真空蒸鍍裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術(shù)提供一種真空蒸鍍裝置，即使在使用防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等的情況下，也能夠降低施加于對真空容器內(nèi)進行排氣的泵的負載。本實用新型專利技術(shù)涉及在真空容器內(nèi)使蒸鍍物質(zhì)蒸鍍至基板的真空蒸鍍裝置（1）。真空蒸鍍裝置（1）構(gòu)成為具備：拱頂型的基板保持構(gòu)件（12），其用于保持多個基板（14）；旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，其用于使基板保持構(gòu)件(12)旋轉(zhuǎn)；蒸鍍構(gòu)件(34)；排氣構(gòu)件，其用于將真空容器(10)內(nèi)的氣體分子排出；以及排氣口(G1)，其由設(shè)于真空容器(10)的側(cè)壁的開口構(gòu)成，并能夠供由排氣構(gòu)件排出到真空容器(10)外的氣體分子通過，基板保持構(gòu)件(12)的下端部配置在比排氣口(G1)的上端部(G1a)靠下方的位置。（*該技術(shù)在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及薄膜的真空蒸鍍裝置。
技術(shù)介紹
如專利文獻I那樣，提出了用于制造防污性、疏油性、疏水性的薄膜的蒸鍍裝置。專利文獻1:日本特開2010— 090454號公報在如專利文獻I所述的用于制造防污性、疏油性、疏水性的薄膜的蒸鍍裝置中，使用有機化合物作為具有防污性、疏油性、疏水性的疏油性膜的成膜材料。防污性、疏油性、疏水性的成膜材料與無機材料蒸鍍相比，施加于對真空容器內(nèi)進行排氣的真空泵的負載較大。例如，在使用擴散泵作為真空泵的情況下，防污性、疏油性、疏水性的成膜材料被供給至擴散泵后，加速了擴散泵的油劣化，其結(jié)果為，因擴散泵的排氣性劣化而導(dǎo)致擴散泵維護周期縮短。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本使用新型是鑒于上述課題而完成的，本技術(shù)的目的在于提供一種真空蒸鍍裝置，即使在使用防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等的情況下，也能夠降低施加于對真空容器內(nèi)進行排氣的泵的負載。所述課題根據(jù)技術(shù)方案I的真空蒸鍍裝置通過如下方式解決:其在真空容器內(nèi)使蒸鍍物質(zhì)蒸鍍至基板，其中，該真空蒸鍍裝置構(gòu)成為具備:拱頂型的基板保持構(gòu)件，其配設(shè)在所述真空容器內(nèi)，用于保持多個所述基板；旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，其用于使該基板保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)；蒸鍍構(gòu)件，其以與所述基板對置的方式設(shè)置；排氣構(gòu)件，其用于將所述真空容器內(nèi)的氣體分子排出；以及排氣口，其由設(shè)于所述真空容器的側(cè)壁的開口構(gòu)成，能夠供由所述排氣構(gòu)件排出到所述真空容器外的所述氣體分子通過，所述基板保持構(gòu)件的下端部配置在比所述排氣口的上端部靠下方的位置。由于如上所述的構(gòu)成，所以能夠減少真空容器內(nèi)的蒸鍍物質(zhì)通過排氣口被排放至排氣構(gòu)件側(cè)的比率，能夠降低施加于對真空容器內(nèi)進行排氣的真空泵等排氣構(gòu)件的負載，并能夠抑制真空泵等排氣構(gòu)件的維護周期縮短的情況。