光盤設備制造技術

一種光盤設備，包括：衍射元件，來自光盤記錄介質的反射光輸入到所述衍射元件，所述衍射元件包括使形成于入射光通量的中心部分中的光受到衍射的位置的第一衍射區域、形成為與所述第一衍射區域的外部邊緣接觸的第二衍射區域和形成為與所述第二衍射區域的外部邊緣接觸的第三衍射區域；光接收/信號生成單元，其基于在所述第三衍射區域處衍射的光生成聚焦誤差信號和透鏡誤差信號；其中，所述光接收/信號生成單元接收在所述第二衍射區域處衍射的光，并基于其接收到的光信號和通過接收在所述第三衍射區域處衍射的光獲得的接收到的光信號生成所述聚焦誤差信號。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及對于光盤記錄介質執行記錄或播放的光盤設備。
技術介紹
例如，如日本未實審專利申請公開N0.2010-146607中所公開，存在這樣的配置:使用共享的檢測器來執行根據光斑大小方法(spot sizemethod)的聚焦誤差信號的檢測和根據循軌伺服的信號(如透鏡誤差信號等)的檢測。該配置使用了被配置成具有柱面透鏡效果的HOE (全息光學元件)，例如，對于沿其切線方向(與光盤記錄介質中形成的軌跡的縱向方向相對應的方向)的焦點位置，以生成焦點位置離光接收表面較近那側的光(下文中，也稱為近側焦點光)和焦點位置在較深那側的光(也稱為深側焦點光)。以此方式使用取決于相對于光接收表面的近側或深側而具有不同焦點位置的光，可以生成根據所謂的光斑大小方法的聚焦誤差信號。在這種情況下，通過上述H0E，例如，劃分形成四個衍射區域，并且光通量內的每個不同部分的光可以被劃分接收。可以使用將以此方式劃分接收的光來生成根據循軌伺服的信號(如透鏡誤差信號等)。注意，透鏡誤差信號是表示在物鏡的循軌方向(徑向方向)的移位量的信號。另外，對于光盤記錄介質(下文中，也簡稱為光盤)，已經提出具有兩個記錄層以實現大記錄容量的記錄介質。通過這種兩層光盤，來自比所要記錄/播放的記錄層更近那側的記錄層的反射光可能被作為雜散光接收，這導致C/N(載波對噪聲的比率)的惡化。因此，為了處理具有多個記錄層的光盤，已經開發出這樣的布置:給上述HOE提供掩蔽衍射區域以將雜散光散射到除光接收元件之外的位置，并且去除了光通量中要被引導至光接收單元的預定位置中的光(抑制了對光接收元件的照射)。具體來說，HOE的中心部分(光通量的中心部分)主要經受掩蔽以去除雜散光(例如，參見圖20所示的實心部分)。注意，以光通量的中心部分作為掩蔽衍射區域的形成位置的原因在干，淺入射角的雜散光(它對于C/N的惡化有最大影響)可以被有效去除(例如，參見圖8)。另外，近年來，為了實現更大的記錄容量，已經開發出具有三個或更多個記錄層的多層光盤，也已經投入實際使用。在多層光盤的情況下，除了所要處理的記錄層之外的記錄層的數目與兩層光盤相比有所増加，并且相應地，雜散光的生成模式變得多祥化。換句話說，生成具有各種角度和各種光學路徑長度的雜散光，這導致C/N的進ー步惡化。對于使用HOE進行劃分光接收而生成聚焦誤差信號和透鏡誤差信號的配置，已經發現，透鏡誤差信號的質量惡化由于多層光盤中雜散光的影響而尤其明顯。為了抑制這種透鏡誤差信號的質量惡化，為了處理多層光盤，使用了擴大掩蔽衍射區域的措施。也就是說，可以通過擴大掩蔽衍射區域，來實現隨記錄層數目增加而增加對雜散光的合適去除。
技術實現思路
然而，如果如上所述實現掩蔽衍射區域的擴大作為用于多層光盤的雜散光措施，那么透鏡信號誤差的質量惡化可以得到抑制，但是另一方面，這導致聚焦誤差信號質量惡化的問題。這意味著光通量中心部分的分量必須被去除以生成適合的透鏡誤差信號，但這些分量對于生成聚焦誤差信號(光斑大小方法)而言是重要的。在此，聚焦誤差信號的惡化具體表現為S字母形信號的波形變形(例如，參見圖22)。更具體來說，相對大的變形出現在S字母形信號的中間部分的波形上(在正/負峰值之間)，由于這樣，使得難以穩定地執行對于所需記錄層的聚焦操作，或導致伺服特性的惡化。通過使用衍射元件(例如HOE等)從光盤劃分接收反射光、根據光斑大小方法來檢測聚焦誤差信號、并從其接收到的光信號檢測透鏡誤差信號的配置，需要實現抑制對于多層光盤由于雜散光引起的透鏡誤差信號的質量惡化，并且實現抑制聚焦誤差信號(S字母形信號)的質量惡化。本專利技術的實施例提供了光盤設備。根據一個實施例，光盤設備包括衍射元件(來自光盤記錄介質的反射光輸入到該元件)，所述衍射元件包括第一衍射區域(形成在使入射光通量的中心部分中的光受到衍射的位置上)、第二衍射區域(形成為與第一衍射區域的外部邊緣接觸)和第三衍射區域(形成為與第二衍射區域的外部邊緣接觸)。光盤設備還包括光接收/信號生成單元，其被配置成基于在第三衍射區域衍射的光，根據光斑大小方法，來執行聚焦誤差信號的生成和透鏡誤差信號的生成。