多聯(lián)分注機(jī)（100）具備：多個(gè)注射器（103），其由柱塞（101）和殼體（102）構(gòu)成；驅(qū)動(dòng)馬達(dá)（104），其驅(qū)動(dòng)至少一個(gè)柱塞（101）；前端部（106），其安裝分注吸頭（105）；以及管（107A、107B），其連接注射器（103）和...

本發(fā)明包括：從稀釋液收納瓶(1032)、內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)液收納瓶(1042)到稀釋槽(1010)的稀釋液流路(1033)、內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)液流路(1043)；從稀釋槽(1010)到分析部(1092)的測(cè)定溶液吸引噴嘴(1052)；對(duì)稀釋槽(1010)、...

本發(fā)明提供一種缺陷檢查系統(tǒng)以及缺陷檢查方法，能夠獲得再現(xiàn)性良好的檢查結(jié)果。缺陷檢查系統(tǒng)(1)是具有取得試樣(107)的觀察圖像的拍攝裝置(100)的缺陷檢查系統(tǒng)(1)，具備：學(xué)習(xí)部(330a)，其拍攝試樣(107)來(lái)取得學(xué)習(xí)圖像，使用學(xué)...

具備：分析部(40)，其進(jìn)行檢體的分析；以及控制裝置(20)，其控制分析部(40)的各機(jī)構(gòu)的動(dòng)作，控制裝置(20)根據(jù)在受理了檢體或者檢體的分析所需的消耗品的更換請(qǐng)求的時(shí)間點(diǎn)制作的分析時(shí)間表中最后使用該檢體或者消耗品的時(shí)間，計(jì)算使用者在...

本發(fā)明提供一種降低用戶(hù)的校準(zhǔn)的作業(yè)負(fù)擔(dān)的自動(dòng)分析裝置，具有：分析部，其對(duì)包含特定成分的濃度已知的標(biāo)準(zhǔn)液的試樣進(jìn)行分析；操作部，其按所述標(biāo)準(zhǔn)液將測(cè)定項(xiàng)目、已知濃度和設(shè)置場(chǎng)所關(guān)聯(lián)起來(lái)進(jìn)行指定；控制部，其使用所述標(biāo)準(zhǔn)液的已知濃度和所述標(biāo)準(zhǔn)液的...

本發(fā)明中，目的在于提供能夠由保養(yǎng)作業(yè)的作業(yè)者提示有益的信息的技術(shù)。本發(fā)明的保養(yǎng)作業(yè)分析系統(tǒng)之一是分析半導(dǎo)體制造裝置的保養(yǎng)作業(yè)中的作業(yè)動(dòng)作的保養(yǎng)作業(yè)分析系統(tǒng)，具有：信息取得部，取得包含表示進(jìn)行所述保養(yǎng)作業(yè)的作業(yè)者的活動(dòng)的活動(dòng)信息的作業(yè)信息...

為了提供一種能夠兼顧圖案傾倒的抑制和垂直的加工形狀的等離子處理方法，在使用含碳膜的掩模和無(wú)機(jī)膜的掩模對(duì)被蝕刻膜進(jìn)行等離子蝕刻的等離子處理方法中，具有：第一步驟，使用所述含碳膜的掩模和所述無(wú)機(jī)膜的掩模對(duì)所述被蝕刻膜進(jìn)行等離子蝕刻；第二步驟...

本發(fā)明提供一種能夠避免因光源通電開(kāi)始而產(chǎn)生的伴隨溫度變化的光量漂移，縮短穩(wěn)定化等待時(shí)間的自動(dòng)分析裝置。自動(dòng)分析裝置(50)包括：光源(39)，其對(duì)收納試料和試劑的混合液的反應(yīng)容器(2)照射用于測(cè)定試料的光；調(diào)溫機(jī)構(gòu)(27)，其利用調(diào)溫介...

本發(fā)明提供能夠抑制放射線對(duì)拍攝裝置的影響的放射線治療裝置。X射線拍攝裝置具有對(duì)患者（6）照射作為拍攝用的光的X射線的X射線管（7）和經(jīng)由患者（6）檢測(cè)X射線的FPD（2）。X射線管（7）及FPD（2）配置于從將來(lái)自照射噴嘴（1）的放射線...

提高使用電熱器件的容器保管裝置的冷卻性能。該容器保管裝置具有：保管部，其對(duì)容納液體的容器進(jìn)行保管；以及冷卻部，其對(duì)從所述保管部吸引的空氣進(jìn)行冷卻，并將冷卻后的空氣供給所述保管部，所述冷卻部具備：多個(gè)翅片，其沿著所述空氣的流動(dòng)配置；以及電...