特別地，使用有機化合物或防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等作為蒸鍍物質(zhì)的情況，比使用無機材料的情況施加更大的負載，但在本技術(shù)中，由于減少了通過排氣口向排氣構(gòu)件供給的蒸鍍物質(zhì)的量本身，所以能夠通過簡單的結(jié)構(gòu)降低施加于真空泵等排氣構(gòu)件的負載。此時，如技術(shù)方案2所述，也可以形成為，所述基板保持構(gòu)件的下端部配置于比將包含所述蒸鍍構(gòu)件的上端的水平面和包含所述排氣口的下端的水平面之間二等分的高度靠上方的位置。由于如上所述的構(gòu)成，所以形成如下配置:在蒸鍍構(gòu)件和排氣口之間存在基板保持構(gòu)件，從蒸鍍構(gòu)件側(cè)觀察，排氣口的至少一部分隱藏在基板保持構(gòu)件的后方，從蒸鍍構(gòu)件朝向排氣口的蒸鍍物質(zhì)的路徑的中途被基板保持構(gòu)件遮蔽。其結(jié)果為，能夠降低經(jīng)由排氣口供給至真空泵等排氣構(gòu)件的蒸鍍物質(zhì)的量，并能夠通過簡單的結(jié)構(gòu)，降低施加于真空泵等排氣構(gòu)件的負載。而且，基板保持構(gòu)件的形狀可以是半球狀拱頂型、圓錐臺狀拱頂型、棱錐臺狀拱頂型中的任意一種。基板保持構(gòu)件為這些形狀中的任意一種形狀，由此能夠高效地保持基板，進行成膜。根據(jù)本技術(shù)涉及的真空蒸鍍裝置，能夠降低真空容器內(nèi)的蒸鍍物質(zhì)通過排氣口被排放至排氣構(gòu)件側(cè)的比率，能夠降低施加于對真空容器內(nèi)進行排氣的真空泵等排氣構(gòu)件的負載，并能夠抑制真空泵等排氣構(gòu)件的維護周期縮短的情況。特別地，在使用有機化合物或防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等作為蒸鍍物質(zhì)的情況下，比使用無機材料的情況施加更大的負載，但在本技術(shù)中，由于減少了通過排氣口向排氣構(gòu)件供給的蒸鍍物質(zhì)的量本身，所以能夠通過簡單的結(jié)構(gòu)降低施加于真空泵等排氣構(gòu)件的負載。附圖說明 圖1是本技術(shù)的一個實施方式的真空蒸鍍裝置的概念圖。圖2是示出本技術(shù)的一個實施方式的基板保持器和排氣口的位置關(guān)系的示 意圖。 圖3是示出本技術(shù)的一個實施方式的基板保持器和排氣口的位置關(guān)系的示 意圖。 圖4是示出本技術(shù)的另一實施方式的基板保持器和排氣口的位置關(guān)系的示 意圖。標(biāo)號說明 1:真空蒸鍍裝置 10:真空容器12,12 ;:基板保持器(基板保持構(gòu)件) 12a、12a ':下端部 14:基板 34:蒸鍍源(蒸鍍構(gòu)件) 34a、38a:閘板34b:上端部 38:尚子源40:中和器44:連接件 H:高度 Gl:排氣口Gla:上立而部 Glb:下端部 P1、P2:水平面具體實施方式以下，參照附圖對本技術(shù)的實施方式進行說明。而且，以下說明的部件、配置等是將技術(shù)具體化的一個例子，并不用于限定本技術(shù)，當(dāng)然可以按照本技術(shù)的宗旨進行各種改變，而且等同物也包含于權(quán)利范圍內(nèi)。圖1是本技術(shù)的一個實施方式的真空蒸鍍裝置I的概要剖視圖。真空蒸鍍裝置I是能夠一邊從離子源38向基板照射離子束一邊進行成膜處理的離子輔助蒸鍍裝置，在縱向放置的圓筒狀的真空容器10的內(nèi)部的上方保持有作為基板保持構(gòu)件的基板保持器12。而且，在真空容器10的內(nèi)部的下方配設(shè)有作為蒸鍍構(gòu)件的蒸鍍源34。另外，離子源38及中和器40配設(shè)于真空容器10內(nèi)部的側(cè)面?zhèn)?。作為基板保持?gòu)件的基板保持器12是以能夠繞垂直軸線旋轉(zhuǎn)的方式保持在真空容器10內(nèi)的上側(cè)的、形成為拱頂狀的不銹鋼制的部件。