一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法，目的在于解決現有電離室管道位置調節裝置對電離室管道的位置調整非常困難，且調整是不連續的問題。本發明專利技術以現有電離室管道位置調節裝置為基礎，對裝置的整體機構進行了全新的設計和改進，增加了轉動調整件，并利用轉動調整件與其他部件之間的相互配合，實現了電離室管道的連續調節，有效改變了現有電離室管道的調節方式，簡化整體調節操作。本發明專利技術構思巧妙，設計合理，結構簡單，使用方便，易于操作，具有較好的應用前景，值得大規模推廣和應用。

Device and method for continuously regulating position of ionization chamber pipe

The invention discloses a device and a method for continuously adjustable chamber pipeline position, the purpose is to solve the existing pipeline position adjusting device of the ionization chamber ionization chamber pipeline position adjustment is very difficult, and the adjustment is not continuous. The invention to the existing pipeline ionization chamber position adjusting device based on the overall mechanism of device is designed and improved new, increased rotation adjustment, and the interaction between the rotating adjusting part and other parts, realizes the continuous adjustment of the ionization chamber of the pipeline, effectively changing the existing regulation mode of ionization chamber pipe overall, simplify the adjustment operation. The invention has the advantages of artful design, reasonable design, simple structure, convenient operation, easy operation and good application prospect, and is worthy of popularization and application in a large scale.

