降低通氣噪聲的結構及立式氧化爐制造技術

本實用新型專利技術一種降低通氣噪聲的結構，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其包括具有氣體緩沖腔的內殼，該氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，進氣緩沖腔與反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，供氣管路與進氣緩沖腔相連通，其中，反向出氣緩沖腔的出氣方向與進氣緩沖腔的進氣方向相反。該降低通氣噪聲的結構能有效地降低供氣管路向立式氧化爐通入氣體時所產生的噪聲，并具有制造簡單，成本低和適用性廣等優點。此外，本實用新型專利技術還提供了一種采用上述降低通氣噪聲的結構的立式氧化爐，其在供氣管路末端增加上述一種降低通氣噪聲的結構，能有效降低噪聲，消除噪聲對周圍環境和人體的傷害，營造一個良好的工作環境。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
降低通氣噪聲的結構及立式氧化爐
本技術涉及一種降噪結構，具體涉及一種降低通氣噪聲的結構及使用該降低通氣噪聲的結構的立式氧化爐。
技術介紹
在半導體集成電路制造中，對硅片的加工處理特別是氧化處理是非常重要的一個環節，比如，以熱氧化生長的方式在硅片上生成二氧化硅，用于Gate Oxide (柵氧化)，Pad Oxide (墊層氧化)，Sac Oxide (犧牲氧化)或Field Oxide (場氧化)，也可以用作Anneal (退火)和Well Drive (阱驅動)等工藝。目前，立式氧化爐已取代臥式氧化爐硅片成為主要的氧化處理設備，其具有控溫精度高、可靠性好及適用于集成電路尤其是大規模集成電路制造過程中各種氧化、退火和薄膜生長等工藝的優點。在立式氧化爐的使用過程中，為避免外界大氣對氧化工藝的影響需要通過風循環系統對立式氧化爐內的微環境注入大量的N2,以排出微環境內的其他氣體，形成一個富N2環境。而風循環系統中的N2是通過供氣管路一端直接連接到位于立式氧化爐內的風循環管路來進行輸送的，在供氣管路的另一端連接有源源不斷生產N2的設備，其中，在供氣管道與立式氧化爐間還具有N2流量計以控制向風循環管路輸送N2的量。現有技術中，由于供氣管路的直徑(約6毫米)較小，氣體流量較大，在N2由供氣管路直接進入到風循環管路(直徑600mm)時，也即類似于氣體直接通入到相對封閉的大空間中，氣體前后的壓力發生巨大變化，導致其流動狀態劇烈改變，會產生明顯噪聲的問題，進而對周圍環境和人體造成傷害。為此，如何提供一種降低通氣噪聲的結構及使用該降低通氣噪聲的結構的立式氧化爐，以有效地降低通入氣體時產生的噪聲，消除噪聲對周圍環境和人體的傷害，營造一個良好的工作環境是目前業界亟需解決的問題之一。
技術實現思路
本技術的目的為，針對上述問題，提出了一種降低通氣噪聲的結構及立式氧化爐，其能有效地降低通入氣體時產生的噪聲，消除噪聲對周圍環境和人體的傷害，營造一個良好的工作環境。為實現上述目的，本技術一種降低通氣噪聲的結構，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其具有氣體緩沖腔的內殼，所述氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，所述進氣緩沖腔與所述反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，所述供氣管路與所述進氣緩沖腔相連通，其中，所述反向出氣緩沖腔的出氣方向與所述進氣緩沖腔的進氣方向相反。在優選或可選的實施例中，還包括與所述內殼外部具有一定空間距離的外殼體，其中，所述內殼和外殼體具有一個或多個接觸面。在優選或可選的實施例中，至少一個所述接觸面上包括至少一個第一出氣孔。在優選或可選的實施例中，所述第一出氣孔的形狀為圓形、橢圓形或矩形中的一種或多種。在優選或可選的實施例中，所述第一出氣孔的形狀為圓形，其直徑為I?3mm。在優選或可選的實施例中，所述內殼和外殼體間具有一個或多個密閉的隔離腔，其中所述隔離腔內填充有空氣。在優選或可選的實施例中，所述內殼的外側壁和/或外殼體的內側壁上還附有隔音材料。在優選或可選的實施例中，位于所述進氣緩沖腔內的所述供氣管路的管壁上具有至少一個第二出氣孔，其中，所述供氣管路末端端口開啟或閉合，所述第二出氣孔的形狀為圓形、橢圓形或矩形中的一種或多種。在優選或可選的實施例中，所述第二出氣孔的形狀為圓形，其直徑為0.5?2_。在優選或可選的實施例中，位于所述反向出氣緩沖腔一側的所述通道的端口處還連接有一反向出氣管。在優選或可選的實施例中，所述反向出氣管的管壁上具有至少一個第三出氣孔，其中，所述反向出氣管末端端口開啟或閉合，所述第三出氣孔的形狀為圓形、橢圓形或矩形中的一種或多種。在優選或可選的實施例中，所述第三出氣孔的形狀為圓形，其直徑為0.5?2_。此外，本技術還提供了一種立式氧化爐，其在供氣管路的末端包括上述所說的一種降低通氣噪聲的結構。從上述技術方案可以看出，本技術一種降低通氣噪聲的結構，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其包括具有氣體緩沖腔的內殼，該氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，進氣緩沖腔與反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，供氣管路與進氣緩沖腔相連通，其中，反向出氣緩沖腔的出氣方向與進氣緩沖腔的進氣方向相反。該降低通氣噪聲的結構能有效地降低供氣管路向立式氧化爐通入氣體時所產生的噪聲，并具有制造簡單，成本低和適用性廣等優點。此外本技術還提供了一種采用上述降低通氣噪聲的結構的立式氧化爐，其在供氣管路末端增加上述一種降低通氣噪聲的結構，能有效降低噪聲，消除噪聲對周圍環境和人體的傷害，營造一個良好的工作環境。【附圖說明】為能更清楚理解本技術的目的、特點和優點，以下將結合附圖對本技術的較佳實施例進行詳細描述，其中:圖1為本技術一【具體實施方式】的降低通氣噪聲的結構的整體示意圖；圖2為本技術一【具體實施方式】的降低通氣噪聲的結構的剖面示意圖；圖3為本技術一【具體實施方式】的降低通氣噪聲的結構的內部解剖示意圖。【具體實施方式】體現本技術特征與優點的一些典型實施例將在后段的說明中詳細敘述。應理解的是本技術能夠在不同的示例上具有各種的變化，其皆不脫離本技術的范圍，且其中的說明及圖示在本質上當作說明之用，而非用以限制本技術。上述及其它技術特征和有益效果，將結合附圖1-3對本技術降低通氣噪聲的結構及立式氧化爐的一較佳實施例進行詳細說明。以下將具體說明本技術一種降低通氣噪聲的結構及立式氧化爐，其中該降低通氣噪聲的結構用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其包括具有氣體緩沖腔的內殼，該氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，進氣緩沖腔與反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，供氣管路與進氣緩沖腔相連通，其中，反向出氣緩沖腔的出氣方向與進氣緩沖腔的進氣方向相反。該降低通氣噪聲的結構能有效地降低供氣管路向立式氧化爐通入氣體時所產生的噪聲，并具有制造簡單，成本低和適用性廣等優點。此外，本技術還提供了一種采用上述降低通氣噪聲的結構的立式氧化爐，其在供氣管路末端增加上述一種降低通氣噪聲的結構，能有效降低噪聲，消除噪聲對周圍環境和人體的傷害，營造一個良好的工作環境。此外，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時噪聲的結構具體可以設置在供氣管路的末端以向立式氧化爐的風循環管路進行供氣；當然該降低通氣噪聲的結構也可以設置于立式氧化爐內，使得供氣管路與該降低通氣噪聲的結構相連通后再向氧化爐中進行通氣，其中，上述所說氣體可以為凡也可以為其他氣體；為此該降低通氣噪聲的結構的具體安裝位置在此不再一一贅述，均應在本技術的保護范圍之內。請參閱圖1-3，如圖1、圖2和圖3所示，該降低通氣噪聲的結構包括具有氣體緩沖腔的內殼3,與內殼3外部具有一定空間距離的外殼體4,內殼3和外殼體4具有一個或多個接觸面，其中，至少一個上述接觸面上包括至少一個第一出氣孔1，上述供氣管路2與氣體緩沖腔相連通。具體來說，上述內殼3所包圍的氣體緩沖腔對供氣管路內的氣體起到緩沖作用，再由上述第一出氣孔I排出，以減緩氣體流動并分散排出，從而降低氣體進入立式氧化爐的風循環管路時所產生的噪聲；上述內殼3和外殼體4具有一個或多個接觸面，使得該內殼3和外殼體4間形成一個或多個密閉的隔離腔5，進一步地本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種降低通氣噪聲的結構，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其特征在于，具有氣體緩沖腔的內殼，所述氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，所述進氣緩沖腔與所述反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，所述供氣管路與所述進氣緩沖腔相連通，其中，所述反向出氣緩沖腔的出氣方向與所述進氣緩沖腔的進氣方向相反。

