高網
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    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】1.用于層壓至少一個組件的設備,包括:
    一個用來對組件施加壓力從而將組件的多個疊板壓在一起的薄膜;
    一個用來防止層壓過程中釋放的氣體與薄膜接觸的中間元件;以及
    一個容納該組件的基座;
    其中薄膜和基座能夠形成一個真空腔體。
    2.如權利要求1所述的設備,其中伸展框架能夠張緊薄膜。
    3.如權利要求1或2所述的設備,其中伸展框架的至少一個拐角的內部是弧形的,從而使得伸展框架拐角的內部的上表面與基座之間形成的角保持恒定。
    4.以上任意一項權利要求所述的設備,其中伸展框架的上表面與基座之間形成的角至少在靠近彎曲處其角度在0度到15度之間,或最好是10度或5度。
    5.以上任意一項權利要求所述的設備,其中中間元件在伸展框架下面移動,從而保護薄膜避免其與層壓過程中釋放出的氣體或污垢接觸。
    6.以上任意一項權利要求所述的設備,其中中間元件圍繞整個設備活動。
    7.以上任意一項權利要求所述的設備,其中伸展框架延伸從而與中間元件重疊。
    8.以上任意一項權利要求所述的設備,其中中間元件能夠與伸展框架重疊。
    9.以上任意一項權利要求所述的設備,其中中間元件延伸到組件的邊界之外從而防止層壓過程中釋放的氣體與薄膜接觸。
    10.以上任意一項權利要求所述的設備,其中組件包括...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:R·珀羅羅納德·F·M·朗格A·芝曼逖比特·斯特貝爾J·查恩德
    申請(專利權)人:三S瑞士太陽能系統股份公司
    類型:
    國別省市:

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