低雷達散射截面金屬支架及其設計方法技術

本發明專利技術提供一種低雷達散射截面金屬支架及其設計方法，包括：選定金屬支架上待設計的數個橫截面；對各橫截面分別采用下述步驟設計：計算得到橫截面的尺寸范圍，其中，橫截面的尺寸范圍由橫截面長軸的尺寸和短軸的尺寸確定；采用特定公式，并對特定公式中的形狀控制因子取一組互不相同的值，以得到橫截面的一組輪廓線表達式，其中，特定公式為-L≤x≤0其中，H為短半軸；L為長半軸；μ為橫截面的形狀控制因子，μ>0，x為橫截面輪廓線的橫坐標；y為橫截面輪廓線的縱坐標；根據低RCS預估公式，從橫截面的一組輪廓線表達式中選擇一個輪廓線表達式，以作為特定輪廓線表達式，并用于橫截面的設計；根據金屬支架的高度和傾斜角，均勻連接各橫截面，得到金屬支架的外形。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及通信技術，尤其涉及一種。
技術介紹
目標低雷達散射截面(Radar Cross-Section,以下簡稱RCS)外形設計和材料隱身技術是現代隱身目標設計的兩個主要關鍵技術。在現代隱身目標的設計、研制和試驗過程中，需要對目標縮比模型以及全尺寸目標進行靜態RCS或動態RCS測量，以對所設計目標的RCS進行診斷測量和評估，為改進目標的設計和隱身性能評估提供參考依據。其中，目標縮比模型和全尺寸目標的靜態RCS測量是最主要的技術途徑。為了完成對隱身目標的高精度測量，RCS測試場大多采用金屬支架來對目標進行 支撐，且這種支架需要通過特殊的幾何造型設計和加工制造，以使支架的RCS電平顯著低于所測目標的RCS電平，從而達到精確測量目標RCS的目的。由于金屬支架的RCS電平主要取決于金屬支架前沿棱邊的內劈角和傾斜角，內劈角越小或傾斜角越大，金屬支架的低RCS性能越好。對于特定場合的金屬支架，傾斜角是一定的，一般，需通過改變內劈角改善金屬支架的低RCS性能。因此，在金屬支架設計中，需在滿足承重的條件下，盡可能地減小其內劈角。現有技術中，金屬支架有以下三種其中，第一種金屬支架的橫截面由單曲率圓弧構成；第二種金屬支架的橫截面由雙曲率圓弧構成；第三種為金屬支架的橫截面由余弦函數曲線構成。現有技術中，通過以下方法設計金屬支架根據金屬支架的承載要求和支架橫截面尺寸，通過調整軸比參數，使得金屬支架的低RCS性能滿足要求，從而使得金屬支架的承載要求、支架橫截面尺寸和低RCS性能三者平衡。現有技術至少存在以下問題前兩種設計方法均難以采用簡單的解析式通過計算機自動完成設計；且由于可調整的參數少，這三種方法在實際設計過程中的自由度很小，很難在支架承重、支架截面尺寸和支架的低RCS性能之間找到平衡點，設計中存在巨大困難。另外，由于目前對RCS電平的精確測量要求的提高，對金屬支架的低RCS特性提出了更高的要求，這也使也得采用現有設計方法得到的金屬支架不能滿足隱身目標的測試要求。
技術實現思路
本專利技術提供一種用于雷達目標測試的，用以優化現有金屬支架的結構。本專利技術的第一個方面是提供一種低雷達散射截面金屬支架設計方法，包括選定所述金屬支架上待設計的數個橫截面；對各所述橫截面分別采用下述步驟設計計算得到所述橫截面的尺寸范圍，其中，所述橫截面的尺寸范圍由橫截面長軸的尺寸和短軸的尺寸確定；采用特定公式，并對所述特定公式中的形狀控制因子取一組互不相同的值，以得到所述橫截面的一組輪廓線表達式，其中，所述特定公式為少權利要求1.