光接收/信號生成單元接收在第二衍射區域衍射的光，并且基于其接收到的光信號和通過接收在第三衍射區域衍射的光而獲得的接收到的光信號，來執行聚焦誤差信號的生成。根據上述配置，執行劃分光接收的衍射元件包括位于中心部分的第一衍射區域、與其外部邊緣相鄰的第二衍射區域和與其更遠的外部邊緣相鄰的第三衍射區域。根據布置于中心部分的第一衍射區域，光通量中心部分的光(對于抑制雜散光分量來說是重要的)可以被散射到除光接收元件之外的位置。根據與此第一衍射區域的外部邊緣相鄰的第二衍射區域，以前(作為用于多層光盤的雜散光的措施而)被掩蔽的部分的光可以被部分地散射到預定位置。也就是說，這意味著，對于靠近光通量中心部分的光(以前為了對與處理多層光盤相伴的透鏡誤差信號的質量惡化進行抑制而被散射到除了光接收元件之外的位置)，重新啟用其一部分。此外，通過本專利技術，根據光接收/信號生成單元，在此第二衍射區域處衍射的光重新被接收，并且基于其接收到的光信號和在第三衍射區域處衍射的光的接收到的光信號，執行根據光斑大小方法的聚焦誤差信號的生成(計算)。換句話說，對于靠近光通量中心部分的光(以前為了對與處理多層光盤相伴的透鏡誤差信號的質量惡化進行抑制而被散射到除了光接收元件之外的位置)，本專利技術的這種配置可以被表示成這樣的配置:其一部分被重新接收，并且其接收到的光信號被應用于聚焦誤差信號的計算。聚焦誤差信號的計算是使用光通量中心部分的光(對于生成聚焦誤差信號來說是重要的)的一部分來執行的，相應地，與相關技術相比，實現了 S字母形波形的改善。也就是說，這樣使得實現了聚焦操作穩定性的改進，并且也實現了伺服性質的改進。另一方面，對于透鏡誤差信號生成系統，可以防止在用于透鏡誤差信號生成的光接收單元處接收到根據與第一衍射區域(掩蔽衍射區域)相鄰的第二衍射區域的衍射光(即，獲得與掩蔽相同的效果)，相應地，可以維持與根據相關技術的處理多層光盤的掩蔽效果相同的效果，并且相應地，對于透鏡誤差信號可以維持與相關技術相同的信號質量。以此方式，根據本專利技術，可以實現對透鏡誤差信號的質量惡化的抑制，并可以實現對聚焦誤差信號的S字母形波形的惡化的抑制。根據本專利技術，來自光盤記錄介質的反射光由衍射元件劃分接收，根據光斑大小方法來檢測聚焦誤差信號，并從其接收到的光信號執行檢測透鏡誤差信號的檢測，通過該配置，可以實現透鏡誤差信號的質量惡化的抑制以及聚焦誤差信號的S字母形波形的惡化的抑制。附圖說明圖1為示出了用作實施例的基礎的光盤設備中包括的光學系統的配置的圖；圖2為示出了用作實施例的基礎的光盤設備中包括的信號生成系統的配置的圖；圖3A和圖3B為示出了第一光束劃分單元的劃分光束圖案與第一光接收單元的接收到的光圖案之間的關系的圖；圖4A至圖4F為關于根據將由第二光束劃分單元的光束劃分(衍射)實現的光斑大小方法的聚焦誤差信號FE生成技術的概述的說明圖；圖5A至圖5E為用于描述用于生成聚焦誤差信號(光斑大小方法)、透鏡誤差信號和推挽信號的第二光束劃分單元的劃分光束圖案的實例的圖；圖6為用于描述用作第一實施例的實施例1的光盤設本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光盤設備，包括：衍射元件，來自光盤記錄介質的反射光被輸入到所述衍射元件，所述衍射元件包括：第一衍射區域，其形成于使入射光通量的中心部分中的光受到衍射的位置中，第二衍射區域，其形成為與所述第一衍射區域的外部邊緣接觸，第三衍射區域，其形成為與所述第二衍射區域的外部邊緣接觸；和光接收/信號生成單元，其配置成基于在所述第三衍射區域處衍射的光，來執行聚焦誤差信號的生成和透鏡誤差信號的生成；其中，所述光接收/信號生成單元接收在所述第二衍射區域處衍射的光，并基于其接收到的光信號和通過接收在所述第三衍射區域處衍射的光而獲得的接收到的光信號，來執行所述聚焦誤差信號的生成。

【技術特征摘要】
2011.10.31 JP 2011-2384691.一種光盤設備，包括: 衍射元件，來自光盤記錄介質的反射光被輸入到所述衍射元件，所述衍射元件包括: 第一衍射區域，其形成于使入射光通量的中心部分中的光受到衍射的位置中， 第二衍射區域，其形成為與所述第一衍射區域的外部邊緣接觸， 第三衍射區域，其形成為與所述第二衍射區域的外部邊緣接觸；和光接收/信號生成単元，其配置成基于在所述第三衍射區域處衍射的光，來執行聚焦誤差信號的生成和透鏡誤差信號的生成； 其中，所述光接收/信號生成単元接收在所述第二衍射區域處衍射的光，并基于其接收到的光信號和通過接收在所述第三衍射區域處衍射的光而獲得的接收到的光信號，來執行所述聚焦誤差信號的生成。2.根據權利要求1所述的光盤設備，其中，所述衍射元件中的這些衍射區域被配置成:按照作為柱面透鏡的效果，來給沿+1級衍射光和-1級衍射光提供焦點位置在...

【專利技術屬性】
技術研發人員：根本和彥，小川悠介，石井保，
申請(專利權)人：索尼公司，
類型：發明
國別省市：