【技術實現步驟摘要】
一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法
本專利技術涉及反應堆工程領域，具體為一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法。本專利技術能夠有效調節電離室管道的位置，且結構簡單，操作方便，易于維護，具有較高的應用價值和較好的應用前景。
技術介紹
電離室管道主要用于安裝反應堆的中子探測器（名稱為電離室）。在反應堆中，需要安裝多個電離室進行測量，并且測量控制系統要求這幾個電離室測量信號基本一致。而電離室距離堆芯近則測量信號大，反之測量信號小，這就需要每根電離室管道能夠單獨調整其位置，從而調整電離室的輸出電流信號，以滿足測量的要求。現有的電離室管道位置調節裝置如圖1所示，該裝置包括用于支撐電離室管道的下支撐板，所述下支撐板上設置有若干個定位孔，通過將電離室管道設置在不同的定位孔上，以實現電離室管道位置的調節。然而，現有電離室管道位置調節裝置存在如下缺點：1）由于采用電離室管道在下支撐板上不同的定位孔中定位，使得電離室管道位置調整是不連續的；2）由于電離室管道的長度很長（通常長達十米左右），定位孔很小，在電離室管道上端操作時，根本無法看見定位孔的位置，這使得電離室管道的位置調整非常困難，甚至出現無法調整的情況。中國專利CN201410318271.1公開了一種模擬燃料組件子通道加熱棒間距調節裝置，該裝置包括：位置調節系統；所述位置調節系統位于該裝置上端，所述位置調節系統包含：加熱棒的引線電極、移動滑塊、嚙合系統支架、固定栓、齒狀桿、齒輪、轉動盤、錐形波紋管、導軌、刻度線、刻度指針、支撐盤和支撐桿；齒輪與轉動盤固定在嚙合系統支架上，齒狀桿穿過嚙合系統支架與移動滑塊連接在一起。該裝置通過旋轉轉動盤驅動齒輪帶動齒狀桿前后移動，帶動移動滑塊前后移動從而實現加熱棒距離調節功能，然后旋緊固定栓起到固定作用，通過刻度指針與支撐盤上表面的刻度線對三根加熱棒之間的距離進行精確定位，實現加熱棒之間的間距調節功能。若將該間距調節裝置用于本專利技術中，其存在如下缺點：1）該裝置采用齒輪傳動，結構較為復雜，不易于維護；2）該裝置獨立于現有電離室管道位置調節裝置之外，因此，需要對反應堆的結構進行重新調整，其用于現有反應堆的設備安裝成本較高；3）其采用齒輪傳動，單次移動的間距取決于齒輪上相鄰兩齒間的間距，無法實現真正意義上的連續調節。為此，迫切需要一種新的裝置，以解決上述問題。
技術實現思路
本專利技術的專利技術目的在于：針對上述存在的問題，提供一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法。本專利技術以現有電離室管道位置調節裝置為基礎，對裝置的整體機構進行了全新的設計和改進，增加了轉動調整件，并利用轉動調整件與其他部件之間的相互配合，實現了電離室管道的連續調節，有效改變了現有電離室管道的調節方式，簡化整體調節操作。本專利技術構思巧妙，設計合理，結構簡單，使用方便，易于操作，具有較好的應用前景，值得大規模推廣和應用。為了實現上述目的，本專利技術采用如下技術方案：一種可連續調節電離室管道位置的裝置，包括電離室管道、下支撐板，所述電離室管道包括管體、設置在管體下端的第一連接件，所述下支撐板上設置有若干個第一定位孔；還包括轉動調整件，所述轉動調整件包括盤體、與第一定位孔相配合的第二連接件，所述盤體與第二連接件固定連接，所述第二連接件與第一定位孔活動連接且第二連接件能相對第一定位孔轉動，所述盤體上設置有與第一連接件相配合的第二定位孔且盤體通過第二定位孔能帶動電離室管道相對下支撐板轉動。所述第一連接件的中軸線與第二連接件中軸線不重合且所述轉動調整件能沿第二連接件的中軸線轉動。所述第一連接件位于轉動調整件的轉動半徑上。所述第一連接件、第二連接件分別呈圓柱形或錐形。所述盤體呈圓形或橢圓形。所述第一定位孔、第二定位孔分別為至少一個。還包括固定連接件，所述固定連接件設置在轉動調整件上且轉動調整件能使電離室管道相對轉動調整件固定。還包括能對電離室管道進行固定的管道固定機構。所述管道固定機構包括第二支撐板、中間連接件、設置在電離室管道上的管道抱箍，所述第二支撐板依次通過中間連接件、管道抱箍與電離室管道相連且第二支撐板、中間連接件、管道抱箍能實現對電離室管道的固定。采用前述裝置進行電離室管道位置調節的方法，包括如下步驟：（1）安裝轉動調整件將轉動調整件的第二連接件設置于下支撐板的第一定位孔中；（2）安裝電離室管道將電離室管道上的第一連接件設置于轉動調整件的第二定位孔中；（3）位置調整待步驟（1）、步驟（2）完成后，旋轉電離室管道，帶動管體通過轉動調整件相對下支撐板轉動，當電離室管道到達電離室管道距反應堆所需距離時，對電離室管道進行固定即可。針對前述問題，本專利技術提供一種可連續調節電離室管道位置的裝置及方法。現有的電離室管道位置調節裝置如圖1所示，其工作過程如下：提起電離室管道，使得電離室管道下端的第一連接件插入下支撐板中不同位置的第一定位孔內，從而調節電離室管道至反應堆堆芯的距離。由于電離室管道長達十米左右，而第一定位孔之間的間距極小，這使得在實際操作中，電離室管道位置調整非常困難，甚至無法調整。基于現有裝置存在的問題，本專利技術在現有裝置的基礎上進行了全新的改進，其包括位于電離室管道與下支撐板之間的轉動調整件。該轉動調整件包括盤體、與盤體固定連接的第二連接件，第二連接件位于盤體下端，第二連接件與第一定位孔活動連接且第二連接件能相對下支撐板的第一定位孔轉動。同時，盤體上設置有與第一連接件相配合的第二定位孔，電離室管道下端的第一連接件能插入第二定位孔內，使得盤體通過第二定位孔能帶動電離室管道相對下支撐板轉動。采用該結構，電離室管道與盤體保持相對靜止，當對電離室管道進行調整時，轉動調整件以第二連接件為轉軸，能繞第一定位孔相對轉動，從而將原來的不連續調節變為現在的旋轉可連續調節。同時，當電離室管道、轉動調整件、下支撐板安裝完畢后，在需要調節電離室管道的位置時，無需將電離室管道提起，只需通過調整電離室管道的運動，即可改變電離室管道相對反應堆的距離。采用本專利技術，能夠極大的簡化操作，同時實現電離室管道與反應堆之間距離的連續調節，有效解決現有電離室管道位置調節裝置所存在的問題，具有極好的應用前景。與現有方法相比，本專利技術結構簡單，操作方便，且無需對現有的裝置進行改動，不僅適用于新建反應堆，還可適用于現有的反應堆，具有極好的應用前景。同時，第一連接件的中軸線與第二連接件中軸線不重合，轉動調整件能沿第二連接件的中軸線轉動，即第一連接件位于轉動調整件的轉動半徑上。采用方式，轉動調整件以第二連接件為軸心，第二定位孔能繞第二連接件轉動，從而帶動電離室管道相對反應堆的距離發生變化。進一步，第一連接件、第二連接件分別呈圓柱形或圓錐形，優選為圓錐形。第二連接件與第一連接件采用相同構型，有利于簡化整體的結構，降低生產成本。進一步，還包括固定連接件，固定連接件設置在轉動調整件上且轉動調整件能使電離室管道相對轉動調整件固定。采用該方式，能夠保證電離室管道與轉動調整件之間的相對固定。所述固定連接件可以為螺釘或螺栓，將螺釘擰緊，使電離室管道與轉動調整件連接在一起。還包括能對電離室管道進行固定的管道固定機構，管道固定機構能夠對電離室管道的上端進行固定，從而保證整體結構的穩定性。進一步，管道固定機構包括用于為管道固定機構提供支撐的第二支撐板、中間本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種可連續調節電離室管道位置的裝置，包括電離室管道、下支撐板，所述電離室管道包括管體、設置在管體下端的第一連接件，所述下支撐板上設置有若干個第一定位孔；其特征在于，還包括轉動調整件，所述轉動調整件包括盤體、與第一定位孔相配合的第二連接件，所述盤體與第二連接件固定連接，所述第二連接件與第一定位孔活動連接且第二連接件能相對第一定位孔轉動，所述盤體上設置有與第一連接件相配合的第二定位孔且盤體通過第二定位孔能帶動電離室管道相對下支撐板轉動。

【技術特征摘要】
1.一種可連續調節電離室管道位置的裝置，包括電離室管道、下支撐板，所述電離室管道包括管體、設置在管體下端的第一連接件，所述下支撐板上設置有若干個第一定位孔；其特征在于，還包括轉動調整件，所述轉動調整件包括盤體、與第一定位孔相配合的第二連接件，所述盤體與第二連接件固定連接，所述第二連接件與第一定位孔活動連接且第二連接件能相對第一定位孔轉動，所述盤體上設置有與第一連接件相配合的第二定位孔且盤體通過第二定位孔能帶動電離室管道相對下支撐板轉動。2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一連接件的中軸線與第二連接件中軸線不重合且所述轉動調整件能沿第二連接件的中軸線轉動。3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第一連接件位于轉動調整件的轉動半徑上。4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一連接件、第二連接件分別呈圓柱形或錐形。5.根據權利要求1-4任一項所述的裝置，其特征在于，所述盤體呈圓形或橢圓形。6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一定位孔、第二定位孔分別為至少一...

【專利技術屬性】
技術研發人員：朱世雷，唐彬，王學杰，黃文，謝俊，陳玉山，姚健，王鵬，
申請(專利權)人：中國工程物理研究院核物理與化學研究所，
類型：發明
國別省市：四川,51