本發明專利技術的用于運輸和儲存盒的處理裝置包括多個去污組件（24-27），這些去污組件安裝在共用底盤（100）上并布置成彼此上下堆疊的至少一個組件列（23c）的排。各去污組件（24-27）都包括自己的具有至少一個初級泵（8a）的泵送機構（8），該初級泵安放在縱向上相對于去污室（5）偏置的初級泵送室（8c）中。對去污組件（24-27）的進出通過側部出入門進行，該側部出入門都在同一個出入側上定向，并被自動關閉和打開它們的致動機構致動。側向轉移區設在出入側上，并包括能在正面裝卸工位（23a）和每個去污組件（24-27）的去污室（5）之間移動運輸和儲存盒（1）的自動裝置（29）。因此優化了處理裝置（23）占據的空間的量和生產量。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及用于清潔和去污(凈化)運輸和儲存盒的裝置，所述運輸和儲存盒用于半導體基底或掩膜。
技術介紹
在制造半導體的設備中，基底如半導體晶片和/或掩膜在處理室中經受處理。這些處理包括以不同工具實施的各種步驟，例如沉積材料的步驟或蝕刻步驟。在每個步驟之間，基底被放在運輸和儲存盒中，該運輸和儲存盒本身在半導體制造設備中的各種不同工具之間移動。在工具之間轉移過程中等待所花的時間可能很長，通常持續數小時。因此運輸和儲存盒在等待時間用作儲存基底的裝置。目前，將大量基底裝在由運輸和儲存盒組成的小型環境中，尤其是例如稱為FOUP (正面開口的通用箱)的側面開口或正面開口的標準運輸箱或者稱為SMIF (標準機械接口) 箱的底部開口的標準化運輸和儲存箱。在儲存步驟期間，由運輸和儲存盒內大氣中的反應性氣體的存在而導致的、空氣中承載的顆粒污染物(或AMC，代表浮在空氣中的分子污染物)與基底反應并產生缺陷。這些缺陷可能使半導體晶片不可用，并可引起半導體制造設備的相當大的生產率損失。如果直至處理之后也未檢測到缺陷，它們將導致昂貴的半導體晶片的損失。為了避免半導體制造設備的生產率下降和已經處理過的半導體晶片的損失，對運輸和儲存盒及它們所含的大量基底提出了使用為所限定的環境的去污的方法和組件去污。 去污組件通常包括去污室，該去污室具有能裝入單個運輸和儲存盒的側部出入門。用這種組件實施的去污可能持續數個小時。因此單個組件不能在容許條件下處理半導體制造設備中所用的大量運輸和儲存盒。—種思想是增加半導體制造設備中的組件的數量，以便能達到用于運輸和儲存盒的去污所需的生產量。然而，這方面的缺點是去污組件所占據的空間尤其是它們占據的使用面積同樣增加。具體地說，這些去污組件位于半導體制造設備的清潔室中，而清潔室地板面積意味著很高的投資和運行成本。同時，去污組件的布局必須與用于在半導體制造設備中對盒進行運輸的懸吊式起重運輸(OHT)系統相適應。
技術實現思路
因此，本專利技術首先旨在減少去污機構所占據的地板空間(外廓尺寸)。本專利技術的另一個目的是保證去污機構與用于在半導體制造設備中運輸盒的標準化的懸吊式起重運輸(OTH)系統相適應。本專利技術的另一個目的是保證各去污組件獨立且以完全相同的方式操作。目標是將若干去污組件集中在一起并將它們布置在同一個小型處理裝置中。本專利技術的另一個目的是滿足環境標準、尤其是噪音標準，及安全標準。由于去污組件的數量倍增以便形成單個處理裝置，所以要符合噪音標準就需要把裝置限制在隔音底盤內。然而，隔音機構必需具有隔熱能力，這在處理裝置的部件升溫方面有了，該升溫易于損壞這些部件。因此必需提供用于避免過度加熱的機構，而這是本專利技術的另一個目的。永久保持足夠的處理能力的另一個困難是能單獨維修形成處理裝置的去污組件， 能對一個組件進行維修而不影響別的組件的工作。此外，本專利技術旨在盡量減少生產這種處理裝置的費用，尤其是在裝置內處理運輸和儲存盒的機構的費用。本專利技術的一個主題是用于運輸和儲存盒的處理裝置，該處理裝置包括去污組件 (模塊)，該去污組件具有-去污室，該去污室具有側部出入門，該出入門能裝入運輸和儲存盒；-向去污室中引入氣體的機構；-從去污室泵送(抽出，抽氣)氣體的機構；-用于控制去污室內的氣態氛圍的支配和控制機構。