【技術特征摘要】
1.一種降低通氣噪聲的結構，用于降低供氣管路向立式氧化爐通氣時的噪聲，其特征在于，具有氣體緩沖腔的內殼，所述氣體緩沖腔包括進氣緩沖腔和反向出氣緩沖腔，所述進氣緩沖腔與所述反向出氣緩沖腔之間具有相互連通的通道，所述供氣管路與所述進氣緩沖腔相連通，其中，所述反向出氣緩沖腔的出氣方向與所述進氣緩沖腔的進氣方向相反。2.根據權利要求1所述的一種降低通氣噪聲的結構，其特征在于，還包括與所述內殼外部具有一定空間距離的外殼體，其中，所述內殼和外殼體具有一個或多個接觸面。3.根據權利要求2所述的一種降低通氣噪聲的結構，其特征在于，至少一個所述接觸面上包括至少一個第一出氣孔。4.根據權利要求3所述的一種降低通氣噪聲的結構，其特征在于，所述第一出氣孔的形狀為圓形、橢圓形或矩形中的一種或多種。5.根據權利要求4所述的一種降低通氣噪聲的結構，其特征在于，所述第一出氣孔的形狀為圓形，其直徑為I?3mm。6.根據權利要求2所述的一種降低通氣噪聲的結構,其特征在于,所述內殼和外殼體間具有一個或多個密閉的隔離腔，其中所述隔離腔內填充有空氣。7.根據權利要求1至6任一項所述的一種降低通...

【專利技術屬性】
技術研發人員：宋辰龍，
申請(專利權)人：北京七星華創電子股份有限公司，
類型：新型
國別省市：北京;11