一種低雷達散射截面金屬支架設計方法，其特征在于，包括 選定所述金屬支架上待設計的數個橫截橫截面； 對各所述橫截面分別采用下述步驟設計 計算得到所述橫截面的尺寸范圍，其中，所述橫截面的尺寸范圍由橫截面長軸的尺寸和短軸的尺寸確定； 采用特定公式，并對所述特定公式中的形狀控制因子取一組互不相同的值，以得到所述橫截面的一組輪廓線表達式，其中，所述特定公式為I+ cos jn ，-L^ 0，其中，H為短半軸；L為長半軸；μ為橫截面的形狀控制因子，μ >0，χ為所述橫截面輪廓線的橫坐標為所述橫截面輪廓線的縱坐標； 根據低RCS預估公式，從所述橫截面的一組輪廓線表達式中選擇一個輪廓線表達式，以作為特定輪廓線表達式，并用于橫截面的設計； 根據所述金屬支架的高度和傾斜角，均勻連接各個所述橫截面，以得到所述金屬支架的外形。2.根據權利要求I所述的低雷達散射截面金屬支架設計方法，其特征在于，所述得到所述金屬支架的外形之后，還包括 采用矩量法或高頻漸進技術，以獲得所述金屬支架的低RCS和頻率之間的對應關系。3.根據權利要求I所述的低雷達散射截面金屬支架設計方法，其特征在于， 選定的待設計的橫截面數量為兩個，分別為所述金屬支架的上橫截面和下橫截面。4.一種低雷達散射截面金屬支架，其特征在于，所述金屬支架的橫截面輪廓線滿足下述特定公式 H Γ (X K工1 + cos -γπ ，-L彡X彡0，其中，H為短半軸；L為長半軸；μ為橫截面 · 2 LJ-的形狀控制因子，μ >0，X為所述橫截面輪廓線的橫坐標；y為所述橫截面輪廓線的縱坐標。全文摘要本專利技術提供一種，包括選定金屬支架上待設計的數個橫截面；對各橫截面分別采用下述步驟設計計算得到橫截面的尺寸范圍，其中，橫截面的尺寸范圍由橫截面長軸的尺寸和短軸的尺寸確定；采用特定公式，并對特定公式中的形狀控制因子取一組互不相同的值，以得到橫截面的一組輪廓線表達式，其中，特定公式為-L≤x≤0其中，H為短半軸；L為長半軸；μ為橫截面的形狀控制因子，μ>0，x為橫截面輪廓線的橫坐標；y為橫截面輪廓線的縱坐標；根據低RCS預估公式，從橫截面的一組輪廓線表達式中選擇一個輪廓線表達式，以作為特定輪廓線表達式，并用于橫截面的設計；根據金屬支架的高度和傾斜角，均勻連接各橫截面，得到金屬支架的外形。文檔編號G01S7/02GK102944868SQ20121048428公開日2013年2月27日 申請日期2012年11月23日 優先權日2012年11月23日專利技術者許小劍 申請人:北京航空航天大學本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種低雷達散射截面金屬支架設計方法，其特征在于，包括：選定所述金屬支架上待設計的數個橫截橫截面；對各所述橫截面分別采用下述步驟設計：計算得到所述橫截面的尺寸范圍，其中，所述橫截面的尺寸范圍由橫截面長軸的尺寸和短軸的尺寸確定；采用特定公式，并對所述特定公式中的形狀控制因子取一組互不相同的值，以得到所述橫截面的一組輪廓線表達式，其中，所述特定公式為?L≤x≤0，其中，H為短半軸；L為長半軸；μ為橫截面的形狀控制因子，μ>0，x為所述橫截面輪廓線的橫坐標；y為所述橫截面輪廓線的縱坐標；根據低RCS預估公式，從所述橫截面的一組輪廓線表達式中選擇一個輪廓線表達式，以作為特定輪廓線表達式，并用于橫截面的設計；根據所述金屬支架的高度和傾斜角，均勻連接各個所述橫截面，以得到所述金屬支架的外形。FDA00002459112700011.jpg

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：許小劍，
申請(專利權)人：北京航空航天大學，
類型：發明
國別省市：