【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
在基底上沉積含Te硫?qū)僭鼗锵嘧儾牧系姆椒ǎㄒ韵虏襟E:沉積包括具有以下一般結(jié)構(gòu)的含Te組合物的Te前驅(qū)體:R”2Te其中R”選自氫和氘;沉積包括具有以下一般結(jié)構(gòu)的氨基鍺烷的Ge前驅(qū)體:(R1R2N)4Ge其中R1和R2為含有1?10個(gè)碳的直鏈、支鏈或環(huán)狀形式的烷基;和沉積包括具有以下一般結(jié)構(gòu)的氨基銻烷的Sb前驅(qū)體:(R1R2N)3Sb其中R1和R2為含有1?10個(gè)碳的直鏈、支鏈或環(huán)狀形式的烷基。
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:蕭滿超,TR加夫尼,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:氣體產(chǎn)品與化學(xué)公司,
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:
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