本專利技術的裝置包括-由共用底盤支承的多個去污組件，這些去污組件相互疊加以形成至少一個組件列；-每個去污組件都包括它自己的泵送機構，該泵送機構具有至少一個初級(一級) 栗;-該初級泵放置在初級泵送室中，該初級泵送室在縱向上相對于去污室偏置。這樣，每個去污組件都與其它組件無關，并且在垂直方向和橫向方向上節約相當大的空間，并且各去污組件由于它們的性能相同而在使用中可互換。優選地，初級泵由共同底盤支承，其間插置彈性連接機構以防止振動傳輸到去污室。當真空泵位于處理裝置的上水平面時，這種安排也許特別有利，因為任何來自泵的振動的傳輸都能產生共振，該共振造成振動和裝在運輸和儲存盒中的半導體晶片中的缺陷。符合噪音標準意味著初級泵送室的壁必須包括用于隔音的吸收劑面板。在這種情況下尤其是由此產生的隔熱作用意味著必須提供特殊機構以避免加熱。因此，優選地它保證-同一組件列的去污組件的初級泵送室相互連通而沒有水平分離，-每個初級泵都包括空氣冷卻系統，它具有在泵的第一端處的冷卻空氣入口和在泵的第二端處的冷卻空氣排放(排放口)，-在同一組件列中，中間垂直壁將第一泵送室區與第二泵送室區分開，其中-該第一泵送室區接收所有冷卻空氣排放并包括下部空氣出口，-該第二泵送室區含有所有冷卻空氣進氣并包括上部周圍空氣入口。從這種安排所產生的氣流能很顯著地減少初級泵工作所產生的加熱，以使所有處理裝置的部件都保持在固定的溫度下。按照一個實施例，它保證-去污組件的側部出入門全都沿著同一個出入(接近，操作)側定向，每個門都由用于打開和關閉所述門的致動機構控制，-傾向(橫向)轉移區設置在出入側上并包括自動裝置，該自動裝置能在正面裝卸工位和每個去污組件的去污室之間移動運輸和儲存盒。由于將若干組件疊加成縱列并且由于將組件列成一行地安裝在組件的縱向排中， 所以處理裝置的向尺寸限于由裝有自動裝置的側向轉移區的寬度所增加的、一個去污組件的寬度。該橫向尺寸限定由處理裝置在盒懸吊式起重運輸(OHT)系統所限定的路線中所占據的長度。同時，能將處理裝置的垂直空間占有度優化以便適合半導體制造設備中可用的高度。最后，能將處理裝置的縱向占有度優化，以便通過合適的選擇排成一行的組件列數來適合在半導體制造設備間中盒懸吊式起運輸(OHT)系統的兩個相繼的跨度之間可用的長度。按照可供選擇的方案，保證每個去污組件的側部出入門是滑動式出入門，該滑動式出入門當打開時相對于初級泵送室的這側橫向偏置，并由滑動致動器控制。側部出入門的滑動性質避免當門的滑動處在自動裝置所占據的側向轉移區外部時任何損壞自動裝置和門的危險。同時，門的滑動運動平行于側向轉移區，在去污室和初級泵送室之間，而不增加去污組件所占據的空間量。這產生相當大的空間節約。優選地，滑動式出入門安裝成在框架上縱向滑動，該框架本身安裝成繞垂直軸線樞轉，并制成通過樞轉致動器樞轉。這種安排使它能用簡單的方式來保證出入門完全密封而同時使它能減少密封摩擦，該摩擦易于釋放出污染物顆粒，該污染物顆粒的存在在半導體制造設備凈化室中特別有害。按照另一個實施例，每個去污組件的去污室都在出入門的相對側上包括維修門， 該維修門能通過操作人員打開，以便對一個去污組件實施單獨維修。因此，操作人員能對一個去污組件實施單獨維修而不影響其它組件的操作和自動裝置的操作。優選地，每個去污組件去包括安全裝置，該安全裝置；-如果側部出入門打開則鎖閉維修門，-如果維修門打開則鎖閉側部出入門并且部分禁用自動裝置。因而這保證在對至少一個去污組件維修期間實施維修任務的操作人員的安全，并避免任何損壞自動裝置或運輸和儲存盒的內裝物變質的危險。根據再一實施例的裝置還包括-至少一個第一裝卸工位；-設置在去污組件的出入側并與裝卸工位成一直線的側向轉移區；-放置在側向轉移區中并能在正面裝卸工位和每個去污組件的去污室之間移動該運輸和儲存盒的自動裝置。處理裝置如上所述的總體構造使它能提供特別簡單而價廉的自動裝置，例如下述類型自動本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：S·里歐弗雷，E·戈多，A·法夫爾，
申請(專利權)人：阿迪克森真空產品公司，
類型：
國別省市：
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