基板保持器12的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件與未圖示的馬達的輸出軸連結(jié)。在基板保持器12的下表面，以成膜面朝向下方的方式支承有多個作為基板的基板14。此外，在本實施方式中，基板保持器12的形狀為大致半球狀的拱頂，但也可以形成為圓錐拱頂、棱錐拱頂?shù)热魏涡螤畹墓绊??；?4是在表面通過成膜附著電介質(zhì)膜或吸收膜的樹脂(例如聚酰亞胺)、石英、強化玻璃等具有透光性的部件。在本實施方式中，使用圓板狀的部件作為基板14，但形狀不限于此，也可以是例如透鏡形狀、圓筒狀、圓環(huán)狀、矩形板狀之類的其他形狀。真空容器10是在公知的成膜裝置中通常使用的具有大致圓筒的外形狀的不銹鋼制的容器，為接地電位。在真空容器10中形成有用于向內(nèi)部導(dǎo)入氣體的氣體導(dǎo)入管(未圖示)。如圖1 圖3所示，在真空容器10的側(cè)壁面設(shè)有開口，該開口構(gòu)成用于將真空容器10內(nèi)的氣體排出的排氣口 Gl。在排氣口 Gl連接有作為排氣構(gòu)件的未圖示的真空泵，通過運轉(zhuǎn)未圖示的真空泵，真空容器10內(nèi)部排氣至預(yù)定的壓力(例如大約3X10_2Pa 10_4Pa)。在本實施方式中，使用擴散泵作為排氣構(gòu)件。擴散泵在具備氣體的排出口、吸入口的容器內(nèi)形成為沿豎直方向延伸的圓筒狀，由在末端配置有具備噴嘴的煙囪的結(jié)構(gòu)構(gòu)成，在內(nèi)部貯存有油。利用擴散泵汲出氣體的原理如下所述。使裝置內(nèi)的油蒸發(fā)后，已蒸發(fā)的油在中心部的煙囪上升，并從煙囪的末端的噴嘴向下猛烈地噴出。周圍的氣體分子被油分子擊飛，被向下方壓縮。從設(shè)于裝置側(cè)壁的下方的排氣口通過旋轉(zhuǎn)泵排放至裝置外。壁面上的油蒸氣冷卻后變回液體，再次返回底面。通過重復(fù)這一連串的動作，擴散泵將從真空容器10通過排氣口 Gl流入的氣體分子排出至外部。而且，真空泵由未圖示的控制器控制，可以對真空容器10內(nèi)的壓力進行調(diào)節(jié)。如圖2所示，基板保持器12的下端部12a配置于比排氣口 Gl的上端部Gla靠下方的位置。基板保持器12與排氣口 Gl以如上所述的位置關(guān)系配置，因此，從蒸鍍源34至排氣口 Gl的蒸鍍物質(zhì)的路徑的至少一部分被基板保持器12遮擋，并且，排氣口 Gl距離蒸鍍源34較遠。與基板保持器12配置為比排氣口 Gl離蒸鍍源34遠的情況不同，能夠減少通過排氣口 Gl流入真空泵側(cè)的蒸鍍物質(zhì)的量。而且，為了排氣效率，基板保持器12配設(shè)為與真空容器10的本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種真空蒸鍍裝置，其在真空容器內(nèi)使蒸鍍物質(zhì)蒸鍍至基板，所述真空蒸鍍裝置的特征在于，該蒸鍍裝置構(gòu)成為具備：拱頂型的基板保持構(gòu)件，其配設(shè)在所述真空容器內(nèi)，用于保持多個所述基板；旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，其用于使該基板保持構(gòu)件旋轉(zhuǎn)；蒸鍍構(gòu)件，其以與所述基板對置的方式設(shè)置；排氣構(gòu)件，其用于將所述真空容器內(nèi)的氣體分子排出；以及排氣口，其由設(shè)于所述真空容器的側(cè)壁的開口構(gòu)成，能夠供由所述排氣構(gòu)件排出到所述真空容器外的所述氣體分子通過，所述基板保持構(gòu)件的下端部配置在比所述排氣口的上端部靠下方的位置。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：鹽野一郎，林達也，姜友松，宮內(nèi)充祐，岡田勝久，長江亦周，
申請(專利權(quán))人：株式會社新柯隆，
類型：實用新型
國別省市：