本技術(shù)涉及拔絲機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其為一種適配金屬拔絲機(jī)的手搖滑臺夾具，包括拔絲機(jī)體，所述拔絲機(jī)體的上方固定連接有工作臺面，所述工作臺面的頂部固定連接有固定板，所述固定板一側(cè)的上方固定連接有固定頂板，所述固定頂板的兩側(cè)固定連接有滑軌，所述滑軌...

本發(fā)明提供一種桌面式加壓熱處理爐,包括：桌柜底座、電路控制組件、制備組件、施壓組件、電動加壓組件以及測溫組件，所述桌柜底座上端安裝有電路控制組件，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：通過設(shè)置加熱片一、加熱片二，加熱片一、加熱片二之...

本發(fā)明提供一種適用于原位分析的微型CVD爐,包括：法蘭支架一、法蘭支架二、加熱爐組件、光學(xué)顯微鏡、調(diào)節(jié)組件以及電路控制組件，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果如下：通過在加熱爐組件中安裝加熱件一、加熱件二，加熱件一、加熱件二均為是以氮化硅...

本發(fā)明公開了一種提拉法小型晶體生長裝置，采用分體式的第一密封組件和第二密封組件，并將坩堝設(shè)置在第二密封組件上，第二密封組件可在第一直線模組的驅(qū)動下與第一密封組件對接/分離，通過在第一密封組件外側(cè)套設(shè)有加熱爐，當(dāng)?shù)诙芊饨M件與第一密封組件...

本發(fā)明公開了一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，包括爐體和爐門，通過爐體中部的爐腔放置需要熱處理的晶體物料，通過設(shè)置在爐腔周側(cè)的第一加熱爐膽、氧化鋁爐膽、第二加熱爐膽將爐腔內(nèi)的晶體物料高溫?zé)Y(jié)，爐門與爐體之間通過氟膠密封圈密封，避免爐腔內(nèi)的...

本發(fā)明公開了一種自動化高能立式振動球磨混料系統(tǒng)，包括工作臺，所述工作臺上設(shè)有機(jī)械臂、陣列盤、振動球磨機(jī)、加球機(jī)構(gòu)與加蓋機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械臂上設(shè)有夾持爪，陣列盤上放置有研磨罐；所述加球機(jī)構(gòu)包括固定設(shè)置的定位盤、定位盤上方設(shè)置的出球組件及定位盤...

本發(fā)明公開了一種全自動快速交直流脈沖熱壓爐，包括控制柜，控制柜的頂部一側(cè)固定安裝有爐體，控制柜的上方固定安裝有位于爐體上部的臺架，爐體的正面一側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)，轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)上設(shè)置有覆蓋在爐體正面開口處的門板，臺架的頂部設(shè)置有施壓機(jī)構(gòu)，爐體內(nèi)...

本技術(shù)公開了一種小型管式爐除水除氧裝置，包括管式爐除水除氧裝置本體，所述管式爐除水除氧裝置本體的一側(cè)安裝小型晶體生長爐，且管式爐除水除氧裝置本體與小型晶體生長爐之間通過拼裝對接組件進(jìn)行定位安裝，同時管式爐除水除氧裝置本體的內(nèi)部分別安裝循...

本技術(shù)公開了一種物料燒結(jié)裝置，包括燒結(jié)爐，所述燒結(jié)爐的內(nèi)部上側(cè)均勻安裝多組加熱棒，且加熱棒的底部安裝燒結(jié)爐口，同時燒結(jié)爐口的底部安裝坩堝，并且坩堝的內(nèi)部放置燒結(jié)物料，坩堝的底部活動安裝在移動座的表面，且移動座的底部活動安裝在載物爐門上，...

本發(fā)明提供一種促進(jìn)生長鈧酸鏑單晶的方法，包括以下步驟：準(zhǔn)備原材料：將原料混合均勻，裝入坩堝中；設(shè)定生長條件：將裝有原材料的坩堝置于高溫爐中，設(shè)定溫度梯度、壓力和生長速度；上提拉法生長：在生長過程中，通過上提拉裝置將籽晶以恒定速度從熔融原...

