涂敷裝置制造方法及圖紙

一種基板處理系統，具備：處理單元，其對基板進行涂敷處理；基板送入單元，其被供給收容有涂敷處理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出單元，其回收收容有所述涂敷處理后的所述基板的送出用容器，且被供給空的所述送出用容器；輸送單元，其具有輸送機構，該輸送機構在所述處理單元內的裝載位置和所述基板送入單元之間輸送所述送入用容器，并在所述處理單元內的卸載位置和所述基板送出單元之間輸送所述送出用容器。吸引基板并將其保持的吸引部設置為能夠相對于在基部設置的臂部旋轉，能夠在利用保持部保持了基板的狀態使其旋轉的輸送裝置。利用噴嘴從以豎立的狀態使其旋轉的基板的兩面噴出液狀體地構成的涂敷裝置。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及基板處理系統、輸送裝置及涂敷裝置。
技術介紹
例如，在構成半導體基板、液晶面板的玻璃基板、構成硬盤的基板等各種基板上形成抗蝕劑膜等薄膜時，使基板旋轉的同時，在該基板上形成涂敷膜的涂敷裝置(例如，參照專利文獻I)。涂敷裝置例如作為涂敷單元，有時搭載于包括基板的送入動作、涂敷動作、送出動作的基板處理系統中。這樣的基板處理系統按每個主要動作單元化的情況居多，例如，在上述例子中，有時搭載進行送入動作的基板送入單元、進行送出動作的基板送出單元。在貫穿多個單元之間輸送基板的情況下，通常在每個單元配置輸送裝置，在各輸送裝置之間進行基板或收容該基板的盒等的轉移。其次，在這樣的涂敷裝置搭載有使基板旋轉的旋轉機構。旋轉機構能夠以例如將基板吸附等而保持的狀態使該基板旋轉。在將基板保持于旋轉機構時，例如，利用輸送裝置從外部向旋轉機構輸送基板的情況居多。作為這樣的輸送裝置，例如，已知有在臂的前端設置有基板保持部的結構的輸送裝置。作為在該輸送裝置設置 的基板保持部，例如，已知有具有吸附基板的吸附部的結構。該輸送裝置在將基板輸送至涂敷裝置后，在與涂敷裝置的旋轉機構之間進行基板的轉移。其次，在這樣的涂敷裝置中，通常以將基板相對于水平面平行放置，以保持下側的基板面的狀態使其旋轉。另一方面，例如，對如構成硬盤的基板等一樣需要在基板的兩面涂敷液狀體的基板，不能夠保持下側的基板面，因此，例如，如專利文獻I中的記載，提出了利用保持塊保持基板的同時使其旋轉的結構。專利文獻I日本特開平7-130642號公報。然而，在單元之間的送出動作中使用多個輸送裝置的基板處理系統中，該輸送裝置的配置和轉移控制的時序等結構上或控制上的設定等容易變得復雜，隨之，存在系統結構整體變得復雜化，并且，處理節拍變長的問題。
技術實現思路
鑒于如上所述的情況，本專利技術的第一目的在于提供能夠簡化系統結構，能夠縮短處理節拍的基板處理系統。其次，在輸送裝置和涂敷裝置之間進行基板的轉移的情況下，例如，需要基板的對位，或需要解除例如基板保持部中的吸附，在旋轉機構中重新吸附基板，重新保持，因此，需要相應的時間。因此，每一張基板所需的處理時間(節拍)變長，在提高生產率上成為問題。對此，不僅在基板形成薄膜的情況，而且只要是使基板旋轉的處理，則在進行其他處理時也可能同樣成為問題。鑒于如上所述的情況，本專利技術的第二目的在于提供能夠縮短處理節拍，并能夠提高生產率的輸送裝置。其次，根據專利文獻I中記載的方法可知，將基板平放的狀態下，在兩面涂敷液狀體，因此，在基板的表面和基板的背面之間，涂敷環境不同，形成的薄膜的狀態可能不同。鑒于如上所述的情況，本專利技術的第三目的在于提供能夠改善在基板上涂敷的液狀體的狀態的涂敷裝置。本專利技術的第一方式(aspect)是一種基板處理系統，其中，具備:處理單元，其對基板進行規定處理；基板送入單元，其被供給收容有所述規定處理前的所述基板的送入用容器，并且回收空的所述送入用容器；基板送出單元，其回收收容有所述規定處理后的所述基板的送出用容器，并且被供給空的所述送出用容器；輸送單元，其具有輸送機構，該輸送機構在所述處理單元內的裝載位置和所述基板送入單元之間輸送所述送入用容器，并在所述處理單元內的卸載位置和所述基板送出單元之間輸送所述送出用容器。根據該方式可知，設置于輸送單元的輸送機構在處理單元內的裝載位置和基板送入單元之間輸送送入用容器，并且，在處理單元內的卸載位置和基板送出單元之間輸送送出用容器，因此，能夠使一個輸送機構進行不同的輸送區間的輸送動作。由此，能夠單純化基于輸送機構的輸送處理，因此，能夠簡化系統結構，能夠縮短處理節拍。另外，根據該方式可知，分開使用送入用容器和送出用容器，因此，還具有能夠防止基板的污染的優點。優選在上述基板處理系統中，所述處理單元、所述基板送入單元及所述基板送出單元配置于直線方向上。在這種情況下，處理單元、基板送入單元及基板送出單元配置于直線方向上，因此，能夠將各單元之間的輸送路徑設定于該直線方向上。由此，能夠避免輸送路徑的復雜化，能夠簡化系統結構。優選在上述基板處理系統中，所述處理單元配置于所述基板送入單元和所述基板送出單元之間。在這種情況下，處理單元配置于基板送入單元和基板送出單元之間，因此，各單元沿基板的流動的方向配置。由此，能夠提高處理的效率。優選在上述基板處理系統中，所述輸送單元具有使所述輸送機構沿所述直線方向移動的移動機構。在這種情況下，輸送單元具有使輸送機構沿直線方向移動的移動機構，因此，能夠單純化輸送機構的移動動作。由此，能夠簡化系統結構。在上述基板處理系統中，在所述基板送入單元及所述基板送出單元分別設置有多個容器待機部。在這種情況下，在基板送入單元及基板送出單元分別設置有多個容器待機部，因此，能夠迅速地處理更多的基板。優選在上述基板處理系統中，所述基板送入單元及所述基板送出單元中至少一方具有使多個所述容器待機部移動的第二移動機構。在這種情況下，基板送入單元及基板送出單元中至少一方具有使多個容器待機部移動的第二移動機構，因此，能夠使容器待機部向更靠近輸送單元的位置移動。由此，能夠迅速地進行輸送動作，能夠實現處理的效率化。優選在上述基板處理系統中，所述第二移動機構以使供給對象容器靠近所述輸送單元，并且使回收對象容器離開所述輸送單元的方式使所述容器待機部移動。在這種情況下，第二移動機構以使供給對象容器靠近輸送單元，并且使回收對象容器離開輸送單元的方式使容器待機部移動，因此，能夠更迅速地進行供給對象容器的供給動作及回收對象容器的回收動作。由此，能夠實現處理的效率化。優選在上述基板處理系統中，在所述處理單元設置有緩沖機構，該緩沖機構具有與所述裝載位置及所述卸載位置中至少一方對應的多個第二容器待機部。在這種情況下，在處理單元設置有緩沖機構，該緩沖機構具有與裝載位置及卸載位置中至少一方對應的多個第二容器待機部，因此，能夠迅速地進行處理單元中的基板的裝載動作及卸載動作。由此，能夠實現處理的效率化。優選在上述基板處理系統中，所述緩沖機構具有使多個所述第二容器待機部移動的第三移動機構。在這種情況下，緩沖機構具有使多個第二容器待機部移動的第三移動機構，因此，能夠根據容器內的基板的殘留量，使第二容器待機部移動。由此，能夠實現處理的效率化。優選在上述基板處理系統中，所述第三移動機構使所述第二容器待機部在與所述輸送機構的輸送方向相同的方向上移動。在這種情況下，第三移動機構使第二容器待機部在與輸送機構的輸送方向相同的方向上移動，因此，第二容器待機部沿輸送方向移動。因此，輸送機構和第二容器待機部之間的距離保持為恒定。通過將該距離保持為恒定，能夠使輸送機構和第二容器待機部之間的輸送動作恒定，因此，能夠避免輸送動作的復雜化。優選在上述基板處理系統中，所述處理單元具有拾取機構，所述拾取機構從所述送入用容器抬起所述基板，將所述基板配置于所述裝載位置。在這種情況下，處理單元具有從送入用容器抬起基板，將基板配置于裝載位置的拾取機構，因此，能夠迅速地進行基板的裝載動作。優選在上述基板處理系統中，所述輸送單元具有使所述輸送機構的朝向旋轉的旋轉機構。在這種情況下，輸送單元具有使輸送機構的朝向旋轉的旋轉機構，因此，即使在輸送方向和容器的轉移方向不同的情況下，也能夠順本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種涂敷裝置，其中，具有：旋轉機構，其以基板豎立的狀態使所述基板旋轉；涂敷機構，其具有在所述基板旋轉的同時向所述基板的表面及背面分別噴出液狀體的噴嘴。