本發(fā)明提供一種能夠進(jìn)行定量檢查的點(diǎn)變異比率檢測(cè)方法。本發(fā)明的點(diǎn)變異比率檢測(cè)方法用于多重連接探針擴(kuò)增MLPA測(cè)量，其具有：測(cè)量工序，使用電泳裝置，測(cè)量從試樣的變異部分發(fā)出的熒光信號(hào)即源自變異信號(hào)的強(qiáng)度S<subgt;MT</s...

在晶片外周部，將微波電場(chǎng)強(qiáng)度的周向偏差最小化，從而改善等離子處理的周向均勻性。等離子處理裝置在同軸上將TE11模的微波經(jīng)由圓形波導(dǎo)管導(dǎo)入處理室，在該等離子處理裝置中，從圓形波導(dǎo)管內(nèi)的上方起設(shè)置微波的90°相位差板，在其下方設(shè)置180°相...

蝕刻處理方法和蝕刻處理裝置，具有如下工序：向真空容器(11)內(nèi)部的處理室(7)內(nèi)的晶圓載物臺(tái)(9)上所載置的晶圓(8)供給氧自由基或臭氧，在SiCO膜(1)的表面形成氧化層(5)的工序；使等離子體發(fā)生而由含有CF<subgt;4&...

在等離子處理裝置用構(gòu)件的基材(52)上使用懸浮等離子熱噴涂法來(lái)形成被膜(53)。懸浮等離子熱噴涂中所用的懸浮液(63)包含含氟溶媒(61)、多個(gè)氟化釔粒子和多個(gè)氟氧化釔粒子。

本發(fā)明提供一種劑量調(diào)整機(jī)構(gòu)，其課題在于，降低放射線治療裝置的劑量調(diào)整機(jī)構(gòu)中的放射線的影響，抑制故障產(chǎn)生。劑量調(diào)整機(jī)構(gòu)的特征在于，劑量調(diào)整機(jī)構(gòu)(40)具備：致動(dòng)器(42)，其與放射線治療裝置(10)照射放射線的放射軸分離地配置；以及作為干...

在對(duì)具有被蝕刻膜(201)和在被蝕刻膜的上方以圖案的方式形成的犧牲層(200)的被處理基板(301)的被蝕刻膜進(jìn)行等離子體蝕刻的等離子體處理方法中，包括：第一步驟，其使含硅元素膜(204)沉積于犧牲層；第二步驟，其在第一步驟后，使用由含...

試樣的觀察輔助裝置具備：觀察位置顯示部，其將通過(guò)帶電粒子束裝置對(duì)試樣進(jìn)行拍攝而得到的多個(gè)拍攝圖像的位置與圖像顯示部對(duì)應(yīng)起來(lái)進(jìn)行顯示；顯示處理部，其控制所述觀察位置顯示部；以及代表圖像選擇處理部，其根據(jù)所述多個(gè)拍攝圖像來(lái)選擇代表圖像，所述...

提供一種在導(dǎo)入有氣體的處理腔室內(nèi)使晶片的溫度控制變得容易的技術(shù)。半導(dǎo)體制造裝置具備基于電磁波的晶片的加熱器和控制電路。控制電路使用表示導(dǎo)入處理腔室內(nèi)的氣體的種類(lèi)、晶片的周?chē)臍怏w的壓力、決定晶片與載臺(tái)的間隔的推桿銷(xiāo)的高度、加熱器的輸出、...

一種容器保管裝置(101)，其經(jīng)由搬運(yùn)架子的搬運(yùn)路徑與自動(dòng)分析裝置連接，其具有：保管試樣容器的保管庫(kù)(204)；在保管庫(kù)與架子(203)之間進(jìn)行試樣容器的交換的容器搬運(yùn)機(jī)構(gòu)(208)；以及控制部，搬運(yùn)路徑在從容器保管裝置朝向自動(dòng)分析裝置...

從搬送部（117）向廢棄物儲(chǔ)藏單元（202）引導(dǎo)反應(yīng)容器（116a）的滑槽（305）具有將從搬送部（117）落下的反應(yīng)容器（116a）收入至滑槽（305）的反應(yīng)容器廢棄孔（113）、從反應(yīng)容器廢棄孔（113）沿鉛垂方向延伸第一距離的第一...