【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于晶體生長設備，涉及一種熱處理裝置，具體是一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置。
技術介紹
1、晶體生長熱處理裝置是一種用于電子與通信
的工藝試驗儀器，適合制備氧化物，光子晶體金屬，合金，化合物與各種單晶樣品，可調節生長過程中的氣氛。晶體生長熱處理裝置在使用時，將裝有晶體物料的坩堝置于爐腔中進行加熱和處理，現有的箱式熱處理裝置由于需要保持爐內較高的溫度，所以對密封的要求較高，而爐門由于經常需要開啟，是能量散失的主要部位，所以爐門與前墻之間的密封要求較高，在爐內高溫氣體的對流和金屬構件吸熱傳導作用下，前墻和爐門結構均會發生一定的熱變形，引起爐體密封失效和散熱損耗。
技術實現思路
1、為解決
技術介紹
中存在的技術問題，本專利技術提出一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，通過在爐門與爐體之間設置氟膠密封圈密封，減少爐腔內的熱量散失，通過在爐門內設置不銹鋼水冷腔體，以冷卻爐門，避免氟膠密封圈受熱變形，延長密封圈的使用壽命。
2、本專利技術的目的可以通過以下技術方案實現：
3、一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，包括爐體和鉸接在爐體上的爐門，爐體中部設有爐腔，以放置需要熱處理的晶體物料，爐腔周側包覆有第一加熱爐膽，以將爐腔內的晶體物料高溫燒結；
4、爐門設置在爐腔正面，爐門與爐體之間通過氟膠密封圈密封，爐門內具有不銹鋼水冷腔體，以冷卻爐門，避免氟膠密封圈受熱變形，水冷腔體分別與設置在爐門兩側的進水口和出水口連通，以使在爐門溫度超過預設閾值時，從進水口向水冷
5、進一步地，爐門與爐腔之間設有由氧化鋁布縫制的管堵，以阻隔爐腔向爐門方向的熱傳遞，降低爐門的升溫速度，管堵通過不銹鋼片固定安裝在爐體內。
6、進一步地，第一加熱爐膽設有多個溫區控溫，以增加恒溫區的長度，使整個溫場均勻性增加。
7、進一步地，第一加熱爐膽一側設有氧化鋁爐膽，以提高爐體的耐高溫性能，使熔點更高的晶體物料能夠通過氧化鋁爐膽進行燒結。
8、進一步地，氧化鋁爐膽一側設有第二加熱爐膽，第二加熱爐膽設置在爐腔背面，以增加溫場的均勻性。
9、進一步地，爐腔底部通過管道連通有抽真空口，以在對爐腔加熱前，將爐腔內部的空氣抽空，實現對爐腔內的晶體物料高真空燒結。
10、進一步地，爐腔頂部通過管道連通有真空計，以在將爐腔內部空氣抽空后測量爐腔內的真空度。
11、進一步地，爐腔頂部通過管道分別連通有進/出氣電磁閥，以在對爐腔加熱前，向爐腔內部循環充入保護氣體，實現對爐腔內的晶體物料流動氣氛燒結。
12、進一步地，爐腔頂部通過管道連通有壓力變送器，以在對爐腔加熱時，實時監測并調整爐腔內的氣體壓力，實現對爐腔內的晶體物料高壓燒結。
13、本專利技術的有益效果：本專利技術提供的高潔凈高真空高壓熱處理裝置，包括爐體和爐門，通過爐體中部的爐腔放置需要熱處理的晶體物料，通過設置在爐腔周側的第一加熱爐膽、氧化鋁爐膽、第二加熱爐膽將爐腔內的晶體物料高溫燒結，爐門與爐體之間通過氟膠密封圈密封，避免爐腔內的熱量散失，通過在爐門內設置不銹鋼水冷腔體，以冷卻爐門，避免氟膠密封圈受熱變形，延長密封圈的使用壽命，通過在水冷腔體兩側設置進水口和出水口連通，以使在爐門溫度超過預設閾值時，從進水口向水冷腔體內通入冷水對爐門進行冷卻，并且冷水從出水口流出并循環使用，實現對爐門的持續降溫，通過在爐門與爐腔之間安裝由氧化鋁布縫制的管堵，以阻隔爐腔向爐門方向的熱傳遞，降低爐門的升溫速度，進一步減少爐腔內的熱量散失。通過在爐腔底部設置抽真空口將爐腔內部的空氣抽空，實現對爐腔內的晶體物料高真空燒結，并通過在爐腔頂部安裝真空計測量爐腔內的真空度。通過在爐腔頂部設置進/出氣電磁閥向爐腔內部循環充入保護氣體，實現對爐腔內的晶體物料流動氣氛燒結。通過在爐腔頂部安裝壓力變送器實時監測并調整爐腔內的氣體壓力，實現對爐腔內的晶體物料高壓燒結。