【技術特征摘要】
2008.08.28 JP 2008-219562;2008.08.28 JP 2008-21951.一種涂敷裝置，其中，具有: 旋轉機構，其以基板豎立的狀態使所述基板旋轉； 涂敷機構，其具有在所述基板旋轉的同時向所述基板的表面及背面分別噴出液狀體的噴嘴。2.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述旋轉機構在將所述基板相對于水平面豎立為70°以上且90°以下的角度的狀態下使所述基板旋轉。3.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴形成為從所述基板的中央部側向所述基板的外周部側噴出所述液狀體。4.根據權利要求3所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴從所述中央部側向所述外周部側折彎而形成。5.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴的前端的噴出面相對于液狀體的噴出方向傾斜而形成。6.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴相對于所述旋轉機構的旋轉軸設置于下側。7.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴在所述基板的表面側和背面側配置于相同位置。8.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 所述涂敷機構具有使所述噴嘴移動的移動機構。9.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 還具備噴嘴管理機構，所述噴嘴管理機構管理所述噴嘴的狀態。10.根據權利要求9所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴管理機構具有清洗部，所述清洗部通過將所述噴嘴的前端浸潰于清洗液中而進行清洗。11.根據權利要求9所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴管理機構具有吸引所述噴嘴的前端的吸引部。12.根據權利要求9所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴管理機構具有接受從所述噴嘴預備性噴出的所述液狀體的液體接受部。13.根據權利要求1所述的涂敷裝置，其中， 還具備杯部，所述杯部以包圍所述基板的側方的方式配置。14.根據權利要求13所述的涂敷裝置，其中， 所述杯部具有收...

【專利技術屬性】
技術研發人員：佐保田勉，島井太，佐藤晶彥，
申請(專利權)人：東京應化工業株式會社，
類型：發明
國別省市：