本發(fā)明公開了一種高溫氧化腐蝕測試系統(tǒng)，包括加熱爐及加熱爐下方設(shè)置的機(jī)架，所述加熱爐內(nèi)設(shè)有剛玉管，加熱爐一側(cè)設(shè)有伸入剛玉管中的送料機(jī)構(gòu)，加熱爐一側(cè)設(shè)有供氣機(jī)構(gòu)；所述加熱爐一側(cè)設(shè)有與剛玉管相連接的送氣管，送氣管內(nèi)設(shè)有與供氣機(jī)構(gòu)連接的鉑銠輸氣...

本技術(shù)公開了一種離心球磨罐，包括球磨罐罐體，所述球磨罐罐體底部與弧形底座進(jìn)行固定，且球磨罐罐體頂部固定設(shè)置安裝翼板，同時球磨罐罐體整體固接在外固座上，并且球磨罐罐體的上方開口處覆蓋球磨罐上蓋，且球磨罐上蓋的底部焊接固定鎖定塊，安裝翼板的...

本發(fā)明提供一種自動控制電堆燒結(jié)系統(tǒng)，包括：外支撐框架以及電堆部件，所述外支撐框架上端內(nèi)側(cè)設(shè)有一組用于與加壓部件安裝固定的上安裝板，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：通過使用加熱爐一以及加熱爐二來對電堆部件的左右兩端進(jìn)行均勻加熱，...

本發(fā)明提供高溫自動化管式爐,包括：底座、驅(qū)動組件、加熱組件、放置組件以及真空管件，所述底座上端前側(cè)、后側(cè)固定有驅(qū)動組件，所述底座上端中間固定有加熱組件，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：通過設(shè)置底座、驅(qū)動組件以及放置組件，整個裝...

本發(fā)明提供一種風(fēng)干套筒件可以拆裝的自動化壓片機(jī)系統(tǒng),包括：壓片機(jī)系統(tǒng)機(jī)構(gòu)、污染模具收納臺、收納臺定位件以及風(fēng)干套筒件，所述壓片機(jī)系統(tǒng)機(jī)構(gòu)其內(nèi)部組成中的左端中心設(shè)有承載臺，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：通過增加壓片機(jī)系統(tǒng)機(jī)構(gòu)、...

本發(fā)明公開了一種小型帶機(jī)械攪拌輕合金熔煉爐，包括腔體及腔體一側(cè)設(shè)置的密封門，其特征在于，所述腔體上下兩端分別設(shè)有設(shè)備安裝部與模具放置部，腔體內(nèi)設(shè)有熔煉爐；所述設(shè)備安裝部上對應(yīng)熔煉爐設(shè)有提拉攪拌機(jī)構(gòu)，腔體上設(shè)有用于控制熔煉爐轉(zhuǎn)動的翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)...

本發(fā)明公開了一種自動調(diào)節(jié)間距滾輪式制膜器，包括主體框架與涂布模頭，所述主體框架與涂布機(jī)的運(yùn)動軸相連接，所述涂布模頭上設(shè)有用于連接供料裝置的進(jìn)料口；所述主體框架上安裝有多個用于控制涂布模頭升降的直線電機(jī)，所述主體框架前后兩側(cè)均設(shè)有穩(wěn)定桿，...

本發(fā)明公開了一種高潔凈高真空高壓熱處理裝置，包括爐體和爐門，通過爐體中部的爐腔放置需要熱處理的晶體物料，通過設(shè)置在爐腔周側(cè)的第一加熱爐膽、氧化鋁爐膽、第二加熱爐膽將爐腔內(nèi)的晶體物料高溫?zé)Y(jié)，爐門與爐體之間通過氟膠密封圈密封，避免爐腔內(nèi)的...

本發(fā)明公開了一種提拉法小型晶體生長裝置，采用分體式的第一密封組件和第二密封組件，并將坩堝設(shè)置在第二密封組件上，第二密封組件可在第一直線模組的驅(qū)動下與第一密封組件對接/分離，通過在第一密封組件外側(cè)套設(shè)有加熱爐，當(dāng)?shù)诙芊饨M件與第一密封組件...

本發(fā)明提供一種適用于原位分析的微型CVD爐,包括：法蘭支架一、法蘭支架二、加熱爐組件、光學(xué)顯微鏡、調(diào)節(jié)組件以及電路控制組件，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：通過在加熱爐組件中安裝加熱件一、加熱件二，加熱件一、加熱件二均為是以氮...