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1.一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，其特征在于，包括爐體(1)和鉸接在爐體(1)上的爐門(2)，爐體(1)中部設有爐腔(11)，以放置需要熱處理的晶體物料，爐腔(11)周側包覆有第一加熱爐膽(12)，以將爐腔(11)內的晶體物料高溫燒結；
2.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，爐門(2)與爐腔(11)之間設有由氧化鋁布縫制的管堵(13)，以阻隔爐腔(11)向爐門(2)方向的熱傳遞，降低爐門(2)的升溫速度，管堵(13)通過不銹鋼片(14)固定安裝在爐體(1)內。
3.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，第一加熱爐膽(12)設有多個溫區控溫，以增加恒溫區的長度，使整個溫場均勻性增加。
4.根據權利要求3所述的熱處理裝置，其特征在于，第一加熱爐膽(12)一側設有氧化鋁爐膽(14)，以提高爐體(1)的耐高溫性能，使熔點更高的晶體物料能夠通過氧化鋁爐膽(14)進行燒結。
5.根據權利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，氧化鋁爐膽(14)一側設有第二加熱爐膽(15)，第二加熱爐膽(15)設置在爐腔(11)背面，以增加溫場的均
6.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，爐腔(11)底部通過管道連通有抽真空口(19)，以在對爐腔(11)加熱前，將爐腔(11)內部的空氣抽空，實現對爐腔(11)內的晶體物料高真空燒結。
7.根據權利要求6所述的熱處理裝置，其特征在于，爐腔(11)頂部通過管道連通有真空計(17)，以在將爐腔(11)內部空氣抽空后測量爐腔(11)內的真空度。
8.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，爐腔(11)頂部通過管道分別連通有進/出氣電磁閥，以在對爐腔(11)加熱前，向爐腔(11)內部循環充入保護氣體，實現對爐腔(11)內的晶體物料流動氣氛燒結。
9.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，爐腔(11)頂部通過管道連通有壓力變送器(18)，以在對爐腔(11)加熱時，實時監測并調整爐腔(11)內的氣體壓力，實現對爐腔(11)內的晶體物料高壓燒結。
...【技術特征摘要】
1.一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，其特征在于，包括爐體(1)和鉸接在爐體(1)上的爐門(2)，爐體(1)中部設有爐腔(11)，以放置需要熱處理的晶體物料，爐腔(11)周側包覆有第一加熱爐膽(12)，以將爐腔(11)內的晶體物料高溫燒結；
2.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，爐門(2)與爐腔(11)之間設有由氧化鋁布縫制的管堵(13)，以阻隔爐腔(11)向爐門(2)方向的熱傳遞，降低爐門(2)的升溫速度，管堵(13)通過不銹鋼片(14)固定安裝在爐體(1)內。
3.根據權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于，第一加熱爐膽(12)設有多個溫區控溫，以增加恒溫區的長度，使整個溫場均勻性增加。
4.根據權利要求3所述的熱處理裝置，其特征在于，第一加熱爐膽(12)一側設有氧化鋁爐膽(14)，以提高爐體(1)的耐高溫性能，使熔點更高的晶體物料能夠通過氧化鋁爐膽(14)進行燒結。
5.根據權利要求4所述的熱處理裝置，其特征在于，氧化鋁爐膽(14)...
【專利技術屬性】
技術研發人員：朱沫浥，江曉平，王偉，齊亞芹，
申請(專利權)人：合肥科晶材料技術有限公司，
類型：新型